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公开(公告)号：CN105705458A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201480061374.2
申请日：2014-10-06
Applicant: 尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司
IPC: B81C99/00
CPC classification number: B81C99/0085 , B81B2201/035 , G04B13/00 , G04B13/02 , G04B15/14 , G04B17/063 , G04B17/066 , G04B19/042 , G04B19/12 , G04B29/027 , G04B37/22 , G04B39/004
Abstract: 本发明涉及一种用于制造由合成的碳同素异形体基材料(215，315，415)制成的单件式微机械部件(221，321，421，523，525)的方法，其特征在于，包括下述步骤：(a)形成基底(201，301，401)，该基底在至少三个层级(N1，N2，N3，NX)上包括待制造的所述微机械部件的凹腔(203，303，403)；(b)用所述合成的碳同素异形体基材料层覆盖基底(201，301，401)的所述凹腔(203，303，403)，该材料层的厚度(e1)小于所述腔的所述至少三个层级(N1，N2，N3，NX)中每一个的深度；和(c)移走所述基底(201，301，401)，以释放在所述凹腔中形成的单件式微机械部件(221，321，421，523，525)。
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公开(公告)号：CN103347809B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201280007435.8
申请日：2012-01-05
Applicant: 尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司
IPC: B81C99/00
CPC classification number: B81B1/006 , B81B2201/035 , B81C1/00634 , B81C99/0085 , Y10T74/19949
Abstract: 本发明涉及一种用单件材料生产微机械零件（11，21，31，41，51，61）的方法。该方法包括以下步骤：a）形成基材（1），所述基材包括用于制造所述微机械零件的负腔（3）；b）用材料的层（5）覆盖基材（1）的所述负腔；c）从基材（1）移除比所沉积的层（5）的厚度（e1）更大的厚度（e2），从而留下所述所沉积的层的位于所述负腔中的部分；d）移除基材（1），从而释放在所述负腔中形成的微机械零件（11，21，31，41，51，61）。
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公开(公告)号：CN101038440A
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN200710085765.X
申请日：2007-03-14
Applicant: 岛尼尔公司
Inventor： C·绍奇
CPC classification number: C25D1/003 , B81B2201/035 , B81C99/0085 , B81C2201/032 , C25D1/20 , G03F7/00
Abstract: 本发明涉及用于以LIGA工艺制造单层或多层金属结构体的方法，其中将光致抗蚀剂层沉积在平坦金属衬底上，通过辐照或电子或离子轰击产生光致抗蚀剂模具，将金属或合金电镀在该模具中，将电铸的金属结构体从所述衬底脱离，并且从该金属结构体分离所述光致抗蚀剂，其中将所述金属衬底用作涉及形成金属结构体除了由所述衬底的平表面形成的表面以外的至少一个表面的媒介。
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公开(公告)号：CN1304273C
公开(公告)日：2007-03-14
申请号：CN00818842.4
申请日：2000-12-04
Applicant: 西孝
Inventor： 西孝
CPC classification number: F16H55/22 , B23P15/14 , B81B2201/035 , B81C99/0085 , Y10T29/49462 , Y10T29/49467 , Y10T29/49469 , Y10T29/4948
Abstract: 本发明的旋转轴相对于基板表面平行的蜗杆的制造方法包括：将光敏试剂涂布到基板的上表面上的步骤，利用该光敏试剂作为掩模复制蚀刻用作齿轮的材料的步骤，沉积不同于齿轮的材料的步骤，在基板的上表面上涂布光敏试剂的步骤，显影并将光敏试剂固化的步骤，复制蚀刻所沉积的材料，形成齿轮的下半部的模具的步骤，在将要形成齿轮的基板的区域沉积齿轮材料，然后在所沉积的用于齿轮的材料的上表面上涂布光敏试剂的步骤，利用曝光量控制法在所涂布的光敏试剂上形成齿轮的上半部，利用复制蚀刻方法，复制形成形成于基底材料的光敏试剂上部部分的齿轮的上半部的形状的步骤，以及通过清除存在于基板和齿轮之间的材料形成一个余隙的步骤。
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公开(公告)号：CN109478035A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201780027722.8
申请日：2017-03-13
Applicant: LVMH瑞士制造公司
Inventor： 久伊·西蒙 , 托马斯·默西厄 , 休伊-安赫·恩`久延 , 卢斯蒂格·马尔蒂恩
CPC classification number: G04B17/26 , B81B5/00 , B81B2201/035 , B81B2201/037 , G04B1/22 , G04B15/02 , G04B15/06 , G04B15/14 , G04B17/045
