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公开(公告)号：CN113278937B
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202110557699.1
申请日：2021-05-21
Applicant: 安徽亦高光电科技有限责任公司
Abstract: 本发明公开了一种功能膜生产工艺及设备，通过溅射镀膜法在基底表面依次镀高折射率材料膜层和低折射率材料膜层交替设计叠加构成的功能膜，所述功能膜在基底表面依次镀有TiO2、SiO2、TiO2、SiO2、Si3N4、SiO2六层镀膜层，包括真空室、基片架、镀前清洗机、AF前清洗机，所述真空室内设置有360°旋转平台，所述真空室绕圆周依次设置有真空过渡腔体、真空镀膜腔体，所述真空室通过环形设计与出片室、补充台、出片台、出片旋转接送片台、基片架回线台、进片旋转接送片台、进片台、进片室依次相连构成循环回路，该功能膜在材料和设备的改进下使得莫氏硬度能够达到大于5.5，现在的盖板类产品镀功能膜层的需求越来越多，在同样光学要求上硬度越高意味着镀膜产品更有市场竞争力。
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公开(公告)号：CN119351962B
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202411910744.7
申请日：2024-12-24
Applicant: 安徽亦高光电科技有限责任公司
Abstract: 本发明公开了一种金属件表面真空镀膜设备及真空镀膜方法，涉及真空镀覆技术领域，包括外仓以及通过转动轴转动安装在外仓上的仓盖，还包括靶材以及基材；所述外仓内部固定安装有内仓，所述内仓分为两半，其中一半位于外仓内，另一半位于仓盖内，所述内仓底部固定安装有注气盘，所述注气盘上开设有多个注气孔，所述外仓外部固定安装有真空泵，所述真空泵与内仓之间通过气管相连通。优点在于：本发明在进行基材镀膜时，不仅可有效地降低靶材受热不均导致覆膜质量差的概率，还可对靶材上溅射出来的离子进行集中发射，对基材进行局部覆膜，覆膜均匀性更高，且离子附着强度更大，后期覆膜脱落概率低，覆膜质量更高。
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公开(公告)号：CN119411096A
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202510005364.7
申请日：2025-01-03
Applicant: 安徽亦高光电科技有限责任公司
Abstract: 本发明公开一种真空镀膜设备及镀膜工艺，具体涉及镀膜技术领域，该真空镀膜设备，包括镀膜腔，在镀膜腔前端两侧分别通过铰链转动安装有一号闭合门、二号闭合门，在一号闭合门、二号闭合门内均设置有避让区。本发明通过隔离层完成镀膜腔的主动封闭，避免了镀膜腔内出现破空状况，提高了镀膜效率，同时减少了外界环境的接触，降低了环境落尘、杂质或其他污染物影响产品的外观的几率，同时真空机构能够主动的切换至沉积区、避让区，完成两个区域的真空处理，保持沉积区、避让区内的真空状态，使得隔离层携带两个循环机构转动时不会出现破空的问题，无需反复的针对整个镀膜腔完成真空复原，优化了镀膜步骤，提高了良品率。
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公开(公告)号：CN117848000A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202311701202.4
申请日：2023-12-12
Applicant: 安徽亦高光电科技有限责任公司
Abstract: 本发明公开了功能膜冷风干燥装置，包括壳体，所述壳体的下端安装有多个支撑架，所述壳体的底部空间左右两侧均开设有条状口，两个所述条状口的前后内壁间均转动连接有第一辊体，所述壳体的前后内壁间转动连接有两个第二辊体，两个所述第一辊体和两个第二辊体上共同绕设有功能膜本体；风干机构，所述风干机构包括安装在壳体后侧的风机，所述壳体内部设置有环状空心条，所述环状空心条为矩形环状。该干燥装置利用间歇性鼓风机构与移动机构的配合，可以在风干前，将膜体表面大部分的水体抖落，提高了后续的干燥速度，同时，可对两面进行同时干燥，进一步的提高了干燥的全面性和速度。
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公开(公告)号：CN117732271A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202311701203.9
申请日：2023-12-12
Applicant: 安徽亦高光电科技有限责任公司
Abstract: 本发明公开了高效过滤功能膜制备方法，包括以下步骤：步骤1、原料的选取；步骤2、原料的混合；步骤3、支撑胚体的制备；步骤4、浆料的制备；步骤5、过滤膜的成型。本发明还公开了高效过滤功能膜制备装置，所述制备装置为烘干装置，所述烘干装置包括壳体，所述壳体的前侧安装有第一密封门，所述壳体内等间距固定连接有多个水平网板，每个所述水平网板的上端均对称固定连接有两个支撑肋条，所述壳体的右侧由上而下依次固定连接有干燥盒、循环风机和降温盒，所述循环风机的进风端连通有第三连接管。该制备方法利用材质特性和烘干流程，有效的提高了成品过滤膜的稳定性，保证了其成品质量，另外，该制备装置有效的提高了制备效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118621278A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202310221873.4
