光子晶体面发光激光器及其制造方法

    公开(公告)号:CN116918200A

    公开(公告)日:2023-10-20

    申请号:CN202280018249.8

    申请日:2022-03-04

    Abstract: 一种光子晶体面发光激光器,其具备:发光区域,其向与面内方向交叉的方向射出光;以及电流狭窄区域,其在所述面内方向上与所述发光区域相邻,且与所述发光区域相比电流难以在所述电流狭窄区域中流动,所述发光区域以及所述电流狭窄区域具有光子晶体层,所述光子晶体层具有第一区域、以及在所述第一区域内沿所述面内方向周期性配置的第二区域,所述第二区域的折射率与所述第一区域的折射率不同,所述发光区域具有:第一半导体层,其具有第一导电型;有源层,其具有光学增益;以及第二半导体层,其具有第二导电型,所述第一半导体层、所述有源层以及所述第二半导体层在所述光的射出方向上依次层叠。

    半导体光元件
    3.
    发明公开
    半导体光元件 审中-公开

    公开(公告)号:CN119742658A

    公开(公告)日:2025-04-01

    申请号:CN202411052798.4

    申请日:2024-08-02

    Abstract: 本发明提供一种能够降低由p型半导体层引起的光学损失的半导体光元件。半导体光元件具备:第一n型III‑V族化合物半导体层;有源层;隧道结结构,包含p型III‑V族化合物半导体层以及第二n型III‑V族化合物半导体层;以及第三n型III‑V族化合物半导体层,第一n型III‑V族化合物半导体层、有源层、p型III‑V族化合物半导体层、第二n型III‑V族化合物半导体层以及第三n型III‑V族化合物半导体层按此顺序排列,第二n型III‑V族化合物半导体层具有比第三n型III‑V族化合物半导体层的n型掺杂剂浓度高的n型掺杂剂浓度,p型III‑V族化合物半导体层具有应变。

    半导体光元件及其制造方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114725776A

    公开(公告)日:2022-07-08

    申请号:CN202111359885.0

    申请日:2021-11-17

    Abstract: 本发明提供半导体光元件及其制造方法。半导体光元件集成有射出光的发光区域和调制光的调制器区域,具备:第一台面,其设置于发光区域,沿光的传播方向延伸,向与光的传播方向交叉的方向突出,包含活性层;第一隐埋层及第二隐埋层,它们设置于与光的传播方向交叉的方向上的第一台面的两侧,沿第一台面的突出方向依次层叠;第一半导体层,其设置于第一台面及第二隐埋层之上;第二台面,其设置于调制器区域,沿光的传播方向延伸,向与光的传播方向交叉的方向突出,包含光吸收层;及第三隐埋层,其设置于第二台面的两侧,第一半导体层及第一隐埋层具有第一导电型,第二隐埋层具有与第一导电型不同的第二导电型,第三隐埋层为半绝缘性的半导体层。

    半导体激光元件及半导体激光元件的制造方法

    公开(公告)号:CN112713502A

    公开(公告)日:2021-04-27

    申请号:CN202011101916.8

    申请日:2020-10-15

    Abstract: 本发明提供一种半导体激光元件及半导体激光元件的制造方法。半导体激光元件具备:半导体基板;激光器部,设置在所述半导体基板上,并包括有源层;及光调制部,设置在所述半导体基板上,并包括吸收来自所述激光器部的激光的光吸收层。所述光吸收层具备第一光吸收层和第二光吸收层。所述有源层、所述第一光吸收层及所述第二光吸收层在光波导方向上依次配置。所述第一光吸收层具有通过光致发光测量而得到的第一波长。所述第二光吸收层具有通过光致发光测量而得到的第二波长。所述第二波长大于所述第一波长。

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