彩色滤光片基板的曝光方法

    公开(公告)号:CN102713695A

    公开(公告)日:2012-10-03

    申请号:CN201180006343.3

    申请日:2011-01-11

    CPC classification number: G02B5/201 G02F1/133516 G02F1/13394

    Abstract: 本发明提供一种彩色滤光片基板的曝光方法,使用小型掩膜连续曝光方式,能够在位于彩色滤光片基板的显示区域四边的外侧的非显示区域形成伪PS。如图8(a)所示,一边在Y方向上搬运基板20,一边对基板20上的第一非显示区域51(右上斜影线所示的区域)的第一层81进行曝光,一边对显示区域的层91进行曝光。接着,使基板20旋转90度,如图8(b)所示,一边在X方向上搬运基板20,一边对第二非显示区域52(右上斜影线所示的区域)的第二层82进行曝光。并且,如图8(c)所示,通过对基板20进行一次近接(proximity)曝光,来对第一非显示区域51内的第一层81上的第三层83进行曝光,并对第二非显示区域52内的第二层82上的第四层84进行曝光,同时对显示区域40的层92进行曝光。

    彩色滤光片基板的曝光方法

    公开(公告)号:CN102713695B

    公开(公告)日:2015-05-06

    申请号:CN201180006343.3

    申请日:2011-01-11

    CPC classification number: G02B5/201 G02F1/133516 G02F1/13394

    Abstract: 本发明提供一种彩色滤光片基板的曝光方法,使用小型掩膜连续曝光方式,能够在位于彩色滤光片基板的显示区域四边的外侧的非显示区域形成伪PS。如图8(a)所示,一边在Y方向上搬运基板20,一边对基板20上的第一非显示区域51(右上斜影线所示的区域)的第一层81进行曝光,一边对显示区域的层91进行曝光。接着,使基板20旋转90度,如图8(b)所示,一边在X方向上搬运基板20,一边对第二非显示区域52(右上斜影线所示的区域)的第二层82进行曝光。并且,如图8(c)所示,通过对基板20进行一次近接(proximity)曝光,来对第一非显示区域51内的第一层81上的第三层83进行曝光,并对第二非显示区域52内的第二层82上的第四层84进行曝光,同时对显示区域40的层92进行曝光。

    彩色滤光片及彩色滤光片的制造方法

    公开(公告)号:CN102334048A

    公开(公告)日:2012-01-25

    申请号:CN201080009081.1

    申请日:2010-02-24

    CPC classification number: G02B5/201 G02F1/133516 G02F1/13394

    Abstract: 本发明是彩色滤光片及彩色滤光片的制造方法,通过使用了小型光掩膜的连续曝光方式提供一种显示质量良好的彩色滤光片。彩色滤光片具备:基板、黑色矩阵、条纹图案、配置在显示区域内的多个柱状间隔物、以及多个伪柱状间隔物。黑色矩阵形成于基板上并划分排列有多个像素的矩形的显示区域和包围该显示区域的非显示区域。条纹图案由在一方向上延伸的多个着色层构成。着色层分别与显示区域的一对边交叉,该一对边的方向与着色层延伸的方向正交。配置在非显示区域上的着色层的两端部分的厚度不一定。此外,多个伪柱状间隔物配置在非显示区域中、未形成着色层的部分。

    彩色滤光片基板、显示装置及曝光方法

    公开(公告)号:CN102687045B9

    公开(公告)日:2015-04-15

    申请号:CN201080057078.7

    申请日:2010-12-10

    Abstract: 本发明提供一种彩色滤光片基板、显示装置及曝光方法,能够实现显示不均匀的情况不显眼、且显示质量良好的液晶显示装置。在彩色滤光片基板(1)上形成有格子状的黑矩阵(30)及行列状的多个着色像素(40)。通过某个光掩膜而曝光的区域(50a)内所包含的着色层(41R)与黑矩阵(30)在行方向上的重叠宽度(Wa)(或(Wb))与、通过其它光掩膜而曝光的区域(50b)内所包含的着色层(42R)与黑矩阵(30)在行方向上的重叠宽度(Wg)(或(Wh))之差的最大值为4μm以下。另外,所有着色像素与黑矩阵在行方向上的重叠宽度(Wa)~(Wl)的最大值为8μm以下。

    曝光方法、彩色滤光片的制造方法及曝光装置

    公开(公告)号:CN102308259B

    公开(公告)日:2014-10-15

    申请号:CN201080006850.2

    申请日:2010-02-04

    CPC classification number: G03F7/0007 G02B5/201 G03F1/50 G03F7/2022

    Abstract: 本发明提供一种曝光方法、彩色滤光片的制造方法及曝光装置,该曝光方法中,当使用设有多个掩膜图案的光掩膜进行曝光时,不需要将光掩膜移动到曝光装置的照射区域,便能在基板上的不同区域将与形成各个不同的彩色滤光片相对应的各光阻图案曝光。将具有用于将构成第1彩色滤光片的着色像素的一部分曝光的第1掩膜图案、及用于将构成第2彩色滤光片的着色像素的一部分曝光的第2掩膜图案的光掩膜相对于光源固定,一边搬运基板,一边将来自光源的光选择性地照射第1掩膜图案,将第1区域上的光阻剂连续地曝光,并且,一边搬运基板,一边将来自光源的光选择性地照射第2掩膜图案,将第2区域上的光阻剂连续地曝光。

