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公开(公告)号：CN119404285A
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202380047957.9
申请日：2023-06-15
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 穆罕纳德·穆斯塔法 , 穆罕默德·M·拉希德 , 雷雨 , 阿夫耶里诺斯·V·杰拉托斯 , 维卡什·班西埃 , 维克多·H·卡尔德隆 , 杜诗薇 , 李雍信 , 阿尼迪塔·森
IPC: H01J37/32
Abstract: 于此提供用于处理基板的方法及设备。在一些实施例中，用于基板支撑件的处理配件包含：上边缘环，所述上边缘环由石英制成且具有上表面及下表面，其中所述上表面实质为平面且所述下表面包含阶梯状下表面以限定所述上边缘环的径向最外部分及径向最内部分。
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