-
公开(公告)号：CN104054009B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201280065037.1
申请日：2012-12-27
Applicant: 蒙特利尔综合理工学院公司 , 埃西勒国际通用光学公司
CPC classification number: G02B1/11 , C03C17/38 , C03C2217/734 , C03C2217/948 , G02B1/105 , G02B1/111 , G02B1/115 , G02B1/14 , G02B1/16 , G02B1/18 , G02C7/022
Abstract: 本发明涉及一种物品，该物品包括一个具有用多层干涉涂层涂布的至少一个主表面的衬底，所述涂层包括一个具有低于或等于1.55的折射率的层A。该物品的特征在于：层A或者形成了外干涉涂层或者形成了与外干涉涂层直接接触的中间层，所述外干涉涂层具有小于或等于1.55的折射率的层B；层A是通过离子束沉积处于气态形式的来自至少一种化合物C的活化的物种获得的并且在其结构中含有至少一个硅原子、至少一个碳原子、至少一个氢原子以及，任选地，至少一个氮原子和/或至少一个氧原子，在化合物A不含有氮和/或氧时层A在氮和/或氧的存在下进行沉积，并且层A不是由无机前体化合物形成的。
-
公开(公告)号：CN102449507A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201080022914.8
申请日：2010-03-26
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
CPC classification number: G02B1/00 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/11 , G02B1/116 , G02B1/16 , G02C7/00 , G02C7/02 , G02C7/104 , Y10T428/265 , Y10T428/31551
Abstract: 本发明涉及一种具有抗静电性能和抗反射或反射性能的光学制品，其包括具有至少一个主要表面的基材，所述主要表面涂覆有抗反射或反射涂层，所述涂层包括至少一个导电层，所述导电层含有至少30重量％氧化锡(SnO2)，基于导电层的总重量，所述导电层通过离子辅助进行沉积，并且所述基材吸水率等于或大于0.6重量％，基于基材的总重量，在预干燥所述基材、然后将其在50℃下100％相对湿度和大气压力的腔室中储存800小时后测定该吸水率。
-
公开(公告)号：CN106574982A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201480078533.X
申请日：2014-04-28
Applicant: 蒙特利尔综合理工学院公司 , 埃西勒国际通用光学公司
IPC: G02B1/111
CPC classification number: G02B1/111 , C23C14/083 , C23C14/12 , C23C14/30 , G02B1/041
Abstract: 本发明涉及一种物品，该物品包括具有至少一个主表面的基底，该至少一个主表面涂覆有通过至少一种氧化钛和至少一种有机硅酸盐化合物B的离子束辅助的真空沉积获得的材料的层A，所述材料具有在550nm下高于或等于1.8的折射率、在550nm下低于或等于0.02的消光系数k以及高于或等于0.046的H:E比，其中H和E分别指代该材料的硬度和该材料的弹性系数。
-
公开(公告)号：CN102449507B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201080022914.8
申请日：2010-03-26
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
CPC classification number: G02B1/00 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/11 , G02B1/116 , G02B1/16 , G02C7/00 , G02C7/02 , G02C7/104 , Y10T428/265 , Y10T428/31551
Abstract: 本发明涉及一种具有抗静电性能和抗反射或反射性能的光学制品，其包括具有至少一个主要表面的基材，所述主要表面涂覆有抗反射或反射涂层，所述涂层包括至少一个导电层，所述导电层含有至少30重量％氧化锡(SnO2)，基于导电层的总重量，所述导电层通过离子辅助进行沉积，并且所述基材吸水率等于或大于0.6重量％，基于基材的总重量，在预干燥所述基材、然后将其在50℃下100％相对湿度和大气压力的腔室中储存800小时后测定该吸水率。
-
公开(公告)号：CN101784915A
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：CN200880102530.X
申请日：2008-06-12
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
CPC classification number: G02B1/115 , C23C14/022 , C23C14/024 , C23C14/10 , C23C14/22 , C23C14/30 , C23C14/546 , G02B1/116 , G02B1/14 , G02B5/285 , G02C7/022 , G02C2202/16 , Y10T428/24942 , Y10T428/2495
Abstract: 本发明涉及一种具有抗反射性质的光学物品，其包括至少一个主表面涂覆有抗反射涂层的基材，所述抗反射涂层从基材开始包括：子层，其包括优选由相同材料形成的两相邻层，这些两相邻层的厚度之和大于或等于75nm；以及多层抗反射堆叠，其包括至少一层高折射率层和至少一层低折射率层，其中不在离子辅助下进行子层的所述两相邻层的第一层的沉积，以及在离子辅助下进行子层的所述两相邻层的第二层的沉积。本发明还涉及用于制造这样的光学物品的方法。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105324343B
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201480033244.8
