感光性树脂组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、液晶显示装置及有机EL显示装置

    公开(公告)号:CN105917274A

    公开(公告)日:2016-08-31

    申请号:CN201480052174.0

    申请日:2014-09-25

    Abstract: 本发明提供一种可使耐化学品性良好、相对介电常数降低、进而使图案的尺寸稳定性良好的感光性树脂组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、液晶显示装置及有机EL显示装置。本发明的感光性树脂组合物含有(A)聚合物成分、(B)光酸产生剂、以及(C)溶剂,(A)聚合物成分包含下述(1)及(2)的至少一个:(1)含有(a1)具有酸基经酸分解性基保护的基团的结构单元、及(a2)具有交联性基的结构单元的聚合物(A1),及(2)含有结构单元(a1)的聚合物(A2)、及含有结构单元(a2)的聚合物(A3);且(3)聚合物(A1)~聚合物(A3)的至少一种为含有(a4)具有通过碱水解而产生羧基的基团的结构单元的聚合物,或(4)进而含有具有结构单元(a4)且不具有结构单元(a1)及结构单元(a2)的聚合物(A4);相对于构成(A)聚合物成分的所有结构单元,结构单元(a2)的比例为10摩尔%~40摩尔%,结构单元(a4)的比例为1.0摩尔%~20摩尔%。

    薄膜晶体管基板的制造方法及其应用

    公开(公告)号:CN105895661B

    公开(公告)日:2019-03-01

    申请号:CN201610087786.4

    申请日:2016-02-16

    Abstract: 本发明提供一种薄膜晶体管基板的制造方法及其应用,薄膜晶体管基板即使在以剥离液组合物进行处理之后硬化膜(有机膜)的体积电阻率依旧高。本发明的薄膜晶体管基板的制造方法依序包括至少步骤1~步骤6:步骤1:使用特定的硬化性组合物在薄膜晶体管基板上的至少一部分形成有机膜的步骤;步骤2:在有机膜上的至少一部分形成无机膜的步骤;步骤3:在无机膜上形成抗蚀剂层的步骤;步骤4:对抗蚀剂层进行曝光且显影的步骤;步骤5:经由经显影的抗蚀剂层对无机膜进行蚀刻的步骤;步骤6:使用特定的剥离液组合物将抗蚀剂层剥离除去的步骤。

    感光性树脂组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、液晶显示装置及有机EL显示装置

    公开(公告)号:CN105324718A

    公开(公告)日:2016-02-10

    申请号:CN201480035928.1

    申请日:2014-06-26

    Abstract: 本发明提供一种制成硬化膜时的耐化学品性良好且相对介电常数低的感光性树脂组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、液晶显示装置以及有机EL显示装置。本发明的感光性树脂组合物含有包含以下聚合物的聚合物成分、下述(S)成分、光酸产生剂、溶剂,所述聚合物满足包括具有酸基由酸分解性基所保护的基团的构成单元及具有交联性基的构成单元的聚合物、包含具有酸基由酸分解性基所保护的基团的构成单元的聚合物及包括具有交联性基的构成单元的聚合物的至少一个;并且(S)成分为如下化合物,其包括直链或分支的碳数6~20的脂肪族烃基(可在脂肪族烃基中具有选自-O-、-S-、环状亚烷基及亚芳基中的至少一种基团;其中,在具有2个以上的选自-O-、-S-、环状亚烷基及亚芳基中的基团的情况下,所述2个以上的基团并不邻接)以及具有选自烷氧基硅烷基、封闭型异氰酸酯基、封闭型异硫氰酸酯基、封闭型乙烯酮基、异氰酸酯基、异硫氰酸酯基、硫醇基及噁唑啉基、或者酯基、硫醚基、二硫化物基、酰胺基及氨基甲酸酯基中的至少一种基团的基团,且不具有羧基及醇性羟基,另外,即便与聚合物成分的酸基进行反应,也不产生羧基及醇性羟基的化合物。

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