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公开(公告)号：CN113302331B
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202080009495.8
申请日：2020-03-19
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供靶材的研磨方法，其可从靶材去除接合材料并且可减少研磨材料的堵塞。本发明涉及的靶材的研磨方法为对从溅射靶分离出的靶材进行研磨的方法，所述溅射靶通过接合材料将靶材与支承部件接合而构成，其中，所述靶材的研磨方法包括：使用研磨材料对所述靶材中的与所述支承部件接合而成的接合面进行研磨，所述研磨材料包含由磨石形成的多个块状体，并且所述多个块状体以与邻接的块状体通过间隙而隔开的方式排列在同一面上。
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公开(公告)号：CN113302331A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202080009495.8
申请日：2020-03-19
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供靶材的研磨方法，其可从靶材去除接合材料并且可减少研磨材料的堵塞。本发明涉及的靶材的研磨方法为对从溅射靶分离出的靶材进行研磨的方法，所述溅射靶通过接合材料将靶材与支承部件接合而构成，其中，所述靶材的研磨方法包括：使用研磨材料对所述靶材中的与所述支承部件接合而成的接合面进行研磨，所述研磨材料包含由磨石形成的多个块状体，并且所述多个块状体以与邻接的块状体通过间隙而隔开的方式排列在同一面上。
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公开(公告)号：CN113316659B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202080009480.1
申请日：2020-02-10
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供靶材的清洗方法、用该清洗方法处理的靶材的制造方法、及将通过该方法得到的靶材作为原料的循环铸块的制造方法，所述靶材的清洗方法能够通过喷砂处理从使用过的靶材简便且充分地去除来源于构成接合层的接合材料及支承部件的杂质。本发明中的靶材的清洗方法是清洗从溅射靶分离出的靶材的方法，所述溅射靶将靶材与支承部件用接合材料接合而构成，所述靶材的清洗方法包括：对于所述靶材中的、所述靶材与所述支承部件接合而成的第1面喷射新莫氏硬度为3以上且体积比重为2g/cm3以下的研磨材料。
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公开(公告)号：CN113316659A
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：CN202080009480.1
申请日：2020-02-10
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供靶材的清洗方法、用该清洗方法处理的靶材的制造方法、及将通过该方法得到的靶材作为原料的循环铸块的制造方法，所述靶材的清洗方法能够通过喷砂处理从使用过的靶材简便且充分地去除来源于构成接合层的接合材料及支承部件的杂质。本发明中的靶材的清洗方法是清洗从溅射靶分离出的靶材的方法，所述溅射靶将靶材与支承部件用接合材料接合而构成，所述靶材的清洗方法包括：对于所述靶材中的、所述靶材与所述支承部件接合而成的第1面喷射新莫氏硬度为3以上且体积比重为2g/cm3以下的研磨材料。
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