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公开(公告)号：CN102741517A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201080062405.8
申请日：2010-12-09
Applicant: 卡特彼勒公司
CPC classification number: F01N3/035 , F01N3/021 , F01N3/0807 , F01N3/103 , F01N3/2066 , F01N3/28 , F01N3/2892 , F01N13/0093 , F01N13/0097 , F01N13/011 , F01N13/017 , F01N2340/00 , F01N2450/30 , F01N2450/40 , F01N2470/04 , F01N2470/20 , F01N2490/06 , F01N2590/08 , Y02T10/24
Abstract: 一种废气后处理系统(14)，包括：壳体(18，218)，其具有能够从发动机(12)接收单独的进入废气流的两个或更多个入口(230，232)。系统(14)可包括两个或更多个第一废气处理装置(262，242)，其各自能够以第一方向接收所述单独的进入废气流之一。系统还可以包括：两个或更多个改向流动通道(248，254)，其能够将单独的废气流结合成以与所述第一方向成约180度的第二方向流动的合并的废气流；以及中间流动区域，其能够将所述合并的废气流分为两个或更多个单独的离开废气流。系统还可以包括两个或更多个第二废气处理装置(280，282)，其各自能够以与所述第二方向成约90度的第三方向接收所述单独的离开废气流之一。
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公开(公告)号：CN102741517B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201080062405.8
申请日：2010-12-09
Applicant: 卡特彼勒公司
CPC classification number: F01N3/035 , F01N3/021 , F01N3/0807 , F01N3/103 , F01N3/2066 , F01N3/28 , F01N3/2892 , F01N13/0093 , F01N13/0097 , F01N13/011 , F01N13/017 , F01N2340/00 , F01N2450/30 , F01N2450/40 , F01N2470/04 , F01N2470/20 , F01N2490/06 , F01N2590/08 , Y02T10/24
Abstract: 一种废气后处理系统(14)，包括：壳体(18，218)，其具有能够从发动机(12)接收单独的进入废气流的两个或更多个入口(230，232)。系统(14)可包括两个或更多个第一废气处理装置(262，242)，其各自能够以第一方向接收所述单独的进入废气流之一。系统还可以包括：两个或更多个改向流动通道(248，254)，其能够将单独的废气流结合成以与所述第一方向成约180度的第二方向流动的合并的废气流；以及中间流动区域，其能够将所述合并的废气流分为两个或更多个单独的离开废气流。系统还可以包括两个或更多个第二废气处理装置(280，282)，其各自能够以与所述第二方向成约90度的第三方向接收所述单独的离开废气流之一。
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公开(公告)号：CN102216578A
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN200980146124.8
申请日：2009-11-19
Applicant: 卡特彼勒公司
Inventor： 孙金辉 , S·穆帕拉普 , T·J·塔拉布尔斯基 , P·W·帕克
CPC classification number: F01N3/208 , F01N2560/06 , F01N2610/08 , F01N2610/14 , F01N2610/144 , F01N2610/1493 , Y02T10/24
Abstract: 公开了一种用于清除还原剂的方法。该方法包括借助分配装置(65)将还原剂分配到排气系统(12)中。该方法还包括通过将还原剂从所述分配装置驱动到还原剂源(35)来清洗所述分配装置。
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公开(公告)号：CN102216578B
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：CN200980146124.8
申请日：2009-11-19
Applicant: 卡特彼勒公司
Inventor： 孙金辉 , S·穆帕拉普 , T·J·塔拉布尔斯基 , P·W·帕克
CPC classification number: F01N3/208 , F01N2560/06 , F01N2610/08 , F01N2610/14 , F01N2610/144 , F01N2610/1493 , Y02T10/24
Abstract: 公开了一种用于清除还原剂的方法。该方法包括借助分配装置(65)将还原剂分配到排气系统(12)中。该方法还包括通过将还原剂从所述分配装置驱动到还原剂源(35)来清洗所述分配装置。
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