公开(公告)号：CN108292098A

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201680070329.2

申请日：2016-11-30

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 德永光 ,  齐藤大悟 ,  桥本圭祐 ,  坂本力丸

IPC: G03F7/11 ,  C08G16/02 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

CPC classification number: C08G16/02 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

Abstract: 一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含下述聚合物，所述聚合物包含下述式(1)所示的单元结构，(式(1)中，A表示具有至少2个氨基的2价基团，该基团是由下述化合物衍生的基团，所述化合物具有稠环结构并且具有将该稠环上的氢原子取代的芳香族基团，B1、B2各自独立地表示氢原子、烷基、苯环基、稠环基或它们的组合，或者B1与B2可以与它们所结合的碳原子一起形成环。)。

公开(公告)号：CN108292098B

公开(公告)日：2022-06-17

申请号：CN201680070329.2

申请日：2016-11-30

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 德永光 ,  齐藤大悟 ,  桥本圭祐 ,  坂本力丸

IPC: G03F7/11 ,  C08G16/02 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

Abstract: 一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含下述聚合物，所述聚合物包含下述式(1)所示的单元结构，(式(1)中，A表示具有至少2个氨基的2价基团，该基团是由下述化合物衍生的基团，所述化合物具有稠环结构并且具有将该稠环上的氢原子取代的芳香族基团，B1、B2各自独立地表示氢原子、烷基、苯环基、稠环基或它们的组合，或者B1与B2可以与它们所结合的碳原子一起形成环。)。