公开(公告)号：CN116774520A

公开(公告)日：2023-09-19

申请号：CN202310253954.2

申请日：2023-03-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 大友雄太郎 ,  小林知洋 ,  樋田源太郎 ,  大山皓介 ,  提箸正义 ,  福岛将大

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的目的为提供边缘粗糙度、尺寸偏差小，分辨性优异，曝光后的图案形状良好，且保存稳定性亦良好的抗蚀剂材料、及图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂材料，其特征为含有：(Ia)含有包含羟基或羧基的重复单元(A)的聚合物、(II)具有下式(1)表示的结构的交联剂、(III)具有下式(2)表示的结构的淬灭剂、(IV)有机溶剂、及(V)会因为活性光线或放射线的照射而分解并产生酸的成分。#imgabs0#

公开(公告)号：CN116165846A

公开(公告)日：2023-05-26

申请号：CN202211477157.4

申请日：2022-11-23

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  菊地骏 ,  大山皓介

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供酸的扩散受到控制，具有优于已知的正型抗蚀剂材料的分辨率，边缘粗糙度、尺寸偏差小，且曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料及图案形成方法。该课题的解决手段为一种正型抗蚀剂材料，含有末端被由连接于硫醚基的铵阳离子及含氟原子的阴离子构成的盐封端而成的基础聚合物。

公开(公告)号：CN116136647A

公开(公告)日：2023-05-19

申请号：CN202211439146.7

申请日：2022-11-17

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  大山皓介 ,  菊地骏

IPC: G03F7/039

Abstract: 本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供酸的扩散受到控制，具有优于已知的正型抗蚀剂材料的分辨率，边缘粗糙度、尺寸偏差小，且曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料及图案形成方法。该课题的解决手段为一种正型抗蚀剂材料，含有末端被含连接于硫醚基的羧酸阴离子的锍盐封端而成的基础聚合物。

公开(公告)号：CN118112887A

公开(公告)日：2024-05-31

申请号：CN202311617357.X

申请日：2023-11-29

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 大桥正树 ,  片山和弘 ,  山平达也 ,  大友雄太郎 ,  大山皓介

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光刻中，抗图案崩塌且极限分辨性优异，又感度、LWR亦经改善的抗蚀剂组成物；以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂组成物，包含：(A)含有包含具有酸不稳定基团的重复单元的聚合物的基础聚合物、(B)有机溶剂、及(C)下式(1)表示的鎓盐。zq+xq‑(1)式中，Zq+为锍阳离子、錪阳离子或铵阳离子。Xq‑为阴离子。但，将Xq‑作为共轭碱的酸(XqH)，其沸点未满165℃且分子量是150以下。

公开(公告)号：CN116165845A

公开(公告)日：2023-05-26

申请号：CN202211476999.8

申请日：2022-11-23

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  菊地骏 ,  大山皓介

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供酸的扩散受到控制，具有优于已知的正型抗蚀剂材料的分辨率，边缘粗糙度、尺寸偏差小，且曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料及图案形成方法。该课题的解决手段为一种正型抗蚀剂材料，含有末端被连接于硫醚基的含碘原子的酸的铵盐封端而成的基础聚合物。