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公开(公告)号：CN111683993B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN201980011523.7
申请日：2019-01-31
Applicant: 住友化学株式会社
Inventor： 寺井宏树
Abstract: 本发明的目的在于，提供多分散度充分小的高分子化合物的制造方法。本发明涉及一种高分子化合物的制造方法，其含有使包含高分子化合物的溶液与包含2种以上有机溶剂的混合溶剂接触从而使高分子化合物沉淀的工序，该2种以上有机溶剂包含相互不同的第1有机溶剂和第2有机溶剂，该第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上，该第2有机溶剂为选自溶剂A和溶剂B中的1种以上。[溶剂A]汉森溶解度参数的极性项P1(MPa0.5)为0≤P1≤10、且汉森溶解度参数的氢键项H1(MPa0.5)为0≤H1≤10的溶剂，[溶剂B]汉森0.5溶解度参数的极性项P2(MPa )为10＜P2、和/或汉森溶解度参数的氢键项H2(MPa0.5)为10＜H2的溶剂。
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公开(公告)号：CN111788248A
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201980016398.9
申请日：2019-11-22
Applicant: 住友化学株式会社
Inventor： 寺井宏树
Abstract: 本发明提供向溶剂中的溶解速度快的高分子化合物及该高分子化合物的制造方法。本发明提供一种高分子化合物，其振实密度为0.02g/cm3以上且0.13g/cm3以下，包含选自以式(1－1)表示的构成单元及以式(1－2)表示的构成单元中的至少1个构成单元。本发明提供一种高分子化合物的制造方法，所述高分子化合物包含选自以式(1－1)表示的构成单元及以式(1－2)表示的构成单元中的至少1个构成单元，所述制造方法包括以下的工序，即，使含有包含选自以式(1－1)表示的构成单元及以式(1－2)表示的构成单元中的至少1个构成单元的高分子化合物、以及所述高分子化合物的良溶剂的混合物、与35℃以上且75℃以下的所述高分子化合物的不良溶剂混合，并取出所得的沉淀物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102292342A
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN201080005107.5
申请日：2010-01-22
IPC: C07F7/08 , H01L21/336 , H01L29/786 , H01L29/80 , H01L51/05 , H01L51/30 , H01L51/40
CPC classification number: H01L51/0558 , C07F7/0805 , C07F7/081 , C07F7/0812 , C07F7/1804 , H01L51/0055 , H01L51/0056 , H01L51/0057 , H01L51/0068 , H01L51/0074 , H01L51/0094 , H01L51/0541 , H01L51/0545 , H01L51/0554 , H01L51/057 , H01L51/102
Abstract: 一种下述通式(1)所示的芳香族化合物。[化1][式中，A环和B环表示苯环、由2～4个环组成的芳香族稠合环、芳香族杂环或由2～4个环组成的芳香族稠合杂环，R1a表示-CHR2a-CHR2bR2c所示的基团，R1b、R1c和R1d表示氢原子、芳基或-CHR2d-CHR2eR2f所示的基团。其中，R1b、R1c和R1d中的至少2个不为氢原子。R2a、R2b和R2c表示氢原子、烷基、芳基或取代甲硅烷基，R2a和R2b可相互结合形成环。R2d、R2e和R2f表示氢原子、烷基、芳基或取代甲硅烷基，R2d和R2e可相互结合形成环]。
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公开(公告)号：CN111788248B
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN201980016398.9
申请日：2019-11-22
Applicant: 住友化学株式会社
Inventor： 寺井宏树
Abstract: 本发明提供向溶剂中的溶解速度快的高分子化合物及该高分子化合物的制造方法。本发明提供一种高分子化合物，其振实密度为0.02g/cm3以上且0.13g/cm3以下，包含选自以式(1－1)表示的构成单元及以式(1－2)表示的构成单元中的至少1个构成单元。本发明提供一种高分子化合物的制造方法，所述高分子化合物包含选自以式(1－1)表示的构成单元及以式(1－2)表示的构成单元中的至少1个构成单元，所述制造方法包括以下的工序，即，使含有包含选自以式(1－1)表示的构成单元及以式(1－2)表示的构成单元中的至少1个构成单元的高分子化合物、以及所述高分子化合物的良溶剂的混合物、与35℃以上且75℃以下的所述高分子化合物的不良溶剂混合，并取出所得的沉淀物。
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公开(公告)号：CN111683993A
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201980011523.7
申请日：2019-01-31
Applicant: 住友化学株式会社
Inventor： 寺井宏树
Abstract: 本发明的目的在于，提供多分散度充分小的高分子化合物的制造方法。本发明涉及一种高分子化合物的制造方法，其含有使包含高分子化合物的溶液与包含2种以上有机溶剂的混合溶剂接触从而使高分子化合物沉淀的工序，该2种以上有机溶剂包含相互不同的第1有机溶剂和第2有机溶剂，该第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上，该第2有机溶剂为选自溶剂A和溶剂B中的1种以上。[溶剂A]汉森溶解度参数的极性项P1(MPa0.5)为0≤P1≤10、且汉森溶解度参数的氢键项H1(MPa0.5)为0≤H1≤10的溶剂，[溶剂B]汉森溶解度参数的极性项P2(MPa0.5)为10＜P2、和/或汉森溶解度参数的氢键项H2(MPa0.5)为10＜H2的溶剂。
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公开(公告)号：CN102449798A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201080024151.0
申请日：2010-05-11
Applicant: 住友化学株式会社 , 国立大学法人广岛大学
IPC: H01L51/30 , C08G61/12 , H01L21/336 , H01L29/786 , H01L29/80 , H01L51/05 , H01L51/40 , H01L51/50
CPC classification number: H01L51/0035 , C08G61/126 , C08G2261/124 , C08G2261/3223 , C08G2261/3243 , C08G2261/92 , H01L51/0036 , H01L51/0558
Abstract: 本发明的有机薄膜晶体管包括如下的有机半导体层，所述有机半导体层含有具有下述通式(1)所示的重复单元、及/或、下述通式(2)所示的重复单元且还具有下述通式(3)所示的重复单元的高分子化合物。
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公开(公告)号：CN101646710A
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：CN200880010306.8
申请日：2008-03-27
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: H01L51/0043 , B82Y10/00 , C08G61/02 , C08G61/12 , C08G61/123 , C08G61/126 , C08G2261/11 , C08G2261/124 , C08G2261/141 , C08G2261/314 , C08G2261/3223 , C08G2261/91 , H01L51/0036 , H01L51/0039 , H01L51/0047 , H01L51/4253 , Y02E10/549
Abstract: 本发明提供一种有机光电变换元件及在其制造中有用的聚合物。聚合物包括：含有右式(1a)表示的结构和/或右式(1b)表示的结构且还含有右式(2)表示的结构的重复单元。式(1a)和(1b)中，A环表示6元环以上的单环的脂环式烃，该脂环式烃可由碳原子数为1～20的烷基取代，式(2)中，R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 以及R 6 分别独立地表示氢原子、碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为1～20的烷氧基、或者碳原子数为6～60的芳基，x为1或2，y为0或1，z为0、1或2，R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 以及R 6 分别存在多个时，可以相同或不同，该烷基以及该烷氧基的一部分或全部氢原子可由氟原子取代，该芳基可具有取代基。
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