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公开(公告)号：CN102002663B
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201010266292.5
申请日：2010-08-26
Abstract: 本发明提供即能防止斑点状过量渗碳发生又能对被处理物进行高品质渗碳的真空渗碳方法。该方法通过向减压气体氛围的渗碳室3喷射渗碳气体来对置于渗碳室3中的被处理物2进行渗碳。该方法包括：气体喷射量确定步骤(S3)，以使对被处理物2的渗碳有用的气体消耗量，相对于喷射至渗碳室3中的渗碳气体量的比例(渗碳气体利用率)包含在可抑制斑点状过量渗碳发生的范围；确定气体喷射时间及喷射停止时间的气体喷射周期确定步骤(S4)，以使被处理物2的表面碳浓度保持在小于可抑制斑点状过量渗碳发生的浓度上限值状态；气体喷射步骤(S5)，是基于步骤S4确定的气体喷射时间及喷射停止时间来间歇喷射步骤S3确定的气体喷射量的渗碳气体。
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公开(公告)号：CN102002663A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN201010266292.5
申请日：2010-08-26
Applicant: 加特可株式会社
Abstract: 本发明提供即能防止斑点状过量渗碳发生又能对被处理物进行高品质渗碳的真空渗碳方法。该方法通过向减压气体氛围的渗碳室3喷射渗碳气体来对置于渗碳室3中的被处理物2进行渗碳。该方法包括：气体喷射量确定步骤(S3)，以使对被处理物2的渗碳有用的气体消耗量，相对于喷射至渗碳室3中的渗碳气体量的比例(渗碳气体利用率)包含在可抑制斑点状过量渗碳发生的范围；确定气体喷射时间及喷射停止时间的气体喷射周期确定步骤(S4)，以使被处理物2的表面碳浓度保持在小于可抑制斑点状过量渗碳发生的浓度上限值状态；气体喷射步骤(S5)，是基于步骤S4确定的气体喷射时间及喷射停止时间来间歇喷射步骤S3确定的气体喷射量的渗碳气体。
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公开(公告)号：CN105886998B
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN201610076190.4
申请日：2016-02-03
Applicant: 加特可株式会社
IPC: C23C8/20
Abstract: 本发明提供一种真空渗碳方法及真空渗碳装置，防止点状过量渗碳的产生且可高品质地对被处理物进行渗碳。通过对减压的气体环境的渗碳室喷射渗碳气体，对配置于渗碳室的被处理物进行渗碳，基于被处理物在渗碳室中的包装状态下的容积、渗碳室的体积、被处理物的总表面面积和基于渗碳气体的种类设定的常数计算出向渗碳室喷射的渗碳气体的气体喷射量，并将计算出的气体喷射量的渗碳气体喷射至渗碳室。
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公开(公告)号：CN105886998A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201610076190.4
申请日：2016-02-03
Applicant: 加特可株式会社
IPC: C23C8/20
Abstract: 本发明提供一种真空渗碳方法及真空渗碳装置，防止点状过量渗碳的产生且可高品质地对被处理物进行渗碳。通过对减压的气体环境的渗碳室喷射渗碳气体，对配置于渗碳室的被处理物进行渗碳，基于被处理物在渗碳室中的包装状态下的容积、渗碳室的体积、被处理物的总表面面积和基于渗碳气体的种类设定的常数计算出向渗碳室喷射的渗碳气体的气体喷射量，并将计算出的气体喷射量的渗碳气体喷射至渗碳室。
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