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公开(公告)号：CN110154475B
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN201910112688.5
申请日：2019-02-12
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供不易产生膜表面的凹凸(桔皮皱纹)从而具有良好的外观及视觉辨认性的、包含基于聚酰亚胺系高分子的透明树脂膜的层叠体。本发明为一种层叠体，其是包含透明树脂膜和被贴合在前述透明树脂膜的至少一个面上的保护膜而成的层叠体，所述透明树脂膜包含选自由聚酰亚胺、聚酰胺及聚酰胺酰亚胺组成的组中的至少1种及溶剂而成，其中，按照数学式(1)算出的与透明树脂膜接触的保护膜表面的算术平均波纹度Wa为30nm以下。数学式(1)中，Zw(x,y)表示根据保护膜表面的二维的高度数据、使用截止值为20μm、振幅传递率为50％的高斯滤波器得到的表面波纹度的各点的高度，lx、ly分别表示x、y方向的测定区域的范围。数学式(1)：
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公开(公告)号：CN110709451B
公开(公告)日：2021-05-07
申请号：CN201880036712.5
申请日：2018-05-30
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C08J5/18 , C08G73/10 , G01N21/88 , G01N21/958
Abstract: 本发明提供适合作为图像显示装置中的光学膜使用的、具有优异光学均质性的膜及该膜的制造方法。另外，本发明提供能够以比现有的评价方法更高的精度对膜的光学均质性进行评价的评价方法。本发明的膜为包含重均分子量为20万以上的树脂的流延膜，将对使用该膜由投影法得到的投影图像进行傅里叶变换而得到的膜逆空间图像中彼此正交的方向h及方向v的线轮廓分别设为线轮廓h及线轮廓v，将对在所述投影法中以不使用所述膜的方式得到的背景图像进行傅里叶变换而得到的背景逆空间图像中彼此正交的方向h’及方向v’的线轮廓分别设为线轮廓h’及线轮廓v’，将从线轮廓h减去线轮廓h’而得到的线轮廓(h‑h’)的最大强度设为Ymh，将从显示出最大强度Ymh的频率减去经空白校正的线轮廓中的总频率的中央值Xcen而得到的值Xmax设为Xmh，将从线轮廓v减去线轮廓v’而得到的线轮廓(v‑v’)的最大强度设为Ymv，将从显示出最大强度Ymv的频率减去经空白校正的线轮廓中的总频率的中央值Xcen而得到的值Xmax设为Xmv时，Ymh及Ymv均为30以下，Ymh、Ymv、Xmh及Xmv满足特定式子。
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公开(公告)号：CN111247655B
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201880068499.6
申请日：2018-10-22
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明降低暗电流。在包含阳极(12)、阴极(16)、以及设置于该阳极与该阴极之间的活性层(14)的光电转换元件(10)中，活性层包含p型半导体材料和n型半导体材料，该p型半导体材料是聚苯乙烯换算重均分子量为40000以上200000以下的高分子化合物，在对利用透射型电子显微镜观察到的上述活性层的图像进行二值化而得到的图像中，p型半导体材料的相与n型半导体材料的相的接合长度在每1μm2进行了二值化的图像面积中为130μm以上且小于200μm。
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公开(公告)号：CN112051628A
公开(公告)日：2020-12-08
申请号：CN202011007695.8
申请日：2017-05-05
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够降低黄色度的光学膜。本发明所涉及的光学膜是如下的光学膜：对于满足以下的(1)和(2)的凹陷而言，光学膜的单面和其背面的每10000μm2的个数之和为4个以下。(1)凹陷的深度为200nm以上。(2)存在于凹陷的200nm以上的深度的部分的直径为0.7μm以上。
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公开(公告)号：CN107356990A
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201710312240.9
申请日：2017-05-05
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G02B1/04
CPC classification number: C08J5/18 , C08J2379/08 , C08K3/36 , G02B5/0215 , G02B1/04 , C08L79/08
Abstract: 本发明提供一种能够降低黄色度的光学膜。本发明所涉及的光学膜是如下的光学膜：对于满足以下的(1)和(2)的凹陷而言，光学膜的单面和其背面的每10000μm2的个数之和为4个以下。(1)凹陷的深度为200nm以上。(2)存在于凹陷的200nm以上的深度的部分的直径为0.7μm以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115804259A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202180048331.0
申请日：2021-07-09
