公开(公告)号：CN116794944A

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN202310252015.6

申请日：2023-03-16

Applicant: 日本化药株式会社

Inventor： 稲垣真也 ,  佐口琢哉 ,  星野纯一

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及处理液及基板的洗涤方法。本发明的课题在于提出一种处理液，其光阻剥离性优异，且对多晶硅的伤害极小，而且保存稳定性优异，尤其是低温保存稳定性优异，因此实用性非常高。本发明对于上述课题的解决手段为一种处理液，其具有(A)具有内酯骨架的化合物、及(B)分子内具有2个以上羟基的胺化合物；优选为(A)为γ‑丁内酯且(B)为N‑烷基二乙醇胺；更优选为实质上仅由(A)、(B)所构成。

公开(公告)号：CN118672079A

公开(公告)日：2024-09-20

申请号：CN202410291089.5

申请日：2024-03-14

Applicant: 日本化药株式会社

Inventor： 菊池一雄 ,  佐口琢哉 ,  星野纯一

IPC: G03F7/32

Abstract: 本发明涉及处理液及使用所述处理液的光阻剂图案的形成方法，本发明的课题的目的在于提供一种处理液，可形成具有锐利的图案边缘的光阻图案，也就是可在无显影不足(残渣)或图案剥离下形成良好图案边缘。另外，处理液的稳定性也为重要课题。如上述，本发明的目的为可兼具显影性等及稳定性。本发明的解决手段为一种处理液，含有(A)碱性化合物、(B)2种以上的非离子性界面活性剂、及(C)酸性化合物或其盐。

公开(公告)号：CN118672078A

公开(公告)日：2024-09-20

申请号：CN202410290902.7

申请日：2024-03-14

Applicant: 日本化药株式会社

Inventor： 菊池一雄 ,  佐口琢哉 ,  星野纯一

IPC: G03F7/32

Abstract: 本发明涉及处理液及使用所述处理液的光阻剂图案的形成方法，本发明的课题的目的在于提供一种处理液，可形成具有锐利的图案边缘的光阻图案，也就是可在无显影不足(残渣)或图案剥离下形成良好图案边缘。另外，处理液的稳定性也为重要课题。如上述，本发明的目的为可兼具显影性等及稳定性。本发明的解决手段为一种处理液，含有(A)碱性化合物、及(B)2种以上的非离子性界面活性剂，(B)成分含有(B‑1)聚氧乙烯基苯乙烯化苯基醚、及(B‑2)聚氧乙烯基异丙苯基苯基醚。