公开(公告)号：CN118215550A

公开(公告)日：2024-06-18

申请号：CN202280075114.5

申请日：2022-12-14

Applicant: 尼康SLM方案股份公司

Inventor： 马尔科·斯坦德福斯 ,  卡斯顿·纽曼

IPC: B22F10/28 ,  B22F10/31 ,  B22F10/368 ,  B29C64/124 ,  B29C64/153 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  G05B19/401

Abstract: 用于校准光学系统(24)的装置，光学系统特别是用于通过照射原材料粉末层来生产三维工件的设备(100)，该装置包括：i)靶(32)，该靶被构造成在扫描器(22)的扫描器坐标系统内的已知位置处用由光学单元(16)所发射的辐射束(14)照射，该扫描器被构造成将辐射束(14)扫描在照射平面(I)上，以产生校准点(C)；ii)校准束发射装置，该校准束发射装置被构造成从校准点(C)沿待校准的光学系统(24)的方向发射校准束(36)；以及iii)调节装置，该调节装置被构造成允许光学系统(24)的校准，使得从校准点(C)所发射的校准束(36)的束路径与用于产生校准点(C)的辐射束(14)的束路径共线。