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公开(公告)号：CN115152009A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202180016910.7
申请日：2021-01-19
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 潘尧令 , P·J·唐 , L·泰德斯奇 , J·孙 , P·A·克劳斯 , 李晓璞 , K·贝拉 , M·D·威尔沃斯 , 阿尔伯特三世·B·希克斯 , L·J·恩曼 , M·J·萨利 , D·T·麦克科米克
Abstract: 本文中公开的实施例包括一种传感器。在一实施例中，传感器包括：基板，所述基板具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面。在一实施例中，传感器进一步包括：第一电极，所述第一电极在所述基板的所述第一表面之上；以及第二电极，所述第二电极在所述基板的所述第一表面之上且相邻于所述第一电极。在一实施例中，传感器进一步包括：阻挡层，所述阻挡层在所述第一电极和所述第二电极之上。
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公开(公告)号：CN103460344B
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201280018001.8
申请日：2012-04-10
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/02
CPC classification number: B24B37/042 , B08B1/04 , B24B27/033 , B24B37/107 , B24B37/245 , B24B37/26 , C23C16/4407 , Y10T137/85938 , Y10T156/11
Abstract: 此述的实施例大体上关于用于刷新用在沉积腔室或蚀刻腔室中的气体分配板组件的方法与设备。一个实施例中，提供一种用于刷新气体分配板组件的方法。该方法包括以下步骤：推抵气体分配板组件的面板靠住研磨（polishing）装置的研磨垫，该面板具有配置在该面板中的多个气体分配孔；提供该面板与该研磨垫之间的相对运动；以及抵靠该研磨垫研磨该面板。
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公开(公告)号：CN103460344A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201280018001.8
申请日：2012-04-10
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/02
CPC classification number: B24B37/042 , B08B1/04 , B24B27/033 , B24B37/107 , B24B37/245 , B24B37/26 , C23C16/4407 , Y10T137/85938 , Y10T156/11
Abstract: 此述的实施例大体上关于用于刷新用在沉积腔室或蚀刻腔室中的气体分配板组件的方法与设备。一个实施例中，提供一种用于刷新气体分配板组件的方法。该方法包括以下步骤：推抵气体分配板组件的面板靠住研磨（polishing）装置的研磨垫，该面板具有配置在该面板中的多个气体分配孔；提供该面板与该研磨垫之间的相对运动；以及抵靠该研磨垫研磨该面板。
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