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公开(公告)号：CN104919575A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201380070166.4
申请日：2013-12-30
Applicant: 应用材料公司
Inventor： R·巴贾杰 , T·H·奥斯特赫尔德 , H·陈 , T·Y·李
IPC: H01L21/304
CPC classification number: B24B37/044 , B24B57/02 , H01L21/30625 , H01L21/3212 , H01L21/67075 , H01L21/67092
Abstract: 在一方面中，揭示基板抛光设备。设备具有抛光平台，抛光平台具有两个或更多个区域，每一区域适于含有不同的浆料组分。在另一方面中，提供基板抛光系统，系统具有用以托住基板的支架、具抛光垫的抛光平台和分配系统，分配系统适于按时序分配至少两种不同的浆料组分，浆料组分选自由氧化浆料组分、材料移除浆料组分和腐蚀抑制浆料组分所组成的群组。许多其它方面尚提供适于抛光基板的抛光方法和系统。
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公开(公告)号：CN104285281A
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201380023299.6
申请日：2013-04-05
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/304 , B24B37/04
CPC classification number: B29C64/209 , B24B37/26 , B24D18/00 , B24D18/009 , B29C35/0805 , B29C64/112 , B29C64/20 , B29C2035/0827 , B29K2075/00 , B29K2105/0002 , B29K2105/16 , B29K2509/02 , B29L2031/736 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/02 , B33Y80/00 , H01L21/306 , B24B37/04
Abstract: 一种制造研磨垫的研磨层的方法，包括使用3D印刷机相继地沉积多个层，藉由从喷头喷出垫材料前驱物、并固化该垫材料前驱物以形成固化的垫材料的方式来沉积该多个研磨层的每一层。
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公开(公告)号：CN109243976B
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN201810942811.1
申请日：2013-12-30
Applicant: 应用材料公司
Inventor： R·巴贾杰 , T·H·奥斯特赫尔德 , H·陈 , T·Y·李
IPC: H01L21/306 , H01L21/67
Abstract: 在一方面中，揭示基板抛光设备。设备具有抛光平台，抛光平台具有两个或更多个区域，每一区域适于含有不同的浆料组分。在另一方面中，提供基板抛光系统，系统具有用以托住基板的支架、具抛光垫的抛光平台和分配系统，分配系统适于按时序分配至少两种不同的浆料组分，浆料组分选自由氧化浆料组分、材料移除浆料组分和腐蚀抑制浆料组分所组成的群组。许多其它方面尚提供适于抛光基板的抛光方法和系统。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104919575B
公开(公告)日：2018-09-18
申请号：CN201380070166.4
申请日：2013-12-30
Applicant: 应用材料公司
Inventor： R·巴贾杰 , T·H·奥斯特赫尔德 , H·陈 , T·Y·李
IPC: H01L21/304
Abstract: 在一方面中，揭示基板抛光设备。设备具有抛光平台，抛光平台具有两个或更多个区域，每一区域适于含有不同的浆料组分。在另一方面中，提供基板抛光系统，系统具有用以托住基板的支架、具抛光垫的抛光平台和分配系统，分配系统适于按时序分配至少两种不同的浆料组分，浆料组分选自由氧化浆料组分、材料移除浆料组分和腐蚀抑制浆料组分所组成的群组。许多其它方面尚提供适于抛光基板的抛光方法和系统。
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公开(公告)号：CN104285281B
公开(公告)日：2017-06-30
申请号：CN201380023299.6
申请日：2013-04-05
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: B29C64/209 , B24B37/26 , B24D18/00 , B24D18/009 , B29C35/0805 , B29C64/112 , B29C64/20 , B29C2035/0827 , B29K2075/00 , B29K2105/0002 , B29K2105/16 , B29K2509/02 , B29L2031/736 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/02 , B33Y80/00
Abstract: 一种制造研磨垫的研磨层的方法，包括使用3D印刷机相继地沉积多个层，藉由从喷头喷出垫材料前驱物、并固化该垫材料前驱物以形成固化的垫材料的方式来沉积该多个研磨层的每一层。
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公开(公告)号：CN104737274A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201380050065.0
申请日：2013-10-23
Applicant: 应用材料公司
Inventor： N·拉贾戈帕兰 , X·韩 , M·齐昂 , M·奥加塔 , Z·蒋 , J·C·罗查-阿尔瓦雷斯 , T·诺瓦克 , J·周 , R·萨卡拉克利施纳 , G·巴拉苏布拉马尼恩 , A·班塞尔 , J·李 , T·伊根 , E·布迪亚托 , D·帕纳修克 , T·Y·李 , J·陈 , M·阿优伯 , H·L·朴 , P·赖利 , S·沙克 , 金秉宪 , S·斯塔里克
IPC: H01L21/205
CPC classification number: C23C16/52 , C23C16/45565 , C23C16/4557 , C23C16/458 , C23C16/46 , C23C16/50 , C23C16/505 , C23C16/509 , C23C16/5096 , G01B11/0625 , G01B11/0683 , G01N21/55 , G01N21/658 , G01N2201/1222 , H01L21/00 , H01L21/67248 , H01L21/67253 , H01L21/687
Abstract: 兹描述根据PECVD工艺来处理基板的设备和方法。调整基板的温度分布，以改变基板各处的沉积速率分布。调整等离子体密度分布，以改变基板各处的沉积速率分布。加热暴露于等离子体的腔室表面，以改善等离子体密度均匀性及减少腔室表面处低品质沉积物的形成。原位量测技术可用于监测沉积工艺的进行，及触发涉及基板温度分布、等离子体密度分布、压力、温度与反应物流量的控制动作。
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公开(公告)号：CN109243976A
公开(公告)日：2019-01-18
申请号：CN201810942811.1
申请日：2013-12-30
Applicant: 应用材料公司
Inventor： R·巴贾杰 , T·H·奥斯特赫尔德 , H·陈 , T·Y·李
IPC: H01L21/306 , H01L21/67
Abstract: 在一方面中，揭示基板抛光设备。设备具有抛光平台，抛光平台具有两个或更多个区域，每一区域适于含有不同的浆料组分。在另一方面中，提供基板抛光系统，系统具有用以托住基板的支架、具抛光垫的抛光平台和分配系统，分配系统适于按时序分配至少两种不同的浆料组分，浆料组分选自由氧化浆料组分、材料移除浆料组分和腐蚀抑制浆料组分所组成的群组。许多其它方面尚提供适于抛光基板的抛光方法和系统。
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