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公开(公告)号：CN107817653A
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：CN201711316114.7
申请日：2017-12-12
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于柔性材料的超分辨光刻装置，包括光源系统、掩模吸附板、掩模、柔性基片、承片台、密封球耳、弹性薄膜、弹性薄膜压板、升降台、精密气压控制系统。光源系统位于掩模的上方，掩模吸附板上开有环形槽，通过抽取真空，掩模吸附在掩模吸附板上，柔性基片位于掩模下方，柔性基片置于承片台表面，承片台表面开有环形气槽，柔性基片被真空吸附在承片台上，密封球耳安装在承片台上，承片台开有台阶孔，弹性薄膜通过弹性薄膜压板固定在台阶孔内，弹性薄膜与承片台形成密闭空间，台阶孔侧壁开有气孔与精密气压控制系统相连，承片台下表面与升降台相连，可以调节基片与掩模之间距离。解决了基片与掩模之间憋气问题对超分辨光刻的影响。
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公开(公告)号：CN108089409B
公开(公告)日：2019-10-08
申请号：CN201711346477.5
申请日：2017-12-15
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种大面积超分辨光刻装置，属于超分辨光刻设备的技术领域。该装置包括隔振地基、主动隔振平台、主基板、紫外曝光光源、间隙检测系统、对准模块、超分辨光刻镜头模块、工件台模块、激光干涉测量系统、超精密环控系统和控制系统。该设备通过干涉技术，实现了纳米量级精度的在线间隙检测；通过精密调平和间隙控制技术，实现了几十纳米量级间隙光刻功能；通过承片台局部气控技术，实现了大面积超分辨步进光刻功能。
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公开(公告)号：CN107817653B
公开(公告)日：2019-10-08
申请号：CN201711316114.7
申请日：2017-12-12
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于柔性材料的超分辨光刻装置，包括光源系统、掩模吸附板、掩模、柔性基片、承片台、密封球耳、弹性薄膜、弹性薄膜压板、升降台、精密气压控制系统。光源系统位于掩模的上方，掩模吸附板上开有环形槽，通过抽取真空，掩模吸附在掩模吸附板上，柔性基片位于掩模下方，柔性基片置于承片台表面，承片台表面开有环形气槽，柔性基片被真空吸附在承片台上，密封球耳安装在承片台上，承片台开有台阶孔，弹性薄膜通过弹性薄膜压板固定在台阶孔内，弹性薄膜与承片台形成密闭空间，台阶孔侧壁开有气孔与精密气压控制系统相连，承片台下表面与升降台相连，可以调节基片与掩模之间距离。解决了基片与掩模之间憋气问题对超分辨光刻的影响。
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公开(公告)号：CN108089409A
公开(公告)日：2018-05-29
申请号：CN201711346477.5
申请日：2017-12-15
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种大面积超分辨光刻装置，属于超分辨光刻设备的技术领域。该装置包括隔振地基、主动隔振平台、主基板、紫外曝光光源、间隙检测系统、对准模块、超分辨光刻镜头模块、工件台模块、激光干涉测量系统、超精密环控系统和控制系统。该设备通过干涉技术，实现了纳米量级精度的在线间隙检测；通过精密调平和间隙控制技术，实现了几十纳米量级间隙光刻功能；通过承片台局部气控技术，实现了大面积超分辨步进光刻功能。
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