公开(公告)号：CN117279849A

公开(公告)日：2023-12-22

申请号：CN202280033282.8

申请日：2022-04-14

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 简·德尔马斯 ,  基兰·瓦查尼 ,  安德烈亚斯·G·赫格杜斯 ,  苏布拉曼亚·P·赫尔勒

IPC: B65H23/26

Abstract: 本公开内容通常涉及用于运输卷材通过卷材处理设备的系统及方法。在一个方面中，卷材张力调节单元用于引导卷材。卷材张力调节单元包括第一引导辊。第一引导辊包括调节单元。卷材张力调节单元进一步包括被定位为测量卷材在第一位置处的位移数据的一个或多个第一非接触传感器。卷材张力调节单元进一步包括用于基于所测量的位移数据来控制调节单元的系统控制器。

公开(公告)号：CN115527897A

公开(公告)日：2022-12-27

申请号：CN202211185197.1

申请日：2016-09-12

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 罗曼·古科 ,  陈翰文 ,  史蒂文·韦尔韦贝克 ,  简·德尔马斯

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  B08B7/00 ,  C11D11/00 ,  F26B21/14

Abstract: 本文描述的实施方式一般涉及并入小热质量的处理腔室，所述腔室能够实现针对超临界干燥工艺的有效温度循环。所述腔室一般包含：主体、衬垫和隔离元件，所述隔离元件能够实现使衬垫展现出相对于主体的小热质量。所述腔室还构造有用于在腔室的处理容积内产生和/或维持超临界流体的合适的设备。

公开(公告)号：CN111432920A

公开(公告)日：2020-07-17

申请号：CN201880074319.5

申请日：2018-11-07

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 简·德尔马斯

IPC: B01J3/00

Abstract: 在本文中描述的实施方式涉及具有冷凝器的高压处理系统和用于利用所述高压处理系统的方法。处理系统包含：处理腔室、锅炉、冷凝器和一个或多个热交换器。所述锅炉产生流体(例如蒸气或超临界流体)，并且将所述流体输送至处理基板所在的处理腔室。在处理基板之后，对系统进行减压并且将所述流体输送至冷凝器，在冷凝器对所述流体进行冷凝。

公开(公告)号：CN116207033A

公开(公告)日：2023-06-02

申请号：CN202310144800.X

申请日：2016-09-14

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 罗曼·古科 ,  陈翰文 ,  史蒂文·韦尔韦贝克 ,  简·德尔马斯

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H01L21/02

Abstract: 提供一种基板支撑设备。该设备包含圆形底板和一个或更多个间隔器，绕着该底板的圆周设置间隔器。间隔器可从该底板的顶部表面延伸，且环形主体可耦合至间隔器。该环形主体可与该底板间隔开以界定该底板与该环形主体之间的孔隙。一个或更多个支撑柱可耦合至该底板且从该底板延伸。支撑柱可在从该环形主体的内表面径向向内的位置处耦合至该底板。

公开(公告)号：CN116206947A

公开(公告)日：2023-06-02

申请号：CN202211571621.6

申请日：2016-09-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 罗曼·古科 ,  陈翰文 ,  史蒂文·韦尔韦贝克 ,  简·德尔马斯

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683

Abstract: 在此描述的实施方式一般涉及具有缩减空间的处理腔室，以执行超临界干燥处理或其他相变处理。该腔室包含可移动地设置于第一轨道上的基板支撑件和可移动地设置于第二轨道上的门。基板支撑件和门可经配置以相互独立地移动，且该腔室可经配置以最小化腔室内基板的垂直移动。

公开(公告)号：CN108140546B

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN201680057046.4

申请日：2016-09-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 罗曼·古科 ,  陈翰文 ,  史蒂文·韦尔韦贝克 ,  简·德尔马斯

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 公开一种基板处理方法。该方法包含以下步骤：输送溶剂至处理腔室，且输送基板至该处理腔室。出现在该处理腔室中的溶剂的分量可经配置以浸没该基板。可输送液态CO2至该处理腔室且可将该液态CO2与该溶剂混合。可输送一分量大于该处理腔室的容积的的额外液态CO2至该处理腔室，以置换该溶剂。可在该处理腔室中将该液态CO2相转变为超临界CO2，且可通过等温减压该处理腔室及自该处理腔室排出气体CO2来干燥该基板。

公开(公告)号：CN108140546A

公开(公告)日：2018-06-08

申请号：CN201680057046.4

申请日：2016-09-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 罗曼·古科 ,  陈翰文 ,  史蒂文·韦尔韦贝克 ,  简·德尔马斯

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/02101 ,  B08B7/0021 ,  B08B7/0035 ,  F26B5/04 ,  F26B21/14 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/67034

Abstract: 公开一种基板处理方法。该方法包含以下步骤：输送溶剂至处理腔室，且输送基板至该处理腔室。出现在该处理腔室中的溶剂的分量可经配置以浸没该基板。可输送液态CO2至该处理腔室且可将该液态CO2与该溶剂混合。可输送一分量大于该处理腔室的容积的额外液态CO2至该处理腔室，以置换该溶剂。可在该处理腔室中将该液态CO2相转变为超临界CO2，且可通过等温减压该处理腔室及自该处理腔室排出气体CO2来干燥该基板。

公开(公告)号：CN108140549B

公开(公告)日：2022-12-20

申请号：CN201680058294.0

申请日：2016-09-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 罗曼·古科 ,  陈翰文 ,  史蒂文·韦尔韦贝克 ,  简·德尔马斯

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H01L21/677

Abstract: 在此描述的实施方式一般涉及具有缩减空间的处理腔室，以执行超临界干燥处理或其他相变处理。该腔室包含可移动地设置于第一轨道上的基板支撑件和可移动地设置于第二轨道上的门。基板支撑件和门可经配置以相互独立地移动，且该腔室可经配置以最小化腔室内基板的垂直移动。

公开(公告)号：CN110582836A

公开(公告)日：2019-12-17

申请号：CN201880029367.2

申请日：2018-03-26

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 简·德尔马斯 ,  史蒂文·韦尔韦贝克

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 提供了一种用于处理基板的方法和设备。二氧化碳液体的进料流在压力下自进料供应器被供应至纯化容器。在该纯化容器中的该二氧化碳液体在单级蒸馏工艺中被蒸馏以形成纯化的二氧化碳气体。该处理方法包含以下步骤：通过与来自制冷系统的制冷剂进行热交换来冷凝在该冷凝器中的该纯化的二氧化碳气体以形成纯化的二氧化碳液体。该纯化的二氧化碳液体被加热至高于临界点的目标温度以使该纯化的二氧化碳液体变为超临界二氧化碳流体。该处理方法包含以下步骤：使用该超临界二氧化碳流体以清洁被设置在处理腔室中的基板。

公开(公告)号：CN108140603A

公开(公告)日：2018-06-08

申请号：CN201680058300.2

申请日：2016-09-14

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 罗曼·古科 ,  陈翰文 ,  史蒂文·韦尔韦贝克 ,  简·德尔马斯

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/02101 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68785

Abstract: 提供一种基板支撑设备。该设备包含圆形底板和一个或更多个间隔器，绕着该底板的圆周设置间隔器。间隔器可从该底板的顶部表面延伸，且环形主体可耦合至间隔器。该环形主体可与该底板间隔开以界定该底板与该环形主体之间的孔隙。一个或更多个支撑柱可耦合至该底板且从该底板延伸。支撑柱可在从该环形主体的内表面径向向内的位置处耦合至该底板。