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公开(公告)号：CN116273730A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310044885.4
申请日：2023-01-30
Applicant: 南京贝迪新材料科技股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种超薄量子点膜的精密涂布装置及工艺，涉及精密涂布领域。一种超薄量子点膜的精密涂布装置，包括有底座，底座上固定连接有框架，框架上设置有放料卷，框架上固定连接有张力控制伺服电机，框架上滑动连接有压力传动辊，框架上固定连接有压力传感器，压力传动辊与压力传感器之间固定连接有拉簧，框架滑动连接有张力调节辊，框架固定连接有第一伺服电机，压力传感器与第一伺服电机电连接，框架转动连接有第一丝杠。压力传动辊与压力传感器配合带动张力调节辊向下进行滑动，通过抵消张力变化引起的形变进而防止张力增大使基膜发生不可复原的拉伸，隔绝张力变化，使量子点膜涂布均匀，提高量子点膜自身性质。
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公开(公告)号：CN114789122B
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202210379419.7
申请日：2022-04-12
Applicant: 南京贝迪新材料科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于光学膜生产的涂布设备，包括底座和间歇输出的流水线，所述底座的顶部设置有可调整高度的基板，所述底座两侧顶部固定连接有两个不干涉物料输出的挡板，所述底座的上方设置有可向下位移的顶盖，所述顶盖的内部设置有向下输出热量的固化机构，所述顶盖两侧的外壁固定连接有封堵板，所述顶盖与封堵板构成密封盖，所述密封盖与底座的顶部接触贴合时，所述底座、挡板、顶盖和封堵板之间构成相对密封空间，还包括将相对密封空间内抽真空的机构，其中，所述相对密封空间形成时流水线暂停输出，本发明能够在涂布油墨后，将油墨的涂布区域封闭在低氧含量的相对密封空间内，同时对涂布的油墨进行固化烘干，减少有害物质的产生。
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公开(公告)号：CN114509897A
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN202210151854.4
申请日：2022-02-18
Applicant: 南京贝迪新材料科技股份有限公司
IPC: G02F1/13357 , G02B1/14 , G03F7/00 , G02B3/00
Abstract: 本发明公开了一种量子点增亮复合膜及其制备方法。所述量子点增亮复合膜包括量子点层、复合增亮层；复合增亮层包括微棱镜层、冠状透镜层；微棱镜层沉积于量子点层上表面，包括若干微棱镜，每个微棱镜的顶角为70‑90度，相邻微棱镜间距为20‑40微米；冠状透镜层包括贴合于微棱镜层上的基膜，及沉积于基膜上的若干冠状透镜，所述冠状透镜的侧面形状为球形；底面形状为圆形或正多边形，且其底面最大长度范围为25‑60微米。所述量子点增亮复合膜具有整体厚度更薄的优点，且可防止现有增亮层磨损引起的出光强度及出光均匀性降低的问题。所述制备方法采用全溶液涂布工艺，工艺流程简单、工艺成本低廉，且获得的量子点增亮复合膜可靠性高。
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公开(公告)号：CN114682446B
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202210284718.2
申请日：2022-03-22
Applicant: 南京贝迪新材料科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种光学膜涂布生产设备，包括底板，所述底板前后两侧的顶部均固定有支撑杆，两个所述支撑杆相对面的外壁通过固定杆共同固定有横板，所述横板的底部安装有Y形管，所述Y形管包括竖管和连通在竖管两侧外壁的叉管，两个所述叉管的顶端通过安装杆分别安装在横板两侧的底部。本发明通过通过图像接收器接收透过光学膜的光图像，通过观察光图像，达到了对光学膜上的瑕疵或者是胶层涂布的均匀度进行检测的效果，并且由于发光器件在靠近光学膜的同时，透过光学膜的光图像会有一个由暗逐渐变亮的动态变化，这样可以使图像上形成的黑点有动态变化，使其显现更加明显，可以进一步提高对其检测的准确性。
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公开(公告)号：CN115195144B
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202210758715.8
申请日：2022-06-29
Applicant: 南京贝迪新材料科技股份有限公司
Abstract: 本发明涉及双层膜复合生产技术领域，尤其涉及一种具有胶水均匀覆涂功能的量子点膜与BLT薄膜复合装置。本发明的技术问题是：胶水不能均匀涂抹平整，导致BLT薄膜在贴合量子点薄膜时容易产生气泡，降低复合薄膜的成品质量，在生产时，使两个薄膜贴合会产生水平的分力，使两个薄膜发生偏移，降低贴合品质。一种具有胶水均匀覆涂功能的量子点膜与BLT薄膜复合装置，包括有第一支架，第一支架上侧面的左部设有涂胶机构，第一支架上侧面的右部设有预接触机构。本发明通过设置的涂胶机构，避免了BLT薄膜与量子点膜接触时，胶水分布不均匀导致复合膜存有气泡，降低复合膜的品质；通过设置的预接触机构，避免贴合时BLT薄膜和量子点膜层之间产生滑移。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115635689B
