-
公开(公告)号：CN109128511B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN201811060748.5
申请日：2018-09-12
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/352 , B23K26/03 , B23K26/064 , B23K26/70
Abstract: 本申请提供一种激光抛光系统及方法。所述系统包括控制单元、激光发射器、光束整形组件、移动平台及激光干涉仪。待抛光物件固定在移动平台上并由移动平台带动；光束整形组件设置在激光发射器的激光光路上，用于对激光进行光束整形，并将整形后的激光投射到待抛光物件的待抛光表面上进行抛光；控制单元与激光干涉仪电性连接，用于控制激光干涉以对待抛光表面进行抛光面形检测得到对应的面形检测数据；控制单元还分别与激光发射器、光束整形组件及移动平台及电性连接，用于根据面形检测数据对激光发射器、光束整形组件及移动平台进行控制，使待抛光物件达到目标抛光效果。所述系统可对待抛光物件进行高精度抛光处理，提高物件抛光成品率。
-
公开(公告)号：CN108972230B
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN201811049182.6
申请日：2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明实施例提供一种光学元件加工装置及加工方法，该装置包括加工真空腔室以及多个团簇离子束产生装置，加工真空腔室内设置有用于放置待加工光学元件的运动台，各团簇离子束产生装置设置在加工真空腔室顶部，并连接在加工真空腔室的开口处。各团簇离子束产生装置用于对不同种类的源气进行处理以得到不同的团簇离子束，并将产生的团簇离子束输送至加工真空腔室，并作用于光学元件的表面以对光学元件进行面形修整加工。如此，在光学元件进样、抽真空及位置坐标确定的情况下，可实现不同团簇离子束加工模式的集成加工，保障光学元件在无衍生缺陷的高精度面形修整加工的前提下，提高光学元件的加工效率。
-
公开(公告)号：CN109079313A
公开(公告)日：2018-12-25
申请号：CN201811045140.5
申请日：2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/00 , B23K26/352 , B23K26/70
Abstract: 本发明涉及激光抛光技术领域，具体涉及一种激光抛光设备及方法，设备包括：第一激光器，用于发出第一激光光束并通过扫描器投射至放置于加工平移台的待加工工件以形成加工区域；高温计，用于采集加工区域的温度数据；第二激光器，用于发出第二激光光束至探测焦点；探测器，用于探测探测焦点处在第二激光光束作用下产生的光信号；光谱仪，用于根据光信号获得光谱信息，控制装置用于根据光谱信息以及温度数据控制加工平移台的移动速度和扫描器在扫描方向的扫描速度。通过上述设置，以实现根据温度数据和光谱信号对扫描速度和平台的移动速度进行反馈控制，避免通过改变激光功率对激光光斑大小造成影响，进而造成加工稳定性差的问题。
-
公开(公告)号：CN108890449A
公开(公告)日：2018-11-27
申请号：CN201811048863.0
申请日：2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明实施例提供一种光学元件面形修正方法及装置，该装置包括多个团簇离子束产生装置，各所述团簇离子束产生装置的输入口与提供不同源气的源气供给单元连接。通过利用集成了多个团簇离子束产生装置的加工装置，在待加工光学元件的不同的面形精度的情况下，选择适宜的团簇离子束产生装置以产生对应的团簇离子束，并以不同的加工模式对待加工光学元件进行加工，在提高待加工光学元件面形精度的同时降低加工区域的表面粗糙度。
-
公开(公告)号：CN108838548A
公开(公告)日：2018-11-20
申请号：CN201811043552.5
申请日：2018-09-07
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/36 , B23K26/067 , B23K26/402 , C03B25/00
Abstract: 本申请实施例提供一种激光抛光装置及抛光方法，涉及抛光技术领域。其中，所述装置通过分束器将激光器发出的初始光束分为第一光束、第二光束和第三光束，然后通过扫描器接收所述第一光束、第二光束和第三光束，并将所述第一光束、第二光束和第三光束投射到待加工元件，在待加工元件上形成第一光束对应的预热光斑、第二光束对应的抛光光斑以及第三光束对应的退火光斑，实现了在抛光处理的同时对待加工元件进行预热和退火，避免了在对玻璃等脆性材料进行抛光的过程中由于温度梯度较大产生热应力导致加工元件产生裂纹。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107806933A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：CN201711295075.7
申请日：2017-12-08
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01J11/00
