显示装置及其制造方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101681955B

    公开(公告)日:2011-09-14

    申请号:CN200880020103.7

    申请日:2008-07-11

    Abstract: 本发明涉及显示装置及其制造方法。本发明提供能够抑制光电二极管的输出特性的偏差的有源矩阵基板和使用这种有源矩阵基板的显示装置。使用具备n-TFT(20)和p-TFT(30)和光电二极管(10)的有源矩阵基板(1)。光电二极管(10)具备p层(7)、i层(8)、n层(9)。i层(8)在与p层(7)相邻的位置,具备p型杂质的扩散浓度以与n-TFT(20)的沟道区域(23)的p型杂质的扩散浓度相等的方式设定的p型半导体区域(8a),在与n层(9)相邻的位置,具备n型杂质的扩散浓度以与p-TFT(30)的沟道区域(33)的n型杂质的扩散浓度相等的方式设定的n型半导体区域(8b)。

    液晶显示装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101523277B

    公开(公告)日:2012-04-18

    申请号:CN200780038124.7

    申请日:2007-06-21

    Abstract: 本发明提供一种液晶显示装置,其能够抑制光电二极管中暗电流的发生。因此,在具有有源矩阵基板的液晶显示面板(1)和对液晶显示面板照明的背光源(13)的液晶显示装置中,在有源矩阵基板(1)具备,利用设置在基底基板(5)的硅膜形成的光电二极管(7)和对光电二极管(7)遮蔽来自背光源(13)的照明光(29)的遮光膜(8)。遮光膜(8)由半导体或者绝缘体形成。优选光电二极管(7)例如由多晶硅或连续晶界结晶硅形成,使其具有入射光的波长越短灵敏度越高的特性。遮光膜(8)由入射光的波长越短入射光的透过率越低的硅膜,例如非晶硅形成。

    液晶显示装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101523277A

    公开(公告)日:2009-09-02

    申请号:CN200780038124.7

    申请日:2007-06-21

    Abstract: 本发明提供一种液晶显示装置,其能够抑制光电二极管中暗电流的发生。因此,在具有有源矩阵基板的液晶显示面板(1)和对液晶显示面板照明的背光源(13)的液晶显示装置中,在有源矩阵基板(1)具备,利用设置在基底基板(5)的硅膜形成的光电二极管(7)和对光电二极管(7)遮蔽来自背光源(13)的照明光(29)的遮光膜(8)。遮光膜(8)由半导体或者绝缘体形成。优选光电二极管(7)例如由多晶硅或连续晶界结晶硅形成,使其具有入射光的波长越短灵敏度越高的特性。遮光膜(8)由入射光的波长越短入射光的透过率越低的硅膜,例如非晶硅形成。

    显示装置及其制造方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101681955A

    公开(公告)日:2010-03-24

    申请号:CN200880020103.7

    申请日:2008-07-11

    Abstract: 本发明涉及显示装置及其制造方法。本发明提供能够抑制光电二极管的输出特性的偏差的有源矩阵基板和使用这种有源矩阵基板的显示装置。使用具备n-TFT(20)和p-TFT(30)和光电二极管(10)的有源矩阵基板(1)。光电二极管(10)具备p层(7)、i层(8)、n层(9)。i层(8)在与p层(7)相邻的位置,具备p型杂质的扩散浓度以与n-TFT(20)的沟道区域(23)的p型杂质的扩散浓度相等的方式设定的p型半导体区域(8a),在与n层(9)相邻的位置,具备n型杂质的扩散浓度以与p-TFT(30)的沟道区域(33)的n型杂质的扩散浓度相等的方式设定的n型半导体区域(8b)。

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