Abstract: 钟表机构包括调节器(12)、能量分配件(10)、由调节器(12)控制以便交替锁定和释放能量分配件(10)的擒纵叉(11)以及弹性连接到擒纵叉和调节器的解耦件(13)。把解耦件设置为在两个止动元件(54，55)之间摆动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108602665A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201680072932.4
申请日：2016-10-11
Applicant: 瑞士电子显微技术研究和开发中心股份有限公司
CPC classification number: B81C1/00373 , B22F3/008 , B22F3/1055 , B22F7/08 , B33Y10/00 , B33Y80/00 , B81B2201/035 , B81C2201/0184 , C22C1/0416 , C22C1/0425 , C22C1/0433 , C22C1/0458 , C22C1/0466 , C22C33/02 , G04B13/02 , G04B15/14 , G04B17/063 , G04B37/22 , G04B45/00 , G04D7/1257 , Y02P10/295
Abstract: 本发明涉及一种用于生产计时部件的方法，所述计时部件包括至少一个第一部分，该至少一个第一部分通过精密加工方法或微成型方法以至少一种第一材料制成，所述方法至少包括：将所述计时部件的以至少一种第二材料制成的至少一个第二部分沉积在所述第一部分上而无需进行模制的步骤，以及对第二材料进行处理以将第一部分上的组件连接在一起的步骤。
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公开(公告)号：CN101573287B
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN200780041825.6
申请日：2007-11-01
Applicant: 伊塔瑞士钟表制造股份有限公司
IPC: B81C5/00
CPC classification number: B81C99/0095 , B81B2201/035 , B81C2201/019 , B81C2201/056 , B81C2203/038 , B81C2203/051 , G04B31/004 , G04D3/0069 , Y10T29/49579
Abstract: 本方法包括以下步骤：a)在第一硅片(1)中加工出第一元件(3)或多个所述第一元件(3)并通过材料桥(5)保持所述元件(3)连接在一起；b)用第二硅片(2)重复步骤a)以便加工出与第一元件(3)的形状不同的第二元件(4)，或者加工出多个所述第二元件(4)；c)借助定位装置(6、7)将第一和第二元件(3、4)或第一和第二硅片(1、2)面对面叠放；d)对形成于步骤c)的组合件进行氧化；以及e)从硅片(1、2)分离出零件(10)。通过本方法获得了钟表微机械零件。
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公开(公告)号：CN101861281A
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200880116149.9
申请日：2008-11-12
Applicant: 尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司
CPC classification number: F16H55/06 , B81B2201/035 , B81C99/0095 , B81C2201/0197 , C25D1/08 , C25D5/02 , C25D5/10 , G04B13/02 , G04B13/022 , G04B19/042 , Y10T74/1987
Abstract: 本发明涉及一种结合有DRIE和LIGA工艺的制造硅-金属复合微机械部件的方法(1)。本发明还涉及一种微机械部件(51)，该微机械部件包括一个层，具有硅部分(53)和金属部分(41)，从而形成复合微机械部件(51)。本发明可用于钟表机芯领域。
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公开(公告)号：CN1085667A
公开(公告)日：1994-04-20
申请号：CN93116450.8
申请日：1993-08-21
Applicant: 国际商业机器公司
Inventor： 范龙身 , 汉斯·赫尔姆特·扎普
CPC classification number: G03F7/11 , B81B2201/035 , B81B2201/037 , B81C99/0085 , G03F7/00 , H02N1/008
Abstract: 本方法包括选择一种衬底材料、在衬底材料上淀积一层保护材料、将保护层刻成图案以规定形状的步骤。在保护层上淀积一层光敏抗蚀材料，用反差增强光刻法，刻成图案以形成一光敏抗蚀型模并在其上电镀一层金属材料。电镀结构与光敏抗蚀层轮廓共形，而厚度可比通常的多晶硅微结构大许多倍。然后用蚀刻剂使光敏抗蚀型模和保护层溶去，以形成10—20微米厚的一个独立式金属结构，其纵横比可达9∶1到10∶1，甚至更高。
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公开(公告)号：CN103979483B
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：CN201410049720.7
申请日：2014-02-13
Applicant: 尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司
IPC: B81C1/00
CPC classification number: H03H3/0072 , B81B2201/035 , B81C99/008 , G03F7/00 , G03F7/0002 , G04B15/14 , Y10T29/49002
Abstract: 本发明涉及一种制造包括至少两个不同的功能性高度的一体式微机械构件（31，41，61，91）的方法。根据本发明，所述方法（1）包括在单个高度上的LIGA工艺以及对直接在衬底（2）上的LIGA沉积物进行机加工的工艺。
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