公开(公告)号：CN104400648B

公开(公告)日：2017-02-15

申请号：CN201410559431.1

申请日：2014-10-20

Applicant: 华南理工大学

Inventor： 李琴 ,  全照敏 ,  王清辉 ,  徐志佳

IPC: B24B49/00

Abstract: 本发明公开了一种复杂曲面抛光速度自适应控制方法，首先输入工件三维CAD模型并对加工区域进行划分，按照工件的形状分为凹加工区域、凸加工区域和平面区域；按照抛光轮与工件接触的形状分为椭圆接触和平面接触。其次提取加工点的基本信息，若为椭圆接触，则计算椭圆接触区域加工点的主曲率半径，否则不进行计算。最后根据加工区域及接触情况的不同，依据材料去除模型建立不同的抛光速度计算模型。该方法解决了恒切向速度抛光复杂曲面时出现的抛光不均匀的现象，保证了材料去除量的一致性，适用于复杂曲面的自动抛光。

公开(公告)号：CN104400648A

公开(公告)日：2015-03-11

申请号：CN201410559431.1

申请日：2014-10-20

Applicant: 华南理工大学

Inventor： 李琴 ,  全照敏 ,  王清辉 ,  徐志佳

IPC: B24B49/00

CPC classification number: B24B49/00

Abstract: 本发明公开了一种复杂曲面抛光速度自适应控制方法，首先输入工件三维CAD模型并对加工区域进行划分，按照工件的形状分为凹加工区域、凸加工区域和平面区域；按照抛光轮与工件接触的形状分为椭圆接触和平面接触。其次提取加工点的基本信息，若为椭圆接触，则计算椭圆接触区域加工点的主曲率半径，否则不进行计算。最后根据加工区域及接触情况的不同，依据材料去除模型建立不同的抛光速度计算模型。该方法解决了恒切向速度抛光复杂曲面时出现的抛光不均匀的现象，保证了材料去除量的一致性，适用于复杂曲面的自动抛光。