宽带离子束分析器
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103107056B

    公开(公告)日:2014-07-16

    申请号:CN201110354972.7

    申请日:2011-11-10

    Abstract: 本发明公开了一种宽带离子束分析器,用于从宽带离子束中分离出所需的离子,包括上磁极、下磁极、上励磁线圈、下励磁线圈、分析光栏和磁轭,其中:所述上磁极和下磁极均具有弧形的入射端边界和出射端边界;所述入射端边界和出射端边界的弧面半径都等于所述所需的离子在磁场中的偏转半径。本发明通过采用具有弧形入射端边界和出射端边界的上磁极和下磁极,且弧面半径都等于所述所需的离子在磁场中的偏转半径,使得宽带离子束中所需的离子能够在磁场中部理想聚焦,得到焦斑尺寸等于0的理想焦点,可以通过选取合适的最小的分析缝宽度而获得最佳的分析分辨率,实现宽带离子束中所需的离子与其他离子完全分离。

    一种宽带离子束传输方法及离子注入机

    公开(公告)号:CN103377865B

    公开(公告)日:2015-06-17

    申请号:CN201210118487.4

    申请日:2012-04-20

    Abstract: 本发明公开了一种宽带离子束传输方法,其采用两个独立的磁场:分析磁场和校正磁场,以及分析光栏对宽带离子束进行传输;若所述分析磁场使从其入射面射入的宽带离子束在水平方向沿逆时针方向偏转,则所述校正磁场使通过所述分析光栏后再次扩散的离子束在水平方向沿顺时针方向偏转;若所述分析磁场使从其入射面射入的宽带离子束在水平方向沿顺时针方向偏转,则所述校正磁场使通过所述分析光栏后再次扩散的离子束在水平方向沿逆时针方向偏转;本发明还公开了一种离子注入机。由于分析磁场和校正磁场使离子束在水平方向沿不同方向偏转,使得宽带离子束中所需的离子从校正磁场的出射面射出时具有与入射时相同的分布。

    离子注入装置及离子束的调整方法

    公开(公告)号:CN105428193B

    公开(公告)日:2018-08-10

    申请号:CN201510477413.3

    申请日:2015-08-06

    Abstract: 本发明提供一种离子注入装置及离子束的调整方法,其课题在于在避免离子注入装置的生产率的下降的同时实现能量精度的提高。本发明的离子注入装置的能量分析狭缝(28)构成为可切换标准狭缝开口(110)与高精度狭缝开口(112),所述标准狭缝开口用于在所给注入条件下进行的注入处理;所述高精度狭缝开口具有比标准狭缝开口(110)高的能量精度,且为了调整高频线性加速器的加速参数而使用。加速参数取决于所给注入条件,以便使向高频线性加速器供给的离子的至少一部分加速至目标能量,并且使通过射束测量部测量的射束电流量与目标射束电流量相当。

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