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公开(公告)号：CN108132197A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201711434565.0
申请日：2017-12-26
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
Abstract: 本发明涉及一种透明材料冲击温度的不确定度分析与计算方法。该方法根据激光加载透明材料冲击温度实验的特点，按照《中华人民共和国国家军用标准》GJB3756A-2015的规定，全面考虑了各种物理因素或实验环境因素对冲击温度计算精度的影响。该方法以单通道光辐射诊断透明材料冲击温度的实验为例，对实验中所涉及的物理量的不确定度进行了全面分析与计算，并根据这套不确定度分析计算方法给出了透明材料冲击温度的不确定度计算结果实例。该方法所得的不确定分析计算结果与国外同类实验给出的不确定度结果一致，能够有效给出合理的激光加载下透明材料雨贡钮冲击温度的不确定度结果。
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公开(公告)号：CN113075721B
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202110324787.7
申请日：2021-03-26
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G01T1/36
Abstract: 本发明公开了一种大量程便携式多功能电子磁谱仪，所述磁谱仪包括磁体装置和电子记录装置，所述磁体装置产生的磁场区域具有大于5的长宽比，所述磁谱仪测量的电子束以平行于所述磁场区域长度方向的射入方向进入所述磁场区域，使得所述电子束以角度小于180°的弧形轨迹撞击在所述电子记录装置上。本发明的待测电子进入均匀间隙磁场时采取低于半圆运动轨迹被两侧探测器接收的方式，其可显著缩小均匀磁场横向尺寸，大幅提高测谱范围和降低整体横向尺寸，降低整体重量。
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公开(公告)号：CN108614389B
公开(公告)日：2019-10-22
申请号：CN201810486547.5
申请日：2018-05-16
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G03B42/02
Abstract: 本发明公开了一种等离子体自发光软X射线准单色成像装置，该装置包括多层膜球面镜、球面镜调整架、多层膜平面镜、平面镜调整架、接收部件和接收部件调整架，多层膜球面镜安装在球面镜调整架上，多层膜平面镜安装在平面镜调整架上，接收部件安装在接收部件调整架上，接收部件包括滤片压环、滤片、IP板和底片盒，IP板嵌设在底片盒中，滤片安装在IP板的左侧，在滤片的上端部和下端部均设有用于固定滤片的滤片压环，球面镜调整架、平面镜调整架、接收部件调整架均为三维调节架，多层膜球面镜、多层膜平面镜、接收部件的中心点所在的中轴线与激光束入射线相重合。本发明消除硬X射线和可见光对成像的干扰，实现对待测等离子体的软X射线准单能成像。
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公开(公告)号：CN108195473B
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201711434626.3
申请日：2017-12-26
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
Abstract: 本发明公开了一种用于冲击波实验的多通道冲击温度诊断方法，该方法包括以下步骤：步骤1，搭建冲击波实验诊断光路；步骤2，在高功率激光装置上开展冲击波状态方程实验：步骤3，对所述步骤2中的冲击波状态方程实验中的SOP系统进行标定：步骤4，计算待测靶自发辐射强度：步骤5，多通道拟合冲击温度。本发明基于普朗克灰体辐射理论以及光学高温计系统的测温诊断手段，以激光加载下透明材料冲击温度测量实验为例，在不使用光谱仪和不消耗多通道光纤的条件下实现利用多通道测量材料的冲击温度，并给出多通道拟合得到的冲击温度与发射率。该方法相比较单通道测量冲击温度的方法更为可靠，相比较利用其他多通道测量冲击温度的方法更为简便、高效。
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公开(公告)号：CN108614389A
公开(公告)日：2018-10-02
申请号：CN201810486547.5
申请日：2018-05-16
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G03B42/02
Abstract: 本发明公开了一种等离子体自发光软X射线准单色成像装置，该装置包括多层膜球面镜、球面镜调整架、多层膜平面镜、平面镜调整架、接收部件和接收部件调整架，多层膜球面镜安装在球面镜调整架上，多层膜平面镜安装在平面镜调整架上，接收部件安装在接收部件调整架上，接收部件包括滤片压环、滤片、IP板和底片盒，IP板嵌设在底片盒中，滤片安装在IP板的左侧，在滤片的上端部和下端部均设有用于固定滤片的滤片压环，球面镜调整架、平面镜调整架、接收部件调整架均为三维调节架，多层膜球面镜、多层膜平面镜、接收部件的中心点所在的中轴线与激光束入射线相重合。本发明消除硬X射线和可见光对成像的干扰，实现对待测等离子体的软X射线准单能成像。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105807551B
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201610245864.9
