公开(公告)号：CN104555897A

公开(公告)日：2015-04-29

申请号：CN201410550919.8

申请日：2014-10-16

Applicant: 原子能和替代能源委员会

Inventor： 埃里克·奥里尔 ,  弗里德里克-格扎维埃·盖拉德 ,  卡琳·马库克斯

IPC: B81C1/00

CPC classification number: C25F3/12 ,  B81B2201/0214 ,  B81C1/00206 ,  B81C2201/0115 ,  C25F3/02

Abstract: 一种用于制作至少一个多孔区域(ZP)的工艺，所述至少一个多孔区域(ZP)在导电的有源层(6)的至少一部分中，有源层(6)形成堆叠的正面，堆叠层包括导电材料的背面(2)以及介于有源层(6)与背面(2)之间的绝缘层(4)，所述工艺包括以下步骤：a)在背面(2)与有源层(6)之间制作穿过绝缘层(2)的至少一个接触垫(14)；b)将堆叠放置在电化学槽中；c)在背面(2)与有源层(6)之间施加一个通过接触垫(14)的电流，以引起接触垫(14)附近的有有源层(6)的区域(ZP)的多孔化；d)形成微电子结构。

公开(公告)号：CN104326435B

公开(公告)日：2018-06-05

申请号：CN201410351867.1

申请日：2014-07-22

Applicant: 原子能和替代能源委员会

Inventor： 埃里克·奥里尔 ,  卡琳·马库克斯

IPC: B81B7/00 ,  B81C1/00

CPC classification number: B81B7/0061 ,  B81B7/007 ,  B81B2201/0214 ,  B81B2201/0292 ,  B81B2201/058 ,  B81B2207/07 ,  B81B2207/096 ,  B81C1/00269 ,  B81C1/00309 ,  B81C2203/0118 ,  G01N30/6095

Abstract: 本发明涉及具有流体通道的装置以及用于制造该装置的方法，所述装置包括基底，基底包括至少一个微电子和/或纳米电子结构和一个流体通道(2)，微电子和/或纳米电子结构包括至少一个敏感部分，流体通道(2)被限定在基底与帽盖(6)之间，其中，流体通道(2)包括至少两个开口以便实现所述通道中的流动，其中，微电子和/或纳米电子结构位于流体通道内部，其中，帽盖与基底在装配界面处装配，其中，所述装置包括所述微电子和/或纳米电子结构与所述流体通道(2)外部之间的至少一个电连接，其中，所述电连接(8)由穿过基底(4)并且位于所述微电子和/或纳米电子结构正下方而且与所述微电子和/或纳米电子结构接触的通孔形成。

公开(公告)号：CN104555897B

公开(公告)日：2018-02-16

申请号：CN201410550919.8

申请日：2014-10-16

Applicant: 原子能和替代能源委员会

Inventor： 埃里克·奥里尔 ,  弗里德里克-格扎维埃·盖拉德 ,  卡琳·马库克斯

IPC: B81C1/00

CPC classification number: C25F3/12 ,  B81B2201/0214 ,  B81C1/00206 ,  B81C2201/0115 ,  C25F3/02

Abstract: 一种用于制作至少一个多孔区域(ZP)的工艺，所述至少一个多孔区域(ZP)在导电的有源层(6)的至少一部分中，有源层(6)形成堆叠的正面，堆叠层包括导电材料的背面(2)以及介于有源层(6)与背面(2)之间的绝缘层(4)，所述工艺包括以下步骤：a)在背面(2)与有源层(6)之间制作穿过绝缘层(2)的至少一个接触垫(14)；b)将堆叠放置在电化学槽中；c)在背面(2)与有源层(6)之间施加一个通过接触垫(14)的电流，以引起接触垫(14)附近的有有源层(6)的区域(ZP)的多孔化；d)形成微电子结构。

公开(公告)号：CN104326435A

公开(公告)日：2015-02-04

申请号：CN201410351867.1

申请日：2014-07-22

Applicant: 原子能和替代能源委员会

Inventor： 埃里克·奥里尔 ,  卡琳·马库克斯

IPC: B81B7/00 ,  B81C1/00

CPC classification number: B81B7/0061 ,  B81B7/007 ,  B81B2201/0214 ,  B81B2201/0292 ,  B81B2201/058 ,  B81B2207/07 ,  B81B2207/096 ,  B81C1/00269 ,  B81C1/00309 ,  B81C2203/0118 ,  G01N30/6095

Abstract: 本发明涉及具有流体通道的装置以及用于制造该装置的方法，所述装置包括基底，基底包括至少一个微电子和/或纳米电子结构和一个流体通道(2)，微电子和/或纳米电子结构包括至少一个敏感部分，流体通道(2)被限定在基底与帽盖(6)之间，其中，流体通道(2)包括至少两个开口以便实现所述通道中的流动，其中，微电子和/或纳米电子结构位于流体通道内部，其中，帽盖与基底在装配界面处装配，其中，所述装置包括所述微电子和/或纳米电子结构与所述流体通道(2)外部之间的至少一个电连接，其中，所述电连接(8)由穿过基底(4)并且位于所述微电子和/或纳米电子结构正下方而且与所述微电子和/或纳米电子结构接触的通孔形成。