基于Compact Differential Evolution算法的光刻机掩模台微动台的机械参数软测量方法

    公开(公告)号:CN105137717B

    公开(公告)日:2018-08-24

    申请号:CN201510474801.6

    申请日:2015-08-05

    Abstract: 基于Compact Differential Evolution算法的光刻机掩模台微动台的机械参数软测量方法,属于半导体制造装备技术领域及机械参数测量领域。为了解决现有工件台微动部分机械参数估计算法精度差的问题。所述方法包括如下步骤:步骤一:根据掩模台微动台的机械机构及其理论设计,建立微动台的理想运动学模型,确定待测机械参数,建立掩模台微动台含差模型;步骤二:给定位置输入,驱动微动台运动产生位移,将实际输出位移与通过建立的掩模台微动台含差模型计算出的输出位移值做差,作为导优的目标函数;步骤三:根据目标函数,利用Compact Differential Evolution优化学习算法确定待辨识的机械参数。它用于微动台的机械参数求取。

    基于VxWorks上位机集中管理多级控制系统

    公开(公告)号:CN104181901B

    公开(公告)日:2016-07-06

    申请号:CN201410448520.9

    申请日:2014-09-04

    CPC classification number: Y02P90/02

    Abstract: 基于VxWorks上位机集中管理多级控制系统,属于多板卡之间通信以及同步控制领域。为了解决现有的控制系统对光刻机实际运行中多板卡之间通信以及同步协调控制能力差的问题。它包括它包括基于VxWorks的上位机、工控机、VME总线、次主控卡A、次主控卡B、次主控卡C及实现各功能的板卡。通过基于VxWorks的上位机向次主控卡A、次主控卡B、次主控卡C发送指令进行通信以及同步控制,次主控卡A、次主控卡B和次主控卡C分别控制相应的板卡通信以及同步,实现多级控制。本发明用于光刻机在实际运行中多板卡之间通信以及同步控制。

    基于差动测量的高精度气浮垂向调节机构

    公开(公告)号:CN104019940B

    公开(公告)日:2016-03-30

    申请号:CN201410277199.2

    申请日:2014-06-20

    Abstract: 基于差动测量的高精度气浮垂向调节机构,属于地面全物理仿真领域。为了解决在测量垂向运动机构测量气腔压力时压力传感器量程过大而带来的精度变差、非线性度及偏差相应增大的问题,所述气浮垂向调节机构由垂向运动机构、基准压力气腔、绝对压力传感器、相对压力传感器构成,垂向运动机构旁安置有基准压力腔,绝对压力传感器安置于基准压力腔内,垂向运动机构由垂向气浮轴承外套和垂向气浮轴承内套组成,垂向气浮轴承外套和垂向气浮轴承内套之间为垂向气腔,相对压力传感器安置于垂向气腔与基准压力腔之间。本发明在测量垂向运动机构绝对压力时采用基准压力腔绝对压力与相对压力叠加的方式,具有较高的测量精度,可达到较为良好的实验效果。

    基于双频激光干涉仪的垂向伺服机构测量装置及方法

    公开(公告)号:CN104029829B

    公开(公告)日:2016-02-17

    申请号:CN201410277196.9

    申请日:2014-06-20

    Abstract: 基于双频激光干涉仪的垂向伺服机构测量装置及方法,属于物理仿真领域。所述伺服机构测量装置包括气路部分、线性电机部分、传感器部分和垂向运动部分。本发明通过高压气瓶为内套筒腔部提供恒压气体,并通过气压控制器调节比例阀开度使外套筒部分得到重力补偿;通过外部工控机发送位置指令给控制器,控制器控制定子内部磁场实现垂向运动,驱动动子带动外套筒垂向运动;双频激光干涉仪实时测量当前位移量,并根据压力、温度、湿度测量单元测量的当前气压、温度、湿度对测量值实时校正,从而控制线性电机部分实现外套筒的高精度垂向运动。本发明具有控制方便、摩擦力小、行程长、精度高等优点。

    一种工件台微动部分机械参数估计方法

    公开(公告)号:CN103366063B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201310295948.X

    申请日:2013-07-15

    CPC classification number: Y02T10/82

    Abstract: 一种工件台微动部分机械参数估计方法,主要涉及工件台微动部分机械参数估计方法。本发明是要解决光刻机工件台微动部分三个水平音圈电机的安装角度和质心位置难于通过传统精密仪器精确测量的问题。一、建立转换关系;二、建立位置关系;三、将位置关系二次求导;四、得出相对驱动力及转矩与曝光区域中心加速度的关系式;五、得出曝光中心位置和音圈电机驱动力之间的关系式;六、设定实际质心位置和安装角度;七、由平面几何关系得出L1-L10的实际值;八、利用步骤三中的方法计算实际Q;九、利用步骤一中的方法计算实际L;十、建立误差模型;十一、列写位移差方程;十二、通过试验测得[x′t y′t r′zt z′t r′xt r′y t]T;十三、仿真得[xt yt rzt zt rxt ryt]T;十四、解方程组得△x0,△y0,△z0,△θ1,△θ2,△θ3。本发明属于超精密制造领域。

