用于钕铁硼磁体的扩散源及其制备方法和磁体的处理方法

    公开(公告)号:CN119381151A

    公开(公告)日:2025-01-28

    申请号:CN202411521046.8

    申请日:2024-10-29

    Abstract: 本发明公开了一种用于钕铁硼磁体的扩散源及其制备方法和磁体的处理方法。本发明的扩散源包括铜或铜合金箔和附着物,所述铜或铜合金箔的上表面和下表面分别附着有所述附着物,所述附着物包括稀土颗粒、非稀土氧化物和非稀土金属或合金;所述稀土颗粒中的稀土元素选自铽、镝、镨、钕中的一种或多种,且含有铽、镝中的至少一种;所述非稀土氧化物选自氧化铝、氧化镁中的一种或多种;所述非稀土金属或合金中的非稀土元素选自铜、铝、镁、铁、锆、铌、镓、锌、钴、硅中的一种或多种,且所述非稀土金属或合金中含有铜、铝中的至少一种。该扩散源能够有效地提高钕铁硼磁体的矫顽力。

    磁控溅射铁磁性靶材的装置

    公开(公告)号:CN111996505A

    公开(公告)日:2020-11-27

    申请号:CN202010661505.8

    申请日:2020-07-10

    Abstract: 本发明公开了一种磁控溅射铁磁性靶材的装置,包括:阴极基座、周边永磁体、中心永磁体,周边永磁体、中心永磁体位于阴极基座的下部,周边永磁体位于中心永磁体外侧,还包括:耐高温绝缘保护罩、中心永磁柱、环状磁性靶材,耐高温绝缘保护罩、中心永磁柱、环状磁性靶材位于阴极基座上部,中心永磁柱位于耐高温绝缘保护罩内部,耐高温绝缘保护罩位于环状磁性靶材内侧。本发明改变了现有技术的磁路,使得磁场分布均匀合理,解决了由于铁磁性靶材高磁导率引起的表面磁场强度较小而无法正常磁控溅射的问题。

    稀土铁基磁粉改性剂及制备方法、用途和磁体的生产方法

    公开(公告)号:CN119230232A

    公开(公告)日:2024-12-31

    申请号:CN202411343370.5

    申请日:2024-09-25

    Abstract: 本发明公开了一种稀土铁基磁粉改性剂及制备方法、用途和磁体的生产方法。本发明的稀土铁基磁粉改性剂包括改性组份I和改性组份II;所述改性组份I包括55~85重量份酰胺类化合物、10~50重量份第一高级脂肪酸酯和0.03~0.6重量份二维层状化合物;第一高级脂肪酸由第一脂肪酸和第一脂肪醇缩合而成,所述第一脂肪酸含有8~24个碳原子,所述第一脂肪醇含有1~6个碳原子,所述第一脂肪醇选自一元醇、二元醇或三元醇中的一种或多种;所述改性组份II包括0.3~2体积份第二高级脂肪酸酯和0.3~2体积份硼酸酯类化合物。该稀土铁基磁粉改性剂能够有效地提高钕铁硼磁体的磁性能。

Patent Agency Ranking