申请日：2014-06-13
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
CPC classification number: G02B1/18 , C03C17/001 , C03C17/009 , C03C17/42 , C03C2217/734 , C03C2217/76 , C03C2217/948 , G02B1/105 , G02B1/111 , G02B1/115 , G02C7/022 , G02C2202/16
Abstract: 本发明涉及一种物品，该物品包括具有至少一个主表面的一个衬底，该至少一个主表面涂布有与一个疏水性外层B直接接触的一个层A，其特征在于所述层A通过在离子束下沉积源于至少一种化合物C的活化物种而获得，该至少一种化合物C呈气态形式，在其结构中含有：‑至少一个碳原子；‑至少一个氢原子；‑至少一个Si‑X基团，其中X是一个羟基或选自以下的一个可水解基团：H；卤素；烷氧基；芳氧基和酰氧基；‑NR1R2，其中R1和R2独立地表示一个氢原子、烷基或芳基；以及‑N(R3)‑Si，其中R3表示一个烷基或芳基，所述化合物C既不是四甲基二硅氧烷，也不是四乙氧基硅烷、也不是乙烯基甲基二乙氧基硅烷、也不是六甲基环三硅氮烷，所述层A不是由无机前体化合物形成的。
-
公开(公告)号：CN105324343A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201480033244.8
申请日：2014-06-13
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
CPC classification number: G02B1/18 , C03C17/001 , C03C17/009 , C03C17/42 , C03C2217/734 , C03C2217/76 , C03C2217/948 , G02B1/105 , G02B1/111 , G02B1/115 , G02C7/022 , G02C2202/16
Abstract: 本发明涉及一种物品，该物品包括具有至少一个主表面的一个衬底，该至少一个主表面涂布有与一个疏水性外层B直接接触的一个层A，其特征在于所述层A通过在离子束下沉积源于至少一种化合物C的活化物种而获得，该至少一种化合物C呈气态形式，在其结构中含有：-至少一个碳原子；-至少一个氢原子；-至少一个Si-X基团，其中X是一个羟基或选自以下的一个可水解基团：H；卤素；烷氧基；芳氧基和酰氧基；-NR1R2，其中R1和R2独立地表示一个氢原子、烷基或芳基；以及-N(R3)-Si，其中R3表示一个烷基或芳基，所述化合物C既不是四甲基二硅氧烷，也不是四乙氧基硅烷、也不是乙烯基甲基二乙氧基硅烷、也不是六甲基环三硅氮烷，所述层A不是由无机前体化合物形成的。
-
公开(公告)号：CN104054009A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201280065037.1
申请日：2012-12-27
Applicant: 蒙特利尔综合理工学院公司 , 埃西勒国际通用光学公司
CPC classification number: G02B1/11 , C03C17/38 , C03C2217/734 , C03C2217/948 , G02B1/105 , G02B1/111 , G02B1/115 , G02B1/14 , G02B1/16 , G02B1/18 , G02C7/022
Abstract: 本发明涉及一种物品，该物品包括一个具有用多层干涉涂层涂布的至少一个主表面的衬底，所述涂层包括一个具有低于或等于1.55的折射率的层A。该物品的特征在于：层A或者形成了外干涉涂层或者形成了与外干涉涂层直接接触的中间层，所述外干涉涂层具有小于或等于1.55的折射率的层B；层A是通过离子束沉积处于气态形式的来自至少一种化合物C的活化的物种获得的并且在其结构中含有至少一个硅原子、至少一个碳原子、至少一个氢原子以及，任选地，至少一个氮原子和/或至少一个氧原子，在化合物A不含有氮和/或氧时层A在氮和/或氧的存在下进行沉积，并且层A不是由无机前体化合物形成的。
-
公开(公告)号：CN101784915B
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN200880102530.X
申请日：2008-06-12
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
CPC classification number: G02B1/115 , C23C14/022 , C23C14/024 , C23C14/10 , C23C14/22 , C23C14/30 , C23C14/546 , G02B1/116 , G02B1/14 , G02B5/285 , G02C7/022 , G02C2202/16 , Y10T428/24942 , Y10T428/2495
Abstract: 本发明涉及一种具有抗反射性质的光学物品，其包括至少一个主表面涂覆有抗反射涂层的基材，所述抗反射涂层从基材开始包括：子层，其包括优选由相同材料形成的两相邻层，这些两相邻层的厚度之和大于或等于75nm；以及多层抗反射堆叠，其包括至少一层高折射率层和至少一层低折射率层，其中不在离子辅助下进行子层的所述两相邻层的第一层的沉积，以及在离子辅助下进行子层的所述两相邻层的第二层的沉积。本发明还涉及用于制造这样的光学物品的方法。
-
公开(公告)号：CN100473754C
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN03823900.0
申请日：2003-08-07
Applicant: 埃西勒国际通用光学公司
Abstract: 本发明的方法涉及在SiOxFy层上形成通过下述两种方法制得的二氧化硅SiO2和/或金属氧化物保护层：通过离子束辅助的气相沉积法，包括用由稀有气体、氧气或两种或多种这类气体的混合物形成的阳离子束轰击形成的层；或通过阴极溅射硅层或金属层然后对硅层或金属层进行氧化步骤的方法。本发明可用于制造抗反射涂层。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
11
records
(took 0.03 seconds)
