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公开(公告)号：CN115667574A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202180039788.5
申请日：2021-05-27
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容描述了一种气相沉积设备。气相沉积设备包括用于支撑待涂覆的基板的基板支撑件；具有多个喷嘴的蒸气源，用于通过蒸气传播空间将蒸气引导朝向基板支撑件；和从蒸气源向基板支撑件延伸的可加热屏蔽物。可加热屏蔽物至少部分地围绕蒸气传播空间，并且包括用于掩蔽基板的不被涂覆的区域的边缘排除部分。基板支撑件可以是具有弯曲滚筒表面的可旋转滚筒，并且气相沉积设备可以被构造为使弯曲滚筒表面上的基板在圆周方向移动经过蒸气源。
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公开(公告)号：CN113227436A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201880100385.5
申请日：2018-12-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 安德烈亚斯·勒普 , 斯蒂芬·班格特 , 戴维·石川 , 巴扈巴利·S·乌帕德亚 , 苏迈德·阿查亚 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南
Abstract: 描述了一种气相沉积装置。所述气相沉积装置包括：具有腔室壁的真空腔室；温度控制的屏蔽件，所述温度控制的屏蔽件被构造成屏蔽腔室壁；热屏蔽件，面向待涂布的基板，所述热屏蔽件具有一个或多个开口；和至少部分地在真空腔室之内的蒸发器，所述蒸发器包括：延伸穿过所述一个或多个开口的一个或多个喷嘴。
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公开(公告)号：CN107078215B
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN201480083222.2
申请日：2014-11-07
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·班格特 , 乌韦·许斯勒 , 安德烈亚斯·勒普 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波
IPC: H01L51/00 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C16/455
Abstract: 描述了一种用于在真空腔室(110)中在基板(121)上沉积蒸发的材料的线性分布管(106)。线性分布管(106)包括沿着第一方向(136)延伸的分布管壳体(116)，其中第一方向提供线性分布管的线性延伸，且其中分布管壳体包括第一壳体材料。线性分布管(106)进一步包括位于分布管壳体(116)中的沿着线性分布管的线性延伸而分布的多个开孔。另外，线性分布管壳体(116)包括经构造以引导真空腔室(110)中的蒸发的材料的多个喷嘴(712)。这些喷嘴(712)包括第一喷嘴材料，第一喷嘴材料具有大于第一壳体材料和/或大于21W/mk的热传导率。
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公开(公告)号：CN107109624B
公开(公告)日：2019-10-15
申请号：CN201480084154.1
申请日：2014-12-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 托马斯·格比利 , 乌韦·许斯勒 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 安德烈亚斯·勒普
Abstract: 提供一种用于在真空腔室(110)中于基板(121)上沉积蒸发材料的材料沉积布置(100)。所述材料沉积布置(100)包括用于提供要蒸发的材料的坩埚(102、102a、102b)、与坩埚(102、102a、102b)流体连通的线性分配管(106、106a、106b)和分配管(106、106a、106b)中用于将蒸发材料引导至真空腔室(110)的多个喷嘴。各喷嘴(400)可具有用于接收蒸发材料的喷嘴入口(401)、用于将蒸发材料释放至真空腔室的喷嘴出口(403)、以及位于喷嘴入口(401)与喷嘴出口(403)之间的喷嘴通道(402)。多个喷嘴中的至少一个的喷嘴通道(402)包括具有第一区段长度(412)和第一区段尺寸(411)的第一区段(410)和具有第二区段长度(421)和第二区段尺寸(421)的第二区段(420)。第二区段尺寸(421)与第一区段尺寸(411)的比率在2和10之间。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN107109624A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201480084154.1
申请日：2014-12-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 托马斯·格比利 , 乌韦·许斯勒 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 安德烈亚斯·勒普
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/24 , H01L51/001 , H01L51/0011
Abstract: 提供一种用于在真空腔室(110)中于基板(121)上沉积蒸发材料的材料沉积布置(100)。所述材料沉积布置(100)包括用于提供要蒸发的材料的坩埚(102、102a、102b)、与坩埚(102、102a、102b)流体连通的线性分配管(106、106a、106b)和分配管(106、106a、106b)中用于将蒸发材料引导至真空腔室(110)的多个喷嘴。各喷嘴(400)可具有用于接收蒸发材料的喷嘴入口(401)、用于将蒸发材料释放至真空腔室的喷嘴出口(403)、以及位于喷嘴入口(401)与喷嘴出口(403)之间的喷嘴通道(402)。多个喷嘴中的至少一个的喷嘴通道(402)包括具有第一区段长度(412)和第一区段尺寸(411)的第一区段(410)和具有第二区段长度(421)和第二区段尺寸(421)的第二区段(420)。第二区段尺寸(421)与第一区段尺寸(411)的比率在2和10之间。
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公开(公告)号：CN105144421A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201480022508.X
申请日：2014-04-21
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01L51/0012 , C23C14/042 , G02B26/02 , H01L51/0011 , H01L51/56
Abstract: 本文所公开的实施方式大致上是有关于一种精细金属掩模的主动对准。所述精细金属掩模通过多个微致动器和框架连接。微致动器可以作用在精细金属掩模上，用以拉伸精细金属掩模、重新定位精细金属掩模或进行上述动作的组合。通过这样的方式，可以维持精细金属掩模相对于基板的位置与尺寸。
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公开(公告)号：CN119452114A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202280097687.8
申请日：2022-07-05
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 提供了一种用于将蒸镀材料沉积在基板上的蒸汽源(50)。蒸汽源包括具有多个喷嘴的蒸汽分配管(60)，其中多个喷嘴中的至少一个喷嘴(100)包括：喷嘴主体，该喷嘴主体具有沿喷嘴轴线(A)延伸以用于通过喷嘴孔口释放蒸镀材料的喷嘴通道；和屏蔽部分(150)，该屏蔽部分连接到喷嘴主体并与所述喷嘴主体热接触，屏蔽部分具有用于使蒸镀材料的低角度部分朝向基板通过的孔隙。至少一个横向开口(165)设置在屏蔽部分与喷嘴主体之间以用于使蒸镀材料的高角度部分特别是朝向材料收集器的壁通过。进一步描述了一种用于蒸汽源的喷嘴和一种将蒸镀材料沉积在基板上的方法。
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