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明旨在提高光电转换元件的耐热性。一种光电转换元件，其是包含阳极(12)、阴极(16)、以及设置于阳极与阴极之间的活性层(14)的光电转换元件(10)，其中，活性层包含至少一种p型半导体材料和至少2种n型半导体材料，至少一种p型半导体材料的分散能量汉森溶解度参数(δD(P))与至少2种n型半导体材料的第1分散能量汉森溶解度参数δD(Ni)和第2分散能量汉森溶解度参数δD(Nii)满足下述条件(i)和(ii)。条件(i)：2.1MPa0.5＜|δD(P)‑δD(Ni)|+|δD(Ni)‑δD(Nii)|＜4.0MPa0.5；条件(ii)：0.8MPa0.5＜|δD(P)‑δD(Ni)|且0.2MPa0.5＜|δD(Ni)‑δD(Nii)|。
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公开(公告)号：CN111247655A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN201880068499.6
申请日：2018-10-22
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明降低暗电流。在包含阳极(12)、阴极(16)、以及设置于该阳极与该阴极之间的活性层(14)的光电转换元件(10)中，活性层包含p型半导体材料和n型半导体材料，该p型半导体材料是聚苯乙烯换算重均分子量为40000以上200000以下的高分子化合物，在对利用透射型电子显微镜观察到的上述活性层的图像进行二值化而得到的图像中，p型半导体材料的相与n型半导体材料的相的接合长度在每1μm2进行了二值化的图像面积中为130μm以上且小于200μm。
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公开(公告)号：CN110154471B
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201910111874.7
申请日：2019-02-12
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供不易产生膜表面白化而具有良好外观及视觉辨认性的、包含基于聚酰亚胺系高分子的透明树脂膜的层叠体。该层叠体包含透明树脂膜和贴合在透明树脂膜至少一个面的保护膜，透明树脂膜包含选自聚酰亚胺、聚酰胺及聚酰胺酰亚胺中的至少1种及1种以上溶剂，通过流延法用前述1种以上溶剂制造，前述1种以上溶剂中沸点最高的溶剂的沸点为120～300℃，透明树脂膜的残留溶剂量S(质量％)与保护膜的低分子成分量W(％)满足关系式(1)，W为0.33以下，残留溶剂量S作为基于热重‑差热测定的从120℃至250℃的质量减少率算出，低分子成分量W定义为通过凝胶渗透色谱法以140℃的测定温度测得的图谱中的Log M为2.82至3.32的面积相对于总面积的比例。S×W≤4.7 (1)。
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公开(公告)号：CN111300937A
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN202010149276.1
申请日：2019-02-12
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供不易产生膜表面白化而具有良好外观及视觉辨认性的、包含基于聚酰亚胺系高分子的透明树脂膜的层叠体。该层叠体包含透明树脂膜和贴合在透明树脂膜至少一个面的保护膜，透明树脂膜包含选自聚酰亚胺、聚酰胺及聚酰胺酰亚胺中的至少1种及1种以上溶剂，通过流延法用前述1种以上溶剂制造，前述1种以上溶剂中沸点最高的溶剂的沸点为120～300℃，透明树脂膜的残留溶剂量S(质量％)与保护膜的低分子成分量W(％)满足关系式(1)，W为0.33以下，残留溶剂量S作为基于热重-差热测定的从120℃至250℃的质量减少率算出，低分子成分量W定义为通过凝胶渗透色谱法以140℃的测定温度测得的图谱中的Log M为2.82至3.32的面积相对于总面积的比例。S×W≤4.7 (1)。
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公开(公告)号：CN110709451A
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201880036712.5
申请日：2018-05-30
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C08J5/18 , C08G73/10 , G01N21/88 , G01N21/958
Abstract: 本发明提供适合作为图像显示装置中的光学膜使用的、具有优异光学均质性的膜及该膜的制造方法。另外，本发明提供能够以比现有的评价方法更高的精度对膜的光学均质性进行评价的评价方法。本发明的膜为包含重均分子量为20万以上的树脂的流延膜，将对使用该膜由投影法得到的投影图像进行傅里叶变换而得到的膜逆空间图像中彼此正交的方向h及方向v的线轮廓分别设为线轮廓h及线轮廓v，将对在所述投影法中以不使用所述膜的方式得到的背景图像进行傅里叶变换而得到的背景逆空间图像中彼此正交的方向h’及方向v’的线轮廓分别设为线轮廓h’及线轮廓v’，将从线轮廓h减去线轮廓h’而得到的线轮廓(h-h’)的最大强度设为Ymh，将从显示出最大强度Ymh的频率减去经空白校正的线轮廓中的总频率的中央值Xcen而得到的值Xmax设为Xmh，将从线轮廓v减去线轮廓v’而得到的线轮廓(v-v’)的最大强度设为Ymv，将从显示出最大强度Ymv的频率减去经空白校正的线轮廓中的总频率的中央值Xcen而得到的值Xmax设为Xmv时，Ymh及Ymv均为30以下，Ymh、Ymv、Xmh及Xmv满足特定式子。
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