    彩色滤光片及液晶显示装置、以及曝光掩膜

    公开(公告)号:CN102414603A

    公开(公告)日:2012-04-11

    申请号:CN201080019033.0

    申请日:2010-04-28

    Abstract: 本发明提供一种没有曝光头之间的曝光照度的差异、图案错位所造成的显示不均匀、且显示质量优异的液晶显示装置;可构成该液晶显示装置的彩色滤光片;以及用于制造该彩色滤光片的曝光掩膜。彩色滤光片1具备基板2、设置于基板2上的黑矩阵3、以及至少在第一方向与黑矩阵3部分重叠的多个着色层4。由黑矩阵3与着色层4重叠的部分所构成的重叠部分5在第一方向上的宽度在整个显示区域上变动,而且该变动程度在整个显示区域上相同地分布。其结果,即使重叠部分5的尺寸因曝光头的错位或曝光条件的变化而局部产生偏差,也能够使其混在分布于整个显示区域上的宽度变动,从而能从整体上使不均匀变得不明显。

    彩色滤光片基板的曝光方法

    公开(公告)号:CN102713694A

    公开(公告)日:2012-10-03

    申请号:CN201180005708.0

    申请日:2011-01-07

    Abstract: 本发明提供一种彩色滤光片基板的曝光方法,使用小型掩膜连续曝光方式,能够在位于彩色滤光片基板的显示区域四边的外侧的非显示区域形成伪PS。如图7(a)所示,一边在Y方向上搬运涂布有光阻剂的基板20,一边对基板20上的第一非显示区域51(右上斜影线所示的区域)的第一层81进行曝光,一边对显示区域的层91进行曝光。其次,使基板20旋转90度,如图7(b)所示,一边在X方向上搬运基板20,一边对第二非显示区域52(右上斜影线所示的区域)的第二层82进行曝光。由此,能够在第一非显示区域51内形成期望的配置间距及形状的伪PS71,在第二非显示区域52内形成期望的配置间距及形状的伪PS72。

    彩色滤光片、液晶显示装置、彩色滤光片的制造方法

    公开(公告)号:CN102428394A

    公开(公告)日:2012-04-25

    申请号:CN201080018841.5

    申请日:2010-04-28

    CPC classification number: G02B5/201 G02F1/133514 G02F1/133516 G03F7/0007

    Abstract: 本发明提供一种彩色滤光片、液晶显示装置、彩色滤光片的制造方法。彩色滤光片采用通过遮光板对相邻曝光区域之间进行遮光的小型掩膜连续曝光方式,在显示像素区域外侧的着色层上形成有具有均匀高度的伪感光性间隔物。首先,通过小型掩膜连续曝光方式来形成在X轴方向上延伸、且跨过显示像素区域和边框区域的着色层。此时,将遮光板的平行于Y轴的边缘配置成,与构成最外周的开口部的外周缘、且最靠近Y轴方向上延伸的边框区域的边相距500~1000μm。接着,在着色层上形成感光性间隔物,使感光性间隔物的中心轴位于与最靠近该Y轴方向上延伸的边框区域的边相距300μm以内的范围内。

    曝光方法、彩色滤光片的制造方法及曝光装置

    公开(公告)号:CN102308259A

    公开(公告)日:2012-01-04

    申请号:CN201080006850.2

    申请日:2010-02-04

    CPC classification number: G03F7/0007 G02B5/201 G03F1/50 G03F7/2022

    Abstract: 本发明提供一种曝光方法、彩色滤光片的制造方法及曝光装置,该曝光方法中,当使用设有多个掩膜图案的光掩膜进行曝光时,不需要将光掩膜移动到曝光装置的照射区域,便能在基板上的不同区域将与形成各个不同的彩色滤光片相对应的各掩膜图案曝光。将具有用于将构成第1彩色滤光片的着色像素的一部分曝光的第1掩膜图案、及用于将构成第2彩色滤光片的着色像素的一部分曝光的第2掩膜图案的光掩膜相对于光源固定,一边搬运基板,一边将来自光源的光选择性地照射第1掩膜图案,将第1区域上的光阻剂连续地曝光,并且,一边搬运基板,一边将来自光源的光选择性地照射第2掩膜图案,将第2区域上的光阻剂连续地曝光。

    彩色滤光片基板、显示装置及曝光方法

    公开(公告)号:CN102687045B

    公开(公告)日:2015-02-04

    申请号:CN201080057078.7

    申请日:2010-12-10

    CPC classification number: G02F1/133516 G02B5/201 Y10S359/90

    Abstract: 本发明提供一种彩色滤光片基板、显示装置及曝光方法,能够实现显示不均匀的情况不显眼、且显示质量良好的液晶显示装置。在彩色滤光片基板(1)上形成有格子状的黑矩阵(30)及行列状的多个着色像素(40)。通过某个光掩膜而曝光的区域(50a)内所包含的着色层(41R)与黑矩阵(30)在行方向上的重叠宽度(Wa)(或(Wb))与、通过其它光掩膜而曝光的区域(50b)内所包含的着色层(42R)与黑矩阵(30)在行方向上的重叠宽度(Wg)(或(Wh))之差的最大值为4μm以下。另外,所有着色像素与黑矩阵在行方向上的重叠宽度(Wa)~(Wl)的最大值为8μm以下。

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