申请日：2016-04-20
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G03B42/02
Abstract: 本发明涉及一种用于强激光条件下的X射线针孔相机，该针孔相机包括针孔板、针孔座外壳、前通光筒、掠入射镜室、后通光筒，底片室、底片盒、滤片框、滤片、底片、二维调节激光座、半导体激光器和二维调节架，在所述底片室的外侧固定设置二维调节激光座，在二维调节激光座上与底片室相对应的一侧安装半导体激光器，在二维调节激光座和底片室的光轴位置均开有供调节激光通过的通孔；本发明有效消除强激光条件下超强g射线的影响，使X射线针孔相机完好应用于强激光条件下高温稠密等离子体成像，本发明通过激光辅助瞄准方法可进行本发明X射线针孔相机的快速、稳定地安装和调节。
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公开(公告)号：CN109324469B
公开(公告)日：2020-07-10
申请号：CN201811115715.6
申请日：2018-09-25
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G03B42/02
Abstract: 本发明公开了一种准单能X射线针孔相机，其工作波长为3keV‑10keV。该针孔相机包括针孔板、针孔座外壳、前通光筒、前通光筒调节机构、掠入射镜室、后通光筒，底片室、接收组件、二维调节激光座、半导体激光器和二维调节架，底片室的外侧固定设置二维调节激光座，二维调节激光座上与底片室相对应的一侧安装半导体激光器，二维调节激光座和底片室的光轴位置均开有供调节激光通过的通孔；掠入射镜室包括镜室外壳、挡光铅板、多层膜掠入射镜和三维调节掠入射镜架，针孔座外壳、前通光筒、镜室外壳、后通光筒和底片室依次机械螺纹连接，镜室外壳的下部固定在二维调节架上。本发明保证多层膜掠入射镜入射角度的调节精度，通过激光辅助调节，简化安装调节步骤。
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公开(公告)号：CN109596221B
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201811487252.6
申请日：2018-12-06
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G01J5/00
Abstract: 本发明公开了一种冲击温度诊断系统的标定与验证方法，该方法包括以下步骤：步骤1，标定光路的建立，步骤2，利用所述步骤1中的SOP测温诊断系统分别诊断标准光源作为已知标准光源A及待测标准光源B的自发辐射发光，步骤3，利用所述步骤2中分别得到的两种光源的自发辐射强度计数CA、CB，对应求得其辐射强度LA、LB，步骤4，计算待测标准光源的温度，步骤5，两种色温标准光源互相标定验证SOP系统可靠性。本发明基于普朗克黑体辐射理论，以光学高温计测温法为诊断手段，利用两种不同色温的高温标准光源对冲击温度诊断系统进行互相标定。通过诊断系统获得温度数据，对比验证了冲击温度诊断系统的可靠性和置信度，并给出了系统可靠性的评价方法。
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公开(公告)号：CN108195473A
公开(公告)日：2018-06-22
申请号：CN201711434626.3
申请日：2017-12-26
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
CPC classification number: G01J5/52 , G01J5/0828 , G01J5/505 , G01J5/54
Abstract: 本发明公开了一种用于冲击波实验的多通道冲击温度诊断方法，该方法包括以下步骤：步骤1，搭建冲击波实验诊断光路；步骤2，在高功率激光装置上开展冲击波状态方程实验：步骤3，对所述步骤2中的冲击波状态方程实验中的SOP系统进行标定：步骤4，计算待测靶自发辐射强度：步骤5，多通道拟合冲击温度。本发明基于普朗克灰体辐射理论以及光学高温计系统的测温诊断手段，以激光加载下透明材料冲击温度测量实验为例，在不使用光谱仪和不消耗多通道光纤的条件下实现利用多通道测量材料的冲击温度，并给出多通道拟合得到的冲击温度与发射率。该方法相比较单通道测量冲击温度的方法更为可靠，相比较利用其他多通道测量冲击温度的方法更为简便、高效。
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公开(公告)号：CN105510367A
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201510865469.6
申请日：2015-12-02
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G01N23/22
CPC classification number: G01N23/22 , G01N2223/073 , G01N2223/303
Abstract: 本发明涉及一种X射线成像的针孔相机及激光辅助瞄准方法，该针孔相机包括针孔相机本体、调节用针孔板、二维调节激光座(7)、半导体激光器(8)和二维调节架(9)，半导体激光器(8)布置在二维调节激光座(7)中，用作调整基准激光光源；二维调节架(9)布置在针孔相机本体下方，用于调节针孔相机整体姿态；激光辅助瞄准方法是利用固定在针孔相机本体上的激光束作为辅助，利用二维调节架(9)对针孔相机本体进行快速有效的安装调试，提高效率和稳定性，简化调节步骤并节省调整时间。
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