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公开(公告)号：CN113046715B
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202110273214.6
申请日：2021-03-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明适用于光学元件镀膜技术领域，提供了一种光学元件全口径镀膜装置及其方法，该镀膜装置包括夹持工装主体、夹持组件、侧面板、至少一个顶紧组件；所述夹持工装主体包括基板、至少两个限位块，所述基板上设置有容纳孔，所述限位块对称设置在所述容纳孔的四周；所述夹持组件滑动设置在所述限位块内；所述侧面板设置在所述限位块的两侧，与所述限位块固定连接；所述顶紧组件贯穿所述限位块，与所述夹持组件的端面抵接。本发明提供的镀膜装置设置了侧面板，夹持组件采用聚四氟乙烯材料，结构强度高，夹持应力小，不会对光学元件造成损伤，并且方便快捷、不易松动、掉落，可适用于需要全口径镀膜的中小尺寸的光学元件。
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公开(公告)号：CN111235527B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202010164265.0
申请日：2020-03-10
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 一种制作光学薄膜的方法、膜系结构、镀膜方法、激光反射镜，属于光学设备领域。该方法包括：在基板之上，制作满足光谱指标的第一膜堆；在第一膜堆之上，制作满足面形指标的第二膜堆；在所述第二膜堆之上，制作满足损伤指标的第三膜堆。通过上述方法获得光学薄膜可以实现高综合指标的激光反射膜的高合格率制备。
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公开(公告)号：CN106289727B
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201610599309.6
申请日：2016-07-27
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明提供一种元件激光损伤测量方法及装置。测量时，对每一个预设测试点采用基本相同的能量和能量密度的激光脉冲进行逐次多发次辐照，并实时监测测试点的光学图像以判断该测试点是否产生功能性损伤，同时在线获取每一次辐照时的激光能量密度值；然后根据测试点的功能性损伤判定结果及在线激光能量密度值计算生成元件的功能性损伤测量曲线。这种元件激光损伤测量方法的测量结果准确度高、收敛速度快，多次测量所得测量曲线之间的偏差较小，还能有效降低不同测量人员之间及测量次序等人为因素对最终测量结果的影响。
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公开(公告)号：CN111349885B
公开(公告)日：2022-06-28
申请号：CN202010221589.3
申请日：2020-03-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供一种遮蔽板确定方法、镀膜方法和装置，应用于对反向行星式旋转镀膜工艺中遮蔽板的形状进行确定，所述方法包括：获取待镀膜元件上多个待镀膜点的初始膜厚，以及获取待镀膜元件的尺寸和镀膜设备的尺寸；根据所述待镀膜元件的尺寸和所述镀膜设备的尺寸确定出遮蔽板的多个待设定区域，以及每一待设定区域对应的多个待镀膜点；根据每一待设定区域对应的多个待镀膜点的初始膜厚，计算得到待镀膜点对应遮蔽板的展开角；根据所有的待镀膜点对应的展开角，确定目标遮蔽板。针对多个区域对应的待镀膜点分别确定出符合该区域镀膜点遮蔽要求的遮蔽板的展开角，从而得到针对该非圆形待镀膜元件设计的目标遮蔽板，保证膜厚控制的效果良好。
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公开(公告)号：CN107132604B
公开(公告)日：2020-01-14
申请号：CN201710498955.8
申请日：2017-06-26
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B5/28
Abstract: 本发明提供了一种渐变折射率薄膜制备参数获取方法、制备方法及滤光片，属于薄膜制备工艺技术领域。所述制备参数获取方法包括：获取待制备的渐变折射率薄膜的制备数据，其中，所述制备数据包括所述渐变折射率薄膜的每个膜层的折射率和膜层厚度；获取基准对应关系，所述基准对应关系为混合膜层的折射率与膜层浓度之间的关系；根据所述基准对应关系以及所述制备数据，得到所述渐变折射率薄膜的制备参数。通过本方法有利于较准确地得到待制备的渐变折射率薄膜的制备参数，从而制备出性能更符合需求的渐变折射率薄膜以及滤光片。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107132604A
公开(公告)日：2017-09-05
