离子注入装置及离子束的调整方法

    公开(公告)号:CN105428193B

    公开(公告)日:2018-08-10

    申请号:CN201510477413.3

    申请日:2015-08-06

    Abstract: 本发明提供一种离子注入装置及离子束的调整方法,其课题在于在避免离子注入装置的生产率的下降的同时实现能量精度的提高。本发明的离子注入装置的能量分析狭缝(28)构成为可切换标准狭缝开口(110)与高精度狭缝开口(112),所述标准狭缝开口用于在所给注入条件下进行的注入处理;所述高精度狭缝开口具有比标准狭缝开口(110)高的能量精度,且为了调整高频线性加速器的加速参数而使用。加速参数取决于所给注入条件,以便使向高频线性加速器供给的离子的至少一部分加速至目标能量,并且使通过射束测量部测量的射束电流量与目标射束电流量相当。

    离子注入装置及离子束的调整方法

    公开(公告)号:CN105428193A

    公开(公告)日:2016-03-23

    申请号:CN201510477413.3

    申请日:2015-08-06

    Abstract: 本发明提供一种离子注入装置及离子束的调整方法,其课题在于在避免离子注入装置的生产率的下降的同时实现能量精度的提高。本发明的离子注入装置的能量分析狭缝(28)构成为可切换标准狭缝开口(110)与高精度狭缝开口(112),所述标准狭缝开口用于在所给注入条件下进行的注入处理;所述高精度狭缝开口具有比标准狭缝开口(110)高的能量精度,且为了调整高频线性加速器的加速参数而使用。加速参数取决于所给注入条件,以便使向高频线性加速器供给的离子的至少一部分加速至目标能量,并且使通过射束测量部测量的射束电流量与目标射束电流量相当。

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