公开(公告)号：CN119351962B

公开(公告)日：2025-03-28

申请号：CN202411910744.7

申请日：2024-12-24

Applicant: 安徽亦高光电科技有限责任公司

Inventor： 李俊华 ,  尤俊衡 ,  郭靖 ,  艾其波 ,  余全贵

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/50

Abstract: 本发明公开了一种金属件表面真空镀膜设备及真空镀膜方法，涉及真空镀覆技术领域，包括外仓以及通过转动轴转动安装在外仓上的仓盖，还包括靶材以及基材；所述外仓内部固定安装有内仓，所述内仓分为两半，其中一半位于外仓内，另一半位于仓盖内，所述内仓底部固定安装有注气盘，所述注气盘上开设有多个注气孔，所述外仓外部固定安装有真空泵，所述真空泵与内仓之间通过气管相连通。优点在于：本发明在进行基材镀膜时，不仅可有效地降低靶材受热不均导致覆膜质量差的概率，还可对靶材上溅射出来的离子进行集中发射，对基材进行局部覆膜，覆膜均匀性更高，且离子附着强度更大，后期覆膜脱落概率低，覆膜质量更高。

公开(公告)号：CN119351962A

公开(公告)日：2025-01-24

申请号：CN202411910744.7

申请日：2024-12-24

Applicant: 安徽亦高光电科技有限责任公司

Inventor： 李俊华 ,  尤俊衡 ,  郭靖 ,  艾其波 ,  余全贵

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/50

Abstract: 本发明公开了一种金属件表面真空镀膜设备及真空镀膜方法，涉及真空镀覆技术领域，包括外仓以及通过转动轴转动安装在外仓上的仓盖，还包括靶材以及基材；所述外仓内部固定安装有内仓，所述内仓分为两半，其中一半位于外仓内，另一半位于仓盖内，所述内仓底部固定安装有注气盘，所述注气盘上开设有多个注气孔，所述外仓外部固定安装有真空泵，所述真空泵与内仓之间通过气管相连通。优点在于：本发明在进行基材镀膜时，不仅可有效地降低靶材受热不均导致覆膜质量差的概率，还可对靶材上溅射出来的离子进行集中发射，对基材进行局部覆膜，覆膜均匀性更高，且离子附着强度更大，后期覆膜脱落概率低，覆膜质量更高。