嵌段聚合物的制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117362556A

    公开(公告)日:2024-01-09

    申请号:CN202311467938.X

    申请日:2018-08-06

    Abstract: 本发明提供嵌段聚合物的制造方法,该嵌段聚合物的制造方法包含:使用包括双液混合用混合器的流动反应器,该双液混合用混合器包括可将多个液体混合的流路,在引发剂的存在下使作为第一单体的苯乙烯系单体阴离子聚合以合成聚合物的工序,和使作为第二单体的丙烯酸系单体与所述聚合物嵌段聚合以合成嵌段聚合物的工序;所述流动反应器包括双液混合用混合器,所述双液混合用混合器包括在内部具有双重管的接头构件或静态混合器构件。

    嵌段聚合物的制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110709430A

    公开(公告)日:2020-01-17

    申请号:CN201880037785.6

    申请日:2018-06-04

    Abstract: 本发明提供嵌段聚合物的制造方法,其包含:使用流动反应器、在引发剂的存在下使第一单体进行阴离子聚合以合成均聚物的工序,所述流动反应器具备双液混合用混合器,所述双液混合用混合器具备可将多个液体混合的流路;使不同于第一单体的第二单体与所述均聚物进行嵌段聚合以合成嵌段聚合物的工序;和将得到的嵌段聚合物用仅由所述第一单体得到的均聚物溶解、但仅由所述第二单体得到的均聚物和所述嵌段聚合物不溶解的溶剂清洗的工序。

    聚合物的制造方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108884177B

    公开(公告)日:2021-04-06

    申请号:CN201780009719.3

    申请日:2017-02-03

    Abstract: 本发明提供聚合物的制造方法,是使用具备可将多个液体混合的流路的流动反应器、在引发剂的存在下使单体进行阴离子聚合的聚合物的制造方法,其中,上述流动反应器具备双液混合用混合器,该双液混合用混合器具备在内部具有双重管的接头构件或静态混合器构件。

    聚合物的制造方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112375167A

    公开(公告)日:2021-02-19

    申请号:CN202011260625.3

    申请日:2017-02-03

    Abstract: 本发明涉及聚合物的制造方法。本发明还提供一种聚合物,其是含有由下述式(1)表示的结构单元的聚合物,末端为来自引发剂残基的正丁基,重均分子量为1,000~50,000,分散度为1.5以下, 式(1)中,R1表示氢原子或甲基,R2~R6各自独立地表示氢原子、碳原子数1~5的烷氧基、可被卤素原子取代的碳原子数1~10的烷基、‑OSiR73或‑SiR73,R7各自独立地表示碳原子数1~10的烷基、苯基、碳原子数1~5的烷氧基、碳原子数1~5的烷基甲硅烷基。

    用于形成微细相分离图案的嵌段共聚物层形成用组合物

    公开(公告)号:CN112771091B

    公开(公告)日:2023-09-12

    申请号:CN201980047679.0

    申请日:2019-07-16

    Abstract: 提供用于使包含嵌段共聚物的层的、更微细的微相分离结构相对于基板垂直诱导的自组装化膜形成用组合物。此外,提供利用了那样的组合物的嵌段共聚物的相分离图案制造方法以及半导体装置的制造方法。一种自组装化膜形成用组合物,其包含嵌段共聚物和溶剂,其用于在基板上形成嵌段共聚物层的相分离结构,上述嵌段共聚物为使不含硅聚合物与下述含硅聚合物结合而成的嵌段共聚物,所述含硅聚合物以被含硅基团取代了的苯乙烯作为结构单元,上述不含硅聚合物包含来源于下述式(1‑1)或式(1‑2)的结构,上述含硅基团包含1个硅原子。(在式(1‑1)或式(1‑2)中,R1和R2各自独立地表示氢原子、卤原子、碳原子数1~10烷基,R3~R5各自独立地表示氢原子、羟基、卤原子、碳原子数1~10烷基、碳原子数1~10烷氧基、氰基、氨基、酰胺基或羰基。)#imgabs0#

    用于形成微细相分离图案的嵌段共聚物层形成用组合物

    公开(公告)号:CN112771091A

    公开(公告)日:2021-05-07

    申请号:CN201980047679.0

    申请日:2019-07-16

    Abstract: 提供用于使包含嵌段共聚物的层的、更微细的微相分离结构相对于基板垂直诱导的自组装化膜形成用组合物。此外,提供利用了那样的组合物的嵌段共聚物的相分离图案制造方法以及半导体装置的制造方法。一种自组装化膜形成用组合物,其包含嵌段共聚物和溶剂,其用于在基板上形成嵌段共聚物层的相分离结构,上述嵌段共聚物为使不含硅聚合物与下述含硅聚合物结合而成的嵌段共聚物,所述含硅聚合物以被含硅基团取代了的苯乙烯作为结构单元,上述不含硅聚合物包含来源于下述式(1‑1)或式(1‑2)的结构,上述含硅基团包含1个硅原子。(在式(1‑1)或式(1‑2)中,R1和R2各自独立地表示氢原子、卤原子、碳原子数1~10烷基,R3~R5各自独立地表示氢原子、羟基、卤原子、碳原子数1~10烷基、碳原子数1~10烷氧基、氰基、氨基、酰胺基或羰基。)

    嵌段聚合物的制造方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110997743A

    公开(公告)日:2020-04-10

    申请号:CN201880051098.X

    申请日:2018-08-06

    Abstract: 本发明提供嵌段聚合物的制造方法,该嵌段聚合物的制造方法包含:使用包括双液混合用混合器的流动反应器,该双液混合用混合器包括可将多个液体混合的流路,在引发剂的存在下使作为第一单体的苯乙烯系单体阴离子聚合以合成聚合物的工序,和使作为第二单体的丙烯酸系单体与所述聚合物嵌段聚合以合成嵌段聚合物的工序;所述流动反应器包括双液混合用混合器,所述双液混合用混合器包括在内部具有双重管的接头构件或静态混合器构件。

Patent Agency Ranking