公开(公告)号：CN107611258A

公开(公告)日：2018-01-19

申请号：CN201710661170.8

申请日：2012-10-16

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 史蒂文·韦尔韦贝克 ,  罗曼·古科 ,  夏立群 ,  石美仪 ,  金宇

IPC: H01L43/12 ,  H01L21/033 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  G11B5/74 ,  G11B5/84 ,  H01F41/34

CPC classification number: H01F41/34 ,  G11B5/743 ,  G11B5/84 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67736

Abstract: 本发明实施例提供用于形成供磁性媒体中使用的图案化磁性层的方法和设备。根据本案实施例，通过低温化学气相沉积形成的氧化硅层用以在硬掩模层中形成图案，且图案化硬掩模用以通过等离子体离子注入形成图案化磁性层。

公开(公告)号：CN103959380B

公开(公告)日：2017-08-29

申请号：CN201280057804.4

申请日：2012-10-16

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 史蒂文·韦尔韦贝克 ,  罗曼·古科 ,  夏立群 ,  石美仪 ,  金宇

IPC: G11B5/84 ,  G11B5/85

CPC classification number: H01F41/34 ,  G11B5/743 ,  G11B5/84 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67736

Abstract: 本发明实施例提供用于形成供磁性媒体中使用的图案化磁性层的方法和设备。根据本案实施例，通过低温化学气相沉积形成的氧化硅层用以在硬掩模层中形成图案，且图案化硬掩模用以通过等离子体离子注入形成图案化磁性层。

公开(公告)号：CN103959380A

公开(公告)日：2014-07-30

申请号：CN201280057804.4

申请日：2012-10-16

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 史蒂文·韦尔韦贝克 ,  罗曼·古科 ,  夏立群 ,  石美仪 ,  金宇

IPC: G11B5/84 ,  G11B5/85

CPC classification number: H01F41/34 ,  G11B5/743 ,  G11B5/84 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67736

Abstract: 本发明实施例提供用于形成供磁性媒体中使用的图案化磁性层的方法和设备。根据本案实施例，通过低温化学气相沉积形成的氧化硅层用以在硬掩模层中形成图案，且图案化硬掩模用以通过等离子体离子注入形成图案化磁性层。