合成石英玻璃的热处理方法

    公开(公告)号:CN104860521B

    公开(公告)日:2019-05-28

    申请号:CN201510085325.9

    申请日:2015-02-17

    CPC classification number: C03B25/02 C03B19/1453 C03B32/00 C03B2201/23

    Abstract: 本发明提供了合成石英玻璃的热处理方法。具体地,提供了用于热处理合成石英玻璃的方法,该合成石英玻璃具有最大值/最小值差异(△OH)小于350ppm的羟基浓度,该方法包括以下步骤:在1150-1060℃下保持0.5‑10小时的时间的第一热处理,以-7℃/小时至-30℃/小时的速率冷却至第二热处理温度,在1030-950℃下保持5-20小时的时间的第二热处理,和以-25℃/小时至-85℃/小时的速率退火。两阶段的热处理确保了该玻璃具有低双折射。

    合成石英玻璃的热处理方法

    公开(公告)号:CN104860521A

    公开(公告)日:2015-08-26

    申请号:CN201510085325.9

    申请日:2015-02-17

    CPC classification number: C03B25/02 C03B19/1453 C03B32/00 C03B2201/23

    Abstract: 本发明提供了合成石英玻璃的热处理方法。具体地,提供了用于热处理合成石英玻璃的方法,该合成石英玻璃具有最大值/最小值差异(△OH)小于350ppm的羟基浓度,该方法包括以下步骤:在1150-1060℃下保持0.5-10小时的时间的第一热处理,以-7℃/小时至-30℃/小时的速率冷却至第二热处理温度,在1030-950℃下保持5-20小时的时间的第二热处理,和以-25℃/小时至-85℃/小时的速率退火。两阶段的热处理确保了该玻璃具有低双折射。

    合成石英玻璃基板的制备方法

    公开(公告)号:CN106242311A

    公开(公告)日:2016-12-21

    申请号:CN201610402325.1

    申请日:2016-06-08

    Abstract: 本发明涉及合成石英玻璃基板的制备方法。通过提供合成石英玻璃块体、用在双折射测定的波长下具有至少99.0%/mm的透射率的液体涂布该块体的两个相对表面、通过使光进入一涂布表面并且从另一涂布表面离开从而测定该块体上的双折射分布、和基于测定的双折射分布将该块体分类为可接受的组或不可接受的组,从而制备合成石英玻璃基板。

    合成石英玻璃基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN110066101B

    公开(公告)日:2022-10-18

    申请号:CN201910060528.0

    申请日:2019-01-23

    Abstract: 本发明涉及一种合成石英玻璃基板及其制造方法。具体涉及一种具有可控的氢分子浓度的合成石英玻璃基板,其通过如下步骤来制备:(a)将合成石英玻璃锭热成形为玻璃块,(b)将玻璃块切成玻璃板,(c)在500℃至1,250℃下对玻璃板进行15小时至60小时的退火,(d)在300℃至450℃、于氢气气氛中对玻璃板进行20小时至40小时的氢掺杂处理,以及(e)在200℃至400℃下对玻璃板进行5小时至10小时的脱氢处理。

    合成石英玻璃基板的制备方法

    公开(公告)号:CN106242311B

    公开(公告)日:2021-01-29

    申请号:CN201610402325.1

    申请日:2016-06-08

    Abstract: 本发明涉及合成石英玻璃基板的制备方法。通过提供合成石英玻璃块体、用在双折射测定的波长下具有至少99.0%/mm的透射率的液体涂布该块体的两个相对表面、通过使光进入一涂布表面并且从另一涂布表面离开从而测定该块体上的双折射分布、和基于测定的双折射分布将该块体分类为可接受的组或不可接受的组,从而制备合成石英玻璃基板。

    合成石英玻璃基板及其制造方法

    公开(公告)号:CN110066101A

    公开(公告)日:2019-07-30

    申请号:CN201910060528.0

    申请日:2019-01-23

    Abstract: 本发明涉及一种合成石英玻璃基板及其制造方法。具体涉及一种具有可控的氢分子浓度的合成石英玻璃基板,其通过如下步骤来制备:(a)将合成石英玻璃锭热成形为玻璃块,(b)将玻璃块切成玻璃板,(c)在500℃至1,250℃下对玻璃板进行15小时至60小时的退火,(d)在300℃至450℃、于氢气气氛中对玻璃板进行20小时至40小时的氢掺杂处理,以及(e)在200℃至400℃下对玻璃板进行5小时至10小时的脱氢处理。

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