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公开(公告)号：CN109414849B
公开(公告)日：2022-05-10
申请号：CN201780041541.0
申请日：2017-06-16
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: B29C33/72 , B08B7/00 , B29C59/02 , H01L21/027
Abstract: 本发明目的在于提供能够在短时间内执行由石英玻璃构成的模板的表面的清洗处理的光清洗处理装置。本发明的光清洗处理装置是通过紫外线对纳米压印中所使用的由石英玻璃构成的模板的表面进行清洗处理的光清洗处理装置，其特征在于，具备：处理室形成件，配置作为处理对象的模板，并形成被供给处理用气体的处理室；壳体，具有窗部件，该窗部件隔着间隙而与配置于上述处理室的上述模板相向设置并使紫外线透过；紫外线光源，配置于上述壳体内，经由上述窗部件而向上述模板照射紫外线；及加热单元，对上述模板进行加热。
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公开(公告)号：CN105074882B
公开(公告)日：2018-04-06
申请号：CN201480018747.8
申请日：2014-03-12
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: H01L21/304 , B08B7/00 , H01L21/027
Abstract: 本发明的目的在于提供一种光照射装置，能够将透光窗的光射出面与被处理物的表面之间的距离实质上设定为一定的大小，能够均匀地对被处理物进行处理。该光照射装置具备：紫外线射出灯，对配置在氧气氛下的被处理物射出真空紫外光；和透光窗，配置在被处理物与紫外线射出灯之间，透射来自紫外线射出灯的真空紫外光，透光窗经由被处理物按压用隔离件相对于被处理物以按压状态被配置，形成透光窗的光射出侧的表面与被处理物的表面之间的距离为一定大小的间隙。
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公开(公告)号：CN104838732B
公开(公告)日：2017-11-10
申请号：CN201380064293.3
申请日：2013-12-26
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: H05K3/26
CPC classification number: H05K3/0088 , H05K1/0373 , H05K3/227 , H05K3/26 , H05K2201/0209 , H05K2203/0285 , H05K2203/0292 , H05K2203/0743 , H05K2203/075 , H05K2203/0766 , H05K2203/081 , H05K2203/087 , H05K2203/1509
Abstract: 提供一种不论是起因于无机物质及有机物质的哪种的残渣都能够可靠地除去、不需要使用需要废液处理的除渣处理方法及除渣处理装置。本发明的除渣处理方法是层叠有由含有填料的树脂构成的绝缘层和导电层的配线基板材料的除渣处理方法，其特征在于，具有：紫外线照射处理工序，对上述配线基板材料照射波长220nm以下的紫外线；以及物理性振动处理工序，对经过了该紫外线照射处理工序的配线基板材料施加物理性振动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1808686A
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：CN200610006433.3
申请日：2006-01-20
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor： 广濑贤一
Abstract: 本发明提供一种可确实检测受激准分子灯的点灯或未点灯的、具备受激准分子灯的紫外线照射装置。该紫外线照射装置，具备：放电容器，至少一部分由透射紫外线的电介质材料构成，在其内部的放电空间中填充放电用气体；受激准分子灯，具有隔着构成该放电容器的电介质材料而对置的一对电极；以及供电装置，与该一对电极电连接，并向受激准分子灯供电，其特征在于，供电装置至少与任一个电极的一端侧电连接；该紫外线照射装置具备：导光部，在有效发光区域中，与比连接了供电装置的电极一端更接近该电极另一端的区域对应地配置，使从一端入射的由受激准分子灯放射的光，从另一端射出；接收从该导光部射出的光的受光部；以及点灯检测部件。
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公开(公告)号：CN1258429A
公开(公告)日：2000-06-28
申请号：CN99800288.7
申请日：1999-03-04
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: H05B41/24
CPC classification number: H05B41/24 , H05B41/2806 , Y02B20/22
Abstract: 一种电介质阻挡层放电灯光源装置,具有电介质阻挡层放电灯(2)和供电装置(1),所说的电介质阻挡层放电灯(2)具有填充有因电介质阻挡层放电而生成了受激准分子的放电用气体的放电等离子空间(3),并具有在用以在上述放电用气体中诱发放电现像的两电极(4,5)中的至少一个电极与上述放电用气体之间存在电介体(6,7)的结构,所述供电装置(1)用以对上述电介质阻挡层放电灯的上述电极(4,5)施加大体周期性交流高电压。其特征在于:在结束1次的放电,而灯施加电压进行朝向接下来的放电而变化时,在灯施加电压波形(Vs(t))中,在灯施加电压,经过有效放电开始电压(+Ei,－Ei)之前,具有灯施加电压进行缓慢变化的期间,而有关在结束1次放电时的电压VA与在下一次放电结束时之电压VB的电压差△Vx,以及上述电压VA与上述灯施加电压进行缓慢变化期间结束时的电压VF的电压差△Vy,则满足以下的关系0.3≤△Vy/△VX≤0. 9。
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公开(公告)号：CN111295591B
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN201880069788.8
申请日：2018-08-07
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使尺寸较大也能够在第一基板与第二基板的接合部实现良好的接合状态的微芯片。一种微芯片，通过由树脂构成的第一基板以及由树脂构成的第二基板接合而成，通过至少形成于第一基板的流路形成用台阶而形成有被所述第一基板与所述第二基板的接合部包围的流路，其特征在于，形成有包围所述接合部的非接触部，所述流路用形成用台阶的侧壁面和与其连续的接合面所成的角度(θ1)满足θ1＞90°。
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公开(公告)号：CN109476087A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201780043854.X
申请日：2017-06-27
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够以较高的密合状态贴合在至少一方的基板具有翘曲、贴合面的起伏的两片基板的基板的贴合方法及微芯片的制作方法。在本发明的基板的贴合方法中，第一基板为基板变形的可变形温度比第二基板的可变形温度高的材质的基板，具有：表面活性化工序，使第一基板的贴合面以及第二基板的贴合面的各个活性化；堆叠工序，将该第一基板与该第二基板以各自的贴合面接触的方式堆叠；以及变形工序，使第二基板的贴合面按照第一基板的贴合面的形状变形，变形工序通过以第二基板的可变形温度以上、且低于第一基板的可变形温度的温度对在堆叠工序中所得的第一基板与第二基板的堆叠体进行加热而进行。
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公开(公告)号：CN105074882A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201480018747.8
申请日：2014-03-12
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: H01L21/304 , B08B7/00 , H01L21/027
Abstract: 本发明的目的在于提供一种光照射装置，能够将透光窗的光射出面与被处理物的表面之间的距离实质上设定为一定的大小，能够均匀地对被处理物进行处理。该光照射装置具备：紫外线射出灯，对配置在氧气氛下的被处理物射出真空紫外光；和透光窗，配置在被处理物与紫外线射出灯之间，透射来自紫外线射出灯的真空紫外光，透光窗经由被处理物按压用隔离件相对于被处理物以按压状态被配置，形成透光窗的光射出侧的表面与被处理物的表面之间的距离为一定大小的间隙。
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