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公开(公告)号：CN112442725B
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202011367346.7
申请日：2020-11-27
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
IPC: C25D19/00 , C25D17/00 , C25D7/00 , C25D5/34 , C25D5/48 , C23G3/00 , C23G1/36 , C25D17/06 , C25D3/38 , C25D21/06 , C23C22/76 , C23C22/86
Abstract: 公开一种电化学沉积设备组和电化学沉积方法，电化学沉积设备组包括：电化学沉积装置，被配置为在基板的待镀膜区域形成电化学沉积膜层；抗氧化处理装置，位于所述电化学沉积装置的一侧，被配置为对形成有电化学沉积膜层的所述基板进行抗氧化处理；传输装置，被配置为装载所述基板，并至少带动所述基板从所述电化学沉积装置移动至所述抗氧化处理装置。
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公开(公告)号：CN116352251A
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202310215083.5
申请日：2023-02-28
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明实施例公开一种激光加工方法及系统、计算机设备及介质。该方法包括：获取第一相机对应的第一校准标记和第二相机对应的第二校准标记在统一坐标系中位置；获取激光加工幅面初始修正值；使第二基板与第二相机同步平移以使第二基板上的第二对位标记位于第一相机视场中的预设位置，记录第二基板的定位位置，并根据第二对位标记的位置及第一和第二校准标记位置计算得到第一基板上的第一对位标记的理论位置；使第一对位标记位于第二相机的视场中，通过使第一基板旋转和/或平移使第一对位标记由初始位置接近理论位置，以使第一基板位于定位位置；使第二基板位于定位位置；根据第一对位标记的初始与理论位置的偏差值调整初始修正值，进行激光加工。
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公开(公告)号：CN114622265A
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202011465239.8
申请日：2020-12-14
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
IPC: C25D21/12
Abstract: 本发明公开了一种电化学沉积预分析方法、装置、设备以及介质。该方法包括：在Miniled基板镀铜过程中实时采集过程参数的生产数据；根据各过程参数的生产数据绘制该过程参数的控制图，控制图以生产数据的采集时间为第一数轴、以数值为第二数轴、以各生产数据为数据点进行绘制；利用预设置的与各过程参数对应的检测阈值分析对应的控制图并输出该过程参数的预判结果；分别判断各过程参数的预判结果，若各预判结果中的至少一个为异常结果则发出警报。本发明提供的方法对处于稳态的生产过程进行预分析，利用统计学原理及时发现电化学沉积设备的运行异常趋势，通过及时调整各项参数以保证设备稳定运行，从而提高产品良率，降低了资源浪费和成本。
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公开(公告)号：CN113798247A
公开(公告)日：2021-12-17
申请号：CN202111143683.2
申请日：2021-09-28
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请实施例提供了一种镀后清洗风干机构、系统、方法及电化学沉积设备。该镀后清洗风干机构包括：清洗组件，连接在所述清洗槽内壁上且用于喷出清洗液以对所述镀后基板进行清洗；角度调节装置，与所述清洗组件连接且被配置为驱动所述清洗组件喷出清洗液的出液角度；风干组件，连接在所述清洗槽内壁上且用于出风以对清洗后的所述镀后基板进行吹干；风干动力装置，与所述风干组件连接且被配置为驱动所述风干组件相对于所述清洗槽沿水平方向移动。本实施例通对清洗组件的出液角度进行调节，从而对镀后基板的容易集聚电镀残液的位置进行充分清洗，从而防止电镀残液在吹干过程中被吹溅到基板的其他位置而对基板造成腐蚀，以提升基板的品质。
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公开(公告)号：CN116043309A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202111260062.2
申请日：2021-10-28
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本公开实施例提供一种基板上下料装置和电化学沉积设备，所述基板上下料装置用于在基板载具上装卸基板，所述装置包括：支撑架，用于支撑基板载具的承载板；推动结构，设置在支撑架上，推动结构包括多个推动单元，多个推动单元中的每个用于固定基板载具的盖板，并沿基板载具的厚度方向移动盖板，使盖板与承载板接触或分离，多个推动单元对盖板的推动互不影响。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113882004B
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202111265856.8
申请日：2021-10-28
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请实施例提供了一种基板载具和电化学沉积设备。该基板载具，包括：承载板，至少一侧用于承载基板，且至少一侧具有导电结构；盖板，包括盖板本体和弹性连接电极；盖板本体与承载板可拆卸连接；弹性连接电极与盖板本体连接，弹性连接电极用于将基板限制于承载板的一侧，并连接基板的导电种子层和承载板的导电结构。本申请实施例提供的基板载具实现了盖板与承载板对基板的柔性夹持，有利于为施加于基板的夹持力提供一定的自适应调节空间，相对于刚性夹持而言，柔性夹持既能为基板提供充足的夹持力，实现对基板的稳定、有效夹持，又能避免夹持力过大而损坏基板。
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公开(公告)号：CN112442725A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202011367346.7
申请日：2020-11-27
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
IPC: C25D19/00 , C25D17/00 , C25D7/00 , C25D5/34 , C25D5/48 , C23G3/00 , C23G1/36 , C25D17/06 , C25D3/38 , C25D21/06 , C23C22/76 , C23C22/86
Abstract: 公开一种电化学沉积设备组和电化学沉积方法，电化学沉积设备组包括：电化学沉积装置，被配置为在基板的待镀膜区域形成电化学沉积膜层；抗氧化处理装置，位于所述电化学沉积装置的一侧，被配置为对形成有电化学沉积膜层的所述基板进行抗氧化处理；传输装置，被配置为装载所述基板，并至少带动所述基板从所述电化学沉积装置移动至所述抗氧化处理装置。
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公开(公告)号：CN111415899A
公开(公告)日：2020-07-14
申请号：CN202010238746.1
申请日：2020-03-30
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01L33/48 , H01L27/15
Abstract: 本发明提供一种转移基板及制备方法、转移装置、转移方法，属于显示技术领域，其可解决现有的转移基板与待转移的芯片之间粘附力较低、工艺稳定性差的问题。本发明的转移基板，包括：基底、以及位于基底上的多个拾取单元；拾取单元与待转移的芯片一一对应；每个拾取单元包括多个纳米微结构。
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公开(公告)号：CN116043309B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202111260062.2
申请日：2021-10-28
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本公开实施例提供一种基板上下料装置和电化学沉积设备，所述基板上下料装置用于在基板载具上装卸基板，所述装置包括：支撑架，用于支撑基板载具的承载板；推动结构，设置在支撑架上，推动结构包括多个推动单元，多个推动单元中的每个用于固定基板载具的盖板，并沿基板载具的厚度方向移动盖板，使盖板与承载板接触或分离，多个推动单元对盖板的推动互不影响。
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公开(公告)号：CN117107335A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202210527706.8
申请日：2022-05-16
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本公开提供一种用于电化学沉积设备中的电极结构，包括导电部，所述导电部包括：第一电极；第二电极，环绕所述第一电极设置，且与所述第一电极相互绝缘；其中，所述第一电极和所述第二电极被配置为连接不同的电源端，且所述第二电极上的电流密度小于所述第一电极上的电流密度。本公开还提供一种电化学沉积设备。
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