    一种伺服系统滑模控制器参数整定方法

    公开(公告)号:CN105186959A

    公开(公告)日:2015-12-23

    申请号:CN201510527408.9

    申请日:2015-08-25

    Abstract: 一种伺服系统滑模控制器参数整定方法。本发明属于运动控制领域。它的方法步骤一:根据伺服系统的机械和电气结构建立伺服系统传递函数模型,获取模型中所需的参数;二:搭建相应的系统simulink仿真模型,留出粒子群优化算法所需的输入和输出接口;三:根据位置跟踪误差和速度跟踪误差需求;四:在matlab中编程对粒子群进行优化;五:将位置矢量对应的c,k和ε传入simulink仿真模型得到系统的位置误差和速度误差响应;六:对每个粒子的速度和位置进行更新;七:当k达到设定的最大迭代次数后,结束迭代过程,输出优化结果,否则返回步骤五;八:将全局最优位置矢量代入伺服系统滑模控制器。本发明能实现抖振的幅值最小或者抖振完全消除,跟踪误差达到最小。

    一种基于FPGA的BiSS-C通信协议方法

    公开(公告)号:CN105119907A

    公开(公告)日:2015-12-02

    申请号:CN201510433632.1

    申请日:2015-07-22

    CPC classification number: H04L69/02

    Abstract: 一种基于FPGA的BiSS-C通信协议方法,本发明属于传感器与控制卡之间传输通信的技术领域。它的方法步骤一:FPGA模块的时钟信号MA通过RS422接口发送到外部光栅式传感器的时钟输入端;步骤二:时钟信号MA的上升沿触发外部光栅式传感器的数据信号发送;步骤三:FPGA模块判断每一帧数据信号的Start位是否为高电平和“0”位是否为低电平,如果不是,则继续等待下一帧数据,如果是,则每一个时钟MA的上升沿串口接收一位数据;步骤四:将完整的一帧数据存储到FPGA模块的双口RAM储存器内;步骤五:双口RAM储存器内的数据实时的传送到DSP模块内。本发明属于硬件解码,FPGA解码能实现数据通信和寄存器两种功能,既能完成通信,又能存储数据,存储的数据用于其他程序的处理。

    基于VxWorks操作系统的动态内存泄漏检测方法及装置

    公开(公告)号:CN103455424B

    公开(公告)日:2015-12-02

    申请号:CN201310428609.4

    申请日:2013-09-18

    Abstract: 基于VxWorks操作系统的动态内存泄漏检测方法及装置,涉及一种动态内存泄漏检测方法及装置。为了解决目前动态内存泄漏检测的检错效率低且速度慢的问题。它通过改写内存分配函数malloc()和内存释放函数free()得到函数LC_malloc()和函数LC_free(),以日志的形式记录分配和释放信息,实现动态内存的跟踪;通过TCP通信协议,使用数据发送缓冲队列,将日志信息从安装有VxWorks操作系统的工控机上传到上位机;在上位机中,从日志文件中读入日志事件项,并对比内存的分配和释放,从日志文件中分析并检测出内存泄露。它适用于动态内存泄漏检测。

    光刻机工件台的一体式平衡质量装置

    公开(公告)号:CN104991425A

    公开(公告)日:2015-10-21

    申请号:CN201510465244.1

    申请日:2015-07-31

    Abstract: 光刻机工件台的一体式平衡质量装置,属于半导体制造装备技术领域,本发明为解决现有光刻机平衡技术采用两个平衡质量块存在同步设计难度大的问题。本发明包括基础框架、平衡质量块、垂向气浮垫、Y向直线电机导轨部分、X向运动机构、平衡质量块直线电机部分六个部分。平衡质量块底面四个角上分别固定一个垂向气浮垫,用以通过气浮隔离底部的基础框架从而实现系统的隔振与低摩擦运动。平衡质量块上平面上安装两条Y向直线电机的导轨,作为Y向直线电机的定子部分,X向导轨部分安装在Y向直线电机导轨上,平衡质量块电机驱动平衡质量块运动,从而对由于X向导轨反作用力造成的平衡质量块的偏移进行补偿,使平衡质量块重新回到平衡位置。

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