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202211188410.4
申请日：2022-09-27
Applicant: 南京贝迪新材料科技股份有限公司
Abstract: 本发明涉及复合膜压合技术领域，具体而言，涉及一种BLT与量子点膜复合用防止弹性形变滑移的压合装置。旨在解决直接将量子点膜放置在BLT薄膜上压合会产生大量的气泡和聚合物胶的堆积，会造成聚合物胶分布不均，且量子点膜和BLT薄膜均有弹力会产生一定的弹性形变的技术问题。一种BLT与量子点膜复合用防止弹性形变滑移的压合装置，包括有底板，底板的上侧面安装有工作台，工作台内安装有用于BLT薄膜与量子点膜复合的压合组件，底板的上侧面安装有用于提供动力的旋转组件。本发明通过压合组件和复合组件配合，对BLT薄膜和量子点膜进行间歇性复合，避免直接将量子点膜覆盖在BLT薄膜上复合，致使复合后的复合膜内存有大量的气泡和聚合物胶堆积。
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公开(公告)号：CN114789122A
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN202210379419.7
申请日：2022-04-12
Applicant: 南京贝迪新材料科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于光学膜生产的涂布设备，包括底座和间歇输出的流水线，所述底座的顶部设置有可调整高度的基板，所述底座两侧顶部固定连接有两个不干涉物料输出的挡板，所述底座的上方设置有可向下位移的顶盖，所述顶盖的内部设置有向下输出热量的固化机构，所述顶盖两侧的外壁固定连接有封堵板，所述顶盖与封堵板构成密封盖，所述密封盖与底座的顶部接触贴合时，所述底座、挡板、顶盖和封堵板之间构成相对密封空间，还包括将相对密封空间内抽真空的机构，其中，所述相对密封空间形成时流水线暂停输出，本发明能够在涂布油墨后，将油墨的涂布区域封闭在低氧含量的相对密封空间内，同时对涂布的油墨进行固化烘干，减少有害物质的产生。
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公开(公告)号：CN114682446A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202210284718.2
申请日：2022-03-22
Applicant: 南京贝迪新材料科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种光学膜涂布生产设备，包括底板，所述底板前后两侧的顶部均固定有支撑杆，两个所述支撑杆相对面的外壁通过固定杆共同固定有横板，所述横板的底部安装有Y形管，所述Y形管包括竖管和连通在竖管两侧外壁的叉管，两个所述叉管的顶端通过安装杆分别安装在横板两侧的底部。本发明通过通过图像接收器接收透过光学膜的光图像，通过观察光图像，达到了对光学膜上的瑕疵或者是胶层涂布的均匀度进行检测的效果，并且由于发光器件在靠近光学膜的同时，透过光学膜的光图像会有一个由暗逐渐变亮的动态变化，这样可以使图像上形成的黑点有动态变化，使其显现更加明显，可以进一步提高对其检测的准确性。
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公开(公告)号：CN115195144A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202210758715.8
申请日：2022-06-29
Applicant: 南京贝迪新材料科技股份有限公司
Abstract: 本发明涉及双层膜复合生产技术领域，尤其涉及一种具有胶水均匀覆涂功能的量子点膜与BLT薄膜复合装置。本发明的技术问题是：胶水不能均匀涂抹平整，导致BLT薄膜在贴合量子点薄膜时容易产生气泡，降低复合薄膜的成品质量，在生产时，使两个薄膜贴合会产生水平的分力，使两个薄膜发生偏移，降低贴合品质。一种具有胶水均匀覆涂功能的量子点膜与BLT薄膜复合装置，包括有第一支架，第一支架上侧面的左部设有涂胶机构，第一支架上侧面的右部设有预接触机构。本发明通过设置的涂胶机构，避免了BLT薄膜与量子点膜接触时，胶水分布不均匀导致复合膜存有气泡，降低复合膜的品质；通过设置的预接触机构，避免贴合时BLT薄膜和量子点膜层之间产生滑移。
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公开(公告)号：CN116273730B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202310044885.4
申请日：2023-01-30
Applicant: 南京贝迪新材料科技股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种超薄量子点膜的精密涂布装置及工艺，涉及精密涂布领域。一种超薄量子点膜的精密涂布装置，包括有底座，底座上固定连接有框架，框架上设置有放料卷，框架上固定连接有张力控制伺服电机，框架上滑动连接有压力传动辊，框架上固定连接有压力传感器，压力传动辊与压力传感器之间固定连接有拉簧，框架滑动连接有张力调节辊，框架固定连接有第一伺服电机，压力传感器与第一伺服电机电连接，框架转动连接有第一丝杠。压力传动辊与压力传感器配合带动张力调节辊向下进行滑动，通过抵消张力变化引起的形变进而防止张力增大使基膜发生不可复原的拉伸，隔绝张力变化，使量子点膜涂布均匀，提高量子点膜自身性质。
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