公开(公告)号：CN1821879A

公开(公告)日：2006-08-23

申请号：CN200610008521.7

申请日：2006-02-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 武田隆信 ,  福田英次 ,  前田和规 ,  渡边聪

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0392

Abstract: 本发明提供与既有的正型光阻组合物相同或具有此数量以上的高敏感度、高分辨率、特别是高反射性基板上的图样形状良好的状态下，减少驻波的发生、降低线边缘粗糙度等特性的正型光阻材料。具有上述特征的正型光阻组合物中的基础树脂所包含的聚合物具有一重复单元，该重复单元含有在248nm波长的光线下会进行吸收的酸不稳定基，而且，该重复单元是以聚合物所有重复单元的1％～10％的比例被包括在该基础树脂内。