申请号：CN201710498955.8
申请日：2017-06-26
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B5/28
Abstract: 本发明提供了一种渐变折射率薄膜制备参数获取方法、制备方法及滤光片，属于薄膜制备工艺技术领域。所述制备参数获取方法包括：获取待制备的渐变折射率薄膜的制备数据，其中，所述制备数据包括所述渐变折射率薄膜的每个膜层的折射率和膜层厚度；获取基准对应关系，所述基准对应关系为混合膜层的折射率与膜层浓度之间的关系；根据所述基准对应关系以及所述制备数据，得到所述渐变折射率薄膜的制备参数。通过本方法有利于较准确地得到待制备的渐变折射率薄膜的制备参数，从而制备出性能更符合需求的渐变折射率薄膜以及滤光片。
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公开(公告)号：CN114657529A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202210309500.8
申请日：2022-03-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种自由曲面镀膜装夹装备，涉及真空镀膜试镀设备技术领域，包括位于上方可以转动的安装架，所述安装架上方设置有驱动安装架转动的驱动机构，所述安装架下方按阵列均布有间距可调整的工装单元，每个工装单元均包括高度可以调节的支撑和设置在支撑末端用于安装试镀元件离散单元的安装机构，所述安装机构上设置有能够调整试镀元件离散单元面向镀膜蒸发源角度且无阴影效应的角度调节机构。本发明能够模拟各种复杂曲面；另外多个试镀元件离散单元通过安阵列布置的工装单元能够模拟大口径复杂曲面的形状，且工装单元上在调节角度过程中，没有遮挡试镀元件离散单元的结构，避免了蒸发料受遮挡造成“阴影效应”。
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公开(公告)号：CN111041413B
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN201911268270.X
申请日：2019-12-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种提高大口径反射镜镀膜面形精度的方法，采用了镀膜过程基片面形和高低折射率膜层的综合控制方法：镀膜前针对基片在镀膜过程的形变，采用基片预先翻面退火的方法控制抵消镀膜过程中的基片面形受热引起的变化；采用调节充氧量结合离子辅助沉积的方法控制反射镜中膜层的残余应力，使各膜层的残余应力基本接近零应力。本发明公开了一种提高大口径反射镜镀膜面形精度的方法，该方法具有面形精度高，简单易行，使用范围广，适用不同膜层以及基底组合的反射镜面形控制。
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公开(公告)号：CN113046715A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN202110273214.6
申请日：2021-03-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明适用于光学元件镀膜技术领域，提供了一种光学元件全口径镀膜装置及其方法，该镀膜装置包括夹持工装主体、夹持组件、侧面板、至少一个顶紧组件；所述夹持工装主体包括基板、至少两个限位块，所述基板上设置有容纳孔，所述限位块对称设置在所述容纳孔的四周；所述夹持组件滑动设置在所述限位块内；所述侧面板设置在所述限位块的两侧，与所述限位块固定连接；所述顶紧组件贯穿所述限位块，与所述夹持组件的端面抵接。本发明提供的镀膜装置设置了侧面板，夹持组件采用聚四氟乙烯材料，结构强度高，夹持应力小，不会对光学元件造成损伤，并且方便快捷、不易松动、掉落，可适用于需要全口径镀膜的中小尺寸的光学元件。
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公开(公告)号：CN111349885A
公开(公告)日：2020-06-30
申请号：CN202010221589.3
申请日：2020-03-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供一种遮蔽板确定方法、镀膜方法和装置，应用于对反向行星式旋转镀膜工艺中遮蔽板的形状进行确定，所述方法包括：获取待镀膜元件上多个待镀膜点的初始膜厚，以及获取待镀膜元件的尺寸和镀膜设备的尺寸；根据所述待镀膜元件的尺寸和所述镀膜设备的尺寸确定出遮蔽板的多个待设定区域，以及每一待设定区域对应的多个待镀膜点；根据每一待设定区域对应的多个待镀膜点的初始膜厚，计算得到待镀膜点对应遮蔽板的展开角；根据所有的待镀膜点对应的展开角，确定目标遮蔽板。针对多个区域对应的待镀膜点分别确定出符合该区域镀膜点遮蔽要求的遮蔽板的展开角，从而得到针对该非圆形待镀膜元件设计的目标遮蔽板，保证膜厚控制的效果良好。
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