公开(公告)号：CN119931596A

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN202411884727.0

申请日：2024-12-20

Applicant: 广西产研神光先进光学研究中心有限公司 ,  广西产研院先进技术融合创新促进中心有限公司 ,  广西神光光学科技有限责任公司

Inventor： 刘东红 ,  李莹 ,  肖磊 ,  王堃 ,  王俊 ,  何宏谦 ,  孙记军 ,  耿铭壑 ,  朱兵 ,  陈隽文 ,  黄斯婷

IPC: C09K3/14

Abstract: 本发明公开一种高效金刚砂研磨液及其制备方法，由包括如下重量份的原料制成：金刚砂5‑10份、极压添加剂0.03‑0.12份、润滑剂0.06‑0.12份、防锈剂0.03‑0.06份、多元醇0.03‑0.12份、杀菌剂0.006‑0.03份、表面活性剂0.05‑0.1份，去离子水80‑100份。本发明大大改良了金刚砂在溶剂中的分散效果，提升了研磨一致性，研磨效率高，延长了使用寿命，具有良好的应用前景。

公开(公告)号：CN119794969A

公开(公告)日：2025-04-11

申请号：CN202411965557.9

申请日：2024-12-30

Applicant: 广西产研院先进技术融合创新促进中心有限公司 ,  广西产研神光先进光学研究中心有限公司 ,  神光光学集团有限公司

Inventor： 何宏谦 ,  王俊 ,  李莹 ,  王堃 ,  刘东红 ,  耿铭壑 ,  孙记军 ,  肖安琪 ,  肖磊 ,  覃怡斐

IPC: B24B27/00 ,  B24B37/00 ,  B24B37/27 ,  B24B37/20 ,  B24B55/06 ,  B24B55/00

Abstract: 本发明公开一种熔石英的研磨抛光方法，包括以下步骤：S1、铣磨，通过铣磨机将熔石英元件表面瑕疵去除，接近所需要的厚度尺寸；S2、研磨，将经过铣磨的元件放入环磨机中，进一步研磨去除表面瑕疵，同时降低损伤层；S3、高速环抛，将研磨好的元件放入高速环抛机中，快速抛光出镜面，使得面型PV精度在1个波长即632.8nm以下；S4、精密环抛，将高速抛光好的元件放入精密环抛机中，对元件面型进行精修，使得面型PV达到十分之一波长即63.28nm以下;S5、将抛光好的元件进行清洗干净，即得。本发明方法能够提高熔石英的研磨以及抛光速率，减少表面损伤，以及高精度面型的特点。