公开(公告)号：CN117604502A

公开(公告)日：2024-02-27

申请号：CN202311531989.4

申请日：2016-01-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： J·约德伏斯基 ,  K·格里芬 ,  A·米勒 ,  J·托宾 ,  E·纽曼 ,  T·E·佐藤 ,  P·M·刘

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/458

Abstract: 本申请涉及用于空间上分离的原子层沉积腔室的改进的注射器。公开用于空间式原子层沉积的设备和方法。所述设备包括气体递送系统，所述气体递送系统包含第一气体和第二气体，所述第一气体流动通过与阀流体连通的多个腿部，并且所述第二气体流动通过多个腿部进入所述阀。

公开(公告)号：CN107750281B

公开(公告)日：2020-07-07

申请号：CN201680035326.5

申请日：2016-06-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： A·米勒 ,  K·贝拉

IPC: C23C16/455 ,  H01L21/205 ,  H01L21/67

Abstract: 一种用于处理包含注入器单元插入件的基板的设备与方法，该注入器单元插入件带有多个通向第一气室的流动路径，所述流动路径的每者提供基本上相同的停留时间、长度和/或传导性中的一者或多者。包含注入器单元插入件的注入器单元已增加流均匀性。

公开(公告)号：CN107208266A

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：CN201680007014.3

申请日：2016-01-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： J·约德伏斯基 ,  K·格里芬 ,  A·米勒 ,  J·托宾 ,  E·纽曼 ,  T·E·佐藤 ,  P·M·刘

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/458

CPC classification number: C23C16/45551 ,  C23C16/45561 ,  C23C16/4584

Abstract: 公开用于空间式原子层沉积的设备和方法。所述设备包括气体递送系统，所述气体递送系统包含第一气体和第二气体，所述第一气体流动通过与阀流体连通的多个腿部，并且所述第二气体流动通过多个腿部进入所述阀。

公开(公告)号：CN107750281A

公开(公告)日：2018-03-02

申请号：CN201680035326.5

申请日：2016-06-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： A·米勒 ,  K·贝拉

IPC: C23C16/455 ,  H01L21/205 ,  H01L21/67

Abstract: 一种用于处理包含注入器单元插入件的基板的设备与方法，该注入器单元插入件带有多个通向第一气室的流动路径，所述流动路径的每者提供基本上相同的停留时间、长度和/或传导性中的一者或多者。包含注入器单元插入件的注入器单元已增加流均匀性。