CPC classification number: G01J11/00
Abstract: 本发明提供一种基于双束时间分辨泵浦探测技术的激光诱导光学材料体内冲击波波速的测量方法。光学材料激光诱导冲击波波速的测量方法，该方法包括以下步骤：1)双束探测成像系统获取泵浦激光脉冲激发待测样品内部冲击波某一时刻的相同位置、设定时间间隔的两幅图像；2)基于图像处理算法，比较两幅图像中冲击波波峰包络位置变化量，计算获取某一时刻的冲击波波速。本发明建立双束探测成像系统，一路泵浦激光脉冲作用于光学材料并激发诱导冲击波现象，双路探测激光脉冲以一定的时间间隔辐照至激发区域，携带冲击波位置信息的双路探测光分别由探测捕获，通过改变泵浦激光脉冲与探测激光脉冲之间的延时量，可精确测得任意时刻的激光诱导冲击波波速。
-
公开(公告)号：CN117470814B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202310829284.4
申请日：2023-07-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本申请提供一种光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法，涉及光学加工技术领域。该光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法包括：对光学晶体的表层进行全局缺陷扫描，以获取全局缺陷分布图；根据全局缺陷分布图确定关注缺陷的位置；对关注缺陷进行单点荧光检测，以获取荧光缺陷特征图，荧光缺陷特征图包含关注缺陷的荧光缺陷特征；对光学晶体上对应关注缺陷的位置处进行损伤性能测试，以获取损伤性能测试数据；对荧光缺陷特征和损伤性能测试数据进行关联计算，得到荧光缺陷特征与损伤性能之间的关联关系。该光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法能够全面表征元件表层缺陷特性，并反映出表层缺陷对光学晶体损伤性能的影响以及影响的权重比例。
-
公开(公告)号：CN108911532B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201811152167.4
申请日：2018-09-29
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C03C23/00
Abstract: 本申请提供一种工件表面损伤修复方法及系统，涉及光学元件加工技术领域。所述方法包括：将激光聚焦到待修复工件表面；将聚焦激光的光斑在待修复工件表面移动以扫描整个待修复工件表面，以使激光能量作用于待修复工件表面使待修复工件表面产生热效应，以熔合待修复工件表面的微裂纹损伤层，生成微裂纹熔合层；向待修复工件表面输出等离子体射流；控制等离子体射流在待修复工件表面运动，以去微裂纹熔合层。本申请利用微裂纹的熔合来改善所述待修复工件表面的裂纹深度、分布等初始状态，再利用等离子体射流对熔合改善后的微裂纹熔合层进行快速去除，提高了工件的寿命，也提高了工件的可靠性和使用性能。
-
公开(公告)号：CN109128510B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN201811053084.X
申请日：2018-09-10
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/352 , B23K26/402 , G02B1/118
Abstract: 本发明提供的光学元件制备方法和太赫兹波段光学元件，涉及光学元件加工技术领域。其中，光学元件制备方法包括：提供一石英晶体，作为所述太赫兹波段光学元件的本体结构；通过激光器输出一二氧化碳激光，并通过光学组件对该二氧化碳激光进行调节处理；通过扫描振镜控制经过调节处理后的二氧化碳激光按照预设的扫描路径作用于所述石英晶体的待处理面，以在该待处理面上沿所述扫描路径依次制作形成多个凹坑结构，以得到包括本体结构和凹坑结构的太赫兹波段光学元件。通过上述方法，可以有效地在石英晶体上制作凹坑结构，以降低石英晶体表面的反射率、提高制备的太赫兹波段光学元件的透射率。
-
公开(公告)号：CN107132604B
公开(公告)日：2020-01-14
申请号：CN201710498955.8
申请日：2017-06-26
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B5/28
Abstract: 本发明提供了一种渐变折射率薄膜制备参数获取方法、制备方法及滤光片，属于薄膜制备工艺技术领域。所述制备参数获取方法包括：获取待制备的渐变折射率薄膜的制备数据，其中，所述制备数据包括所述渐变折射率薄膜的每个膜层的折射率和膜层厚度；获取基准对应关系，所述基准对应关系为混合膜层的折射率与膜层浓度之间的关系；根据所述基准对应关系以及所述制备数据，得到所述渐变折射率薄膜的制备参数。通过本方法有利于较准确地得到待制备的渐变折射率薄膜的制备参数，从而制备出性能更符合需求的渐变折射率薄膜以及滤光片。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
40
records
(took 0.046 seconds)