申请日：2023-03-09
Applicant: 安徽亦高光电科技有限责任公司
Abstract: 本发明公开了一种高耐磨功能薄膜的制备方法，包括打底层、调色层、氮化碳膜层和耐磨层；基材正面沉积Sio2层作为打底层，接着镀调色层，采用Si3N4层、Sio2层交替组合的2层以上膜系，接着镀氮化碳膜层，最后蒸镀耐磨层。本发明使用碳硅综合膜系改善其硬度和耐磨测试指标；膜系第一层使用sio2层打底层缓冲，第二层再叠加调色层，改善膜层颜色和光学透过效果，然后镀氮化碳膜层作为超硬耐磨功能层，叠加耐磨层实现耐磨效果增强。
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公开(公告)号：CN113278937A
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN202110557699.1
申请日：2021-05-21
Applicant: 安徽亦高光电科技有限责任公司
Abstract: 本发明公开了一种功能膜生产工艺及设备，通过溅射镀膜法在基底表面依次镀高折射率材料膜层和低折射率材料膜层交替设计叠加构成的功能膜，所述功能膜在基底表面依次镀有TiO2、SiO2、TiO2、SiO2、Si3N4、SiO2六层镀膜层，包括真空室、基片架、镀前清洗机、AF前清洗机，所述真空室内设置有360°旋转平台，所述真空室绕圆周依次设置有真空过渡腔体、真空镀膜腔体，所述真空室通过环形设计与出片室、补充台、出片台、出片旋转接送片台、基片架回线台、进片旋转接送片台、进片台、进片室依次相连构成循环回路，该功能膜在材料和设备的改进下使得莫氏硬度能够达到大于5.5，现在的盖板类产品镀功能膜层的需求越来越多，在同样光学要求上硬度越高意味着镀膜产品更有市场竞争力。
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公开(公告)号：CN113151799A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202110557721.2
申请日：2021-05-21
Applicant: 安徽亦高光电科技有限责任公司
Abstract: 一种镀膜机，其特征在于：包括真空室、基片架、镀前清洗机、AF前清洗机，所述真空室内设置有旋转平台，所述真空室绕圆周均匀设置有真空镀膜腔，所述真空室为高1.8m、直径3m的圆心结构，使得真空室体积处于6‑18m3之间。所述真空室为圆形立柱，内部下端安装有360旋转轨道，所述轨道上设置有旋转轴承，所述旋转轴承下方设置有轴承电机，所述轴承电机与所述旋转轴承控制连接，所述真空室上端设置有传输轨道，所述传输轨道根据设备镀膜腔数量对应分为若干链接点，所述链接点上均设置有光电感应器，本发明为一种高适应性、高效率、高质量的新型镀膜机。
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公开(公告)号：CN119411096B
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202510005364.7
申请日：2025-01-03
Applicant: 安徽亦高光电科技有限责任公司
Abstract: 本发明公开一种真空镀膜设备及镀膜工艺，具体涉及镀膜技术领域，该真空镀膜设备，包括镀膜腔，在镀膜腔前端两侧分别通过铰链转动安装有一号闭合门、二号闭合门，在一号闭合门、二号闭合门内均设置有避让区。本发明通过隔离层完成镀膜腔的主动封闭，避免了镀膜腔内出现破空状况，提高了镀膜效率，同时减少了外界环境的接触，降低了环境落尘、杂质或其他污染物影响产品的外观的几率，同时真空机构能够主动的切换至沉积区、避让区，完成两个区域的真空处理，保持沉积区、避让区内的真空状态，使得隔离层携带两个循环机构转动时不会出现破空的问题，无需反复的针对整个镀膜腔完成真空复原，优化了镀膜步骤，提高了良品率。
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公开(公告)号：CN117960481A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202311795633.1
申请日：2023-12-25
Applicant: 安徽亦高光电科技有限责任公司
Abstract: 本发明涉及超声波和等离子体协同处理功能膜制造技术领域，特别涉及超声波和等离子体协同处理功能膜制备方法及设备，包括底座，所述底座的底部固定连接有支撑杆，所述底座的外侧固定连接有控制器，所述底座的内部安装有运输机，所述运输机的顶部放置有玻璃工件，所述底座的顶部固定连接有龙门架，所述龙门架的外侧固定连接有一号电机，所述一号电机的输出端固定连接有丝杆，本发明结构简单，使用方便，能够在超声波喷涂前，自动对工件进行清洁处理，并且能够达到均匀高效清洁的结果，同时在超声波喷涂前，会对喷涂箱内部的涂料进行搅拌处理，并且能够使涂料箱内部的温度始终保持在合适制膜的温度。
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