一种晶片双面清洁设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119016468A

    公开(公告)日:2024-11-26

    申请号:CN202411383123.8

    申请日:2024-09-30

    Inventor: 邵毅 冯校亮 王刚

    Abstract: 本发明提供一种晶片双面清洁设备,本发明涉及晶片清洁技术领域,包括支撑平台,所述支撑平台上端安装有对再生晶片限位并且控制再生晶片围绕自身轴线定向转动的驱动装置,还包括对再生晶片表面清洁的清理条以及对清理条进行导向的导向结构,所述导向结构包括两组第一导向装置以及一组第二导向装置,两组所述第一导向装置位于驱动装置两侧对称布置,所述第二导向装置位于驱动装置上方预定位置;所述清理条依次穿过第一个第一导向装置、第二导向装置、第二个第一导向装置形成倒置的V字形结构。该发明能够实现对再生晶片双面的同步连续清洁,极大地提高了再生晶片清洁的效率。

    降低晶圆表面金属残留的清洗设备及12寸晶圆上的应用

    公开(公告)号:CN118588610A

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN202410858011.7

    申请日:2024-06-28

    Abstract: 本发明提供降低晶圆表面金属残留的清洗设备及12寸晶圆上的应用,包括清洗池以及用于转运内置晶圆片盒的转运装置,所述转运装置包括第一承载主体,所述第一承载主体内壁转动连接有第二承载主体,所述片盒设置于第二承载主体表面,所述第二承载主体外侧安装有限位承载装置,所述限位承载装置包括两个承载杆,所述承载杆沿着所述片盒长度方向延伸,所述限位承载装置还包括控制两个承载杆间距的第一调节组件以及控制两个承载杆与片盒间距的第二调节组件。该发明能够对不同尺寸大小的晶圆进行适应性调整,提高了晶圆批量清洁的效率以及质量。

    一种具有磁性自调节功能的晶圆快排槽

    公开(公告)号:CN119500719A

    公开(公告)日:2025-02-25

    申请号:CN202411682222.6

    申请日:2024-11-22

    Inventor: 王刚 邵毅 冯校亮

    Abstract: 本发明公开了一种具有磁性自调节功能的晶圆快排槽,涉及晶圆清洗技术领域。包括内腔底部安装有氮气曝气管的晶圆快排槽,所述晶圆快排槽上设置有喷淋管和用于对槽内去离子水进行电阻率检测的检测单元,所述晶圆快排槽靠近所述检测单元一侧的外壁上设置有磁体,所述磁体设置为电磁铁,还包括安装在所述晶圆快排槽上的自动调磁单元,根据所述晶圆快排槽内去离子水的温度变化自动调节所述磁体的磁性大小,以满足利用磁场驱离氮气泡的要求。性通过设置的自动调磁单元,根据晶圆快排槽内去离子水的温度变化自动调节磁体的磁性大小,以满足利用磁场驱离氮气泡的要求。

    一种再生晶圆高效清洗设备
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119275133A

    公开(公告)日:2025-01-07

    申请号:CN202411383118.7

    申请日:2024-09-30

    Inventor: 王刚 冯校亮 邵毅

    Abstract: 本发明提供一种再生晶圆高效清洗设备,本发明涉及晶圆清洗技术领域,包括第一承载主体,所述第一承载主体内部转动连接有第二承载主体,第二承载主体可拆卸连接有多个用于容纳晶圆的片盒,所述片盒与第二承载主体之间安装有锁紧装置,所述第二承载主体上端固定有两条条形限位凸起,所述条形限位凸起内侧开有条形限位槽;所述片盒包括两个对称布置的限位主体,所述限位主体下端开有两条与两个条形限位凸起相适配的限位开口,两个所述限位开口之间安装有可伸缩的液压锁紧装置,所述液压锁紧装置包括两个可伸出的液压锁紧末端,所述液压锁紧末端的末端与条形限位槽相适配。该发明简化了片盒安装拆卸的过程,提高了晶圆集中清洁的效率。

    一种晶圆盒清洗方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119500713A

    公开(公告)日:2025-02-25

    申请号:CN202411703750.5

    申请日:2024-11-26

    Abstract: 本发明提供了一种晶圆盒清洗方法,所述晶圆盒清洗方法包括以下步骤:(1)使用乙醇溶液涂覆于晶圆盒表面,然后将晶圆盒敞开置于活性剂中浸泡。(2)将步骤(1)浸泡后的晶圆盒使用氢氟酸浸泡。(3)将步骤(2)浸泡后的晶圆盒使用工业清洗液浸泡。(4)将步骤(3)浸泡后的晶圆盒再次使用活性剂浸泡。(5)将步骤(4)浸泡后的晶圆盒装载到清洗装置上清洗、烘干得到洁净的晶圆盒。在这个清洗方法中,乙醇溶液、活性剂、氢氟酸和工业清洗液被用于清洗晶圆盒表面,确保晶圆盒表面没有任何污染物。请注意,选择液体清洗剂时应谨慎,确保使用安全性较高的清洗剂,并严格遵守相应的安全操作规程。

    一种晶圆用回收处理装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119028879A

    公开(公告)日:2024-11-26

    申请号:CN202411183297.X

    申请日:2024-08-27

    Inventor: 邵毅 冯校亮

    Abstract: 本发明公开了一种晶圆用回收处理装置,包括内部带有电加热管的处理槽,还包括用于密封所述处理槽上端开口的密封板、热量交换的板式换热器以及设置在设所述处理槽内腔的多个自动倒料单元;所述密封板的下端设置有用于承载花篮的放置架以及用于对所述密封板高度进行调节的电动伸缩杆;所述板式换热器上设置有第一进料管、第一排料管、安装有送料泵的第二进料管以及第二排料管,所述第二排料管分别与多个所述送液管连接。本装置通过板式换热器使得第一混合酸液与第二混合酸液之间进行热量交换,使得交换后的第二混合酸液具有一定温度,可减小后续电加热管的电能损耗,起到节约电能的作用,两种酸处理均在同一处理槽中进行,减小了装置的占用空间。

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