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公开(公告)号：CN105900210A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201480034625.8
申请日：2014-12-15
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02
CPC classification number: G03F7/40 , C23C14/564 , C23C16/4404 , C25F3/06 , C25F3/14
Abstract: 提供一种用于腔室部件上的纹理化表面的方法，并且所述方法包括：提供腔室部件；将光刻胶层施加至所述腔室部件的表面；使用掩模来将所述光刻胶的一部分暴露于光能，以便固化所述光刻胶的一部分；将未固化的光刻胶从所述表面上移除；和对所述腔室部件进行电化学蚀刻，以在所述腔室部件上形成纹理化表面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108026628B
公开(公告)日：2020-09-25
申请号：CN201580083059.4
申请日：2015-09-15
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/04
Abstract: 一种阴影掩模(200,300,400,500)包括：框架(210)，由金属材料制成，该金属材料具有低于或等于约14微米/米/摄氏度的热膨胀系数；以及一或多个掩模图案(302,402,502)，耦接该框架(210)，该一或多个掩模图案包括第一金属材料与第二金属材料，该第二金属材料有别于该第一金属材料，且该一或多个掩模图案具有多个开口(215,318,345,425,435,545,552)，该多个开口形成于该一或多个掩模图案中。还提供了阴影掩模(200,300,400,500)和形成阴影掩模(200,300,400,500)的方法。
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公开(公告)号：CN109219897A
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201680085729.0
申请日：2016-05-24
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 一种掩模组件(100)包括：掩模框(102)及掩模屏(104)，该掩模框(102)及该掩模屏(104)两者以金属材料制成；及金属涂层(105)，该金属涂层(105)安置在该掩模框(102)及该掩模屏(104)中的一或两者的暴露面上。
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公开(公告)号：CN112335069A
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN201880094860.2
申请日：2018-06-26
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 黄曦 , 郭炳成 , 克里斯多弗·丹尼斯·本彻 , 迪特尔·哈斯 , 布赖恩·E·拉塞特
Abstract: 本公开内容的实施方式提供了用于阴影掩模的方法和设备。在一个实施方式中，提供了一种阴影掩模，并且所述阴影掩模包括：框架，所述框架由金属材料制成；以及一个或多个掩模图案，所述一个或多个掩模图案耦接到所述框架，所述一个或多个掩模图案包括具有小于或等于约14微米/米/摄氏度的热膨胀系数的金属并具有形成在其中的多个开口，所述金属具有约5微米至约50微米的厚度并具有形成在其中的边界，所述边界各自限定精细开口，所述边界具有形成在所述边界的基板接触表面上的凹陷表面，其中所述一个或多个掩模图案中的每者在约70,000平方毫米的表面积上具有小于约150微米的平坦度。
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公开(公告)号：CN108026628A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201580083059.4
申请日：2015-09-15
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/04
CPC classification number: C23C14/24 , C23C14/042 , C23F1/02 , C23F1/28 , C25D1/08 , C25F1/02 , H01L51/0011
Abstract: 一种阴影掩模(200,300,400,500)包括：框架(210)，由金属材料制成，该金属材料具有低于或等于约14微米/米/摄氏度的热膨胀系数；以及一或多个掩模图案(302,402,502)，耦接该框架(210)，该一或多个掩模图案包括第一金属材料与第二金属材料，该第二金属材料有别于该第一金属材料，且该一或多个掩模图案具有多个开口(215,318,345,425,435,545,552)，该多个开口形成于该一或多个掩模图案中。还提供了阴影掩模(200,300,400,500)和形成阴影掩模(200,300,400,500)的方法。
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