公开(公告)号：CN101038440A

公开(公告)日：2007-09-19

申请号：CN200710085765.X

申请日：2007-03-14

Applicant: 岛尼尔公司

Inventor： C·绍奇

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  C25D5/02 ,  G04B1/14 ,  G04B33/00

CPC classification number: C25D1/003 ,  B81B2201/035 ,  B81C99/0085 ,  B81C2201/032 ,  C25D1/20 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及用于以LIGA工艺制造单层或多层金属结构体的方法，其中将光致抗蚀剂层沉积在平坦金属衬底上，通过辐照或电子或离子轰击产生光致抗蚀剂模具，将金属或合金电镀在该模具中，将电铸的金属结构体从所述衬底脱离，并且从该金属结构体分离所述光致抗蚀剂，其中将所述金属衬底用作涉及形成金属结构体除了由所述衬底的平表面形成的表面以外的至少一个表面的媒介。