公开(公告)号：CN114737169B

公开(公告)日：2024-09-10

申请号：CN202210426147.1

申请日：2018-02-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： Y·马 ,  D·拉杰 ,  M·J·西蒙斯 ,  A·波克雷尔 ,  G·奇可卡诺夫 ,  张轶珍 ,  梁璟梅 ,  J·D·平松二世 ,  D·李 ,  J·C·罗查-阿尔瓦雷斯

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/505 ,  H01J37/32

Abstract: 本文公开的实施例总的来说关于等离子体处理系统。等离子体处理系统包括处理腔室、腔室陈化系统和远程等离子体清洁系统。处理腔室具有界定处理区域和等离子体场的腔室主体。腔室陈化系统耦接到处理腔室。腔室陈化系统经配置而陈化处理区域和等离子体场。远程等离子体清洁系统与处理腔室连通。远程等离子体清洁系统经配置对处理区域和等离子体场进行清洁。

公开(公告)号：CN114737169A

公开(公告)日：2022-07-12

申请号：CN202210426147.1

申请日：2018-02-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： Y·马 ,  D·拉杰 ,  M·J·西蒙斯 ,  A·波克雷尔 ,  G·奇可卡诺夫 ,  张轶珍 ,  梁璟梅 ,  J·D·平松二世 ,  D·李 ,  J·C·罗查-阿尔瓦雷斯

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/505 ,  H01J37/32

Abstract: 本文公开的实施例总的来说关于等离子体处理系统。等离子体处理系统包括处理腔室、腔室陈化系统和远程等离子体清洁系统。处理腔室具有界定处理区域和等离子体场的腔室主体。腔室陈化系统耦接到处理腔室。腔室陈化系统经配置而陈化处理区域和等离子体场。远程等离子体清洁系统与处理腔室连通。远程等离子体清洁系统经配置对处理区域和等离子体场进行清洁。

公开(公告)号：CN110249406B

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN201880009192.9

申请日：2018-02-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： Y·马 ,  D·拉杰 ,  M·J·西蒙斯 ,  A·波克雷尔 ,  G·奇可卡诺夫 ,  张轶珍 ,  梁璟梅 ,  J·D·平松二世 ,  D·李 ,  J·C·罗查-阿尔瓦雷斯

IPC: H01J37/32 ,  C23C16/44 ,  C23C16/505

Abstract: 本文公开的实施例总的来说关于等离子体处理系统。等离子体处理系统包括处理腔室、腔室陈化系统和远程等离子体清洁系统。处理腔室具有界定处理区域和等离子体场的腔室主体。腔室陈化系统耦接到处理腔室。腔室陈化系统经配置而陈化处理区域和等离子体场。远程等离子体清洁系统与处理腔室连通。远程等离子体清洁系统经配置对处理区域和等离子体场进行清洁。

公开(公告)号：CN110603634A

公开(公告)日：2019-12-20

申请号：CN201880029349.4

申请日：2018-05-03

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 张轶珍 ,  R·乔德里 ,  J·D·平松二世 ,  J·M·舒浩勒 ,  H·K·帕纳瓦拉皮尔库马兰库提

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67

Abstract: 本文的实施方式提供了一种用于在诸如等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺之类的等离子体增强沉积工艺期间直接地监测衬底的温度的衬底温度监测系统。在一个实施方式中，一种衬底支撑组件包括：支撑轴；衬底支撑件，所述衬底支撑件设置在所述支撑轴上；以及衬底温度监测系统，所述衬底温度监测系统用于测量待设置在所述衬底支撑件上的衬底的温度。所述衬底温度监测系统包括光纤管、耦接到所述光纤管的光导、以及围绕所述光纤管和所述光导的接合处设置的冷却组件。在本文中，所述光导的至少一部分设置在延伸穿过所述支撑轴并进入所述衬底支撑件的开口中，并且所述冷却组件在衬底处理期间维持所述光纤管处于低于约100℃的温度。

公开(公告)号：CN110249406A

公开(公告)日：2019-09-17

申请号：CN201880009192.9

申请日：2018-02-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： Y·马 ,  D·拉杰 ,  M·J·西蒙斯 ,  A·波克雷尔 ,  G·奇可卡诺夫 ,  张轶珍 ,  梁璟梅 ,  J·D·平松二世 ,  D·李 ,  J·C·罗查-阿尔瓦雷斯

IPC: H01J37/32 ,  C23C16/44 ,  C23C16/505

Abstract: 本文公开的实施例总的来说关于等离子体处理系统。等离子体处理系统包括处理腔室、腔室陈化系统和远程等离子体清洁系统。处理腔室具有界定处理区域和等离子体场的腔室主体。腔室陈化系统耦接到处理腔室。腔室陈化系统经配置而陈化处理区域和等离子体场。远程等离子体清洁系统与处理腔室连通。远程等离子体清洁系统经配置对处理区域和等离子体场进行清洁。

公开(公告)号：CN108118312A

公开(公告)日：2018-06-05

申请号：CN201711216053.7

申请日：2017-11-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 马莹 ,  D·拉杰 ,  J·D·平松二世 ,  D·李 ,  梁璟梅 ,  张轶珍

IPC: C23C16/50 ,  H01J37/32

CPC classification number: C23C16/45565 ,  C23C16/4405 ,  C23C16/452 ,  C23C16/45578 ,  C23C16/4558 ,  C23C16/458 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32862 ,  C23C16/50 ,  H01J37/32431 ,  H01J37/32798

Abstract: 公开了用于可流动式CVD的双远程等离子体源的集成。本文中描述的实现方式总体涉及一种用于形成可流动膜的设备。在一个实现方式中，设备是包括第一RPS和第二RPS的处理腔室，第一RPS被耦接到处理腔室的盖，第二RPS被耦接到处理腔室的侧壁。第一RPS用于将沉积自由基传递到处理腔室中的处理区域中，并且第二RPS用于将清洁自由基传递到处理区域中。处理腔室还包括自由基传递环，所述自由基传递环设置在喷头与基板支撑件之间，用于将清洁自由基从第二RPS传递到处理区域中。具有用于沉积和清洁的单独RPS以及使用单独传递通道将自由基从所述RPS引入到处理区域中使RPS上的交叉污染和循环变化最小化，从而导致改进的沉积速率漂移和颗粒性能。