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发明公开
处理液及基板的洗涤方法审中-实审

公开(公告)号：CN116794944A

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN202310252015.6

申请日：2023-03-16

Applicant: 日本化药株式会社

Inventor： 稲垣真也 , 佐口琢哉 , 星野纯一

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及处理液及基板的洗涤方法。本发明的课题在于提出一种处理液，其光阻剥离性优异，且对多晶硅的伤害极小，而且保存稳定性优异，尤其是低温保存稳定性优异，因此实用性非常高。本发明对于上述课题的解决手段为一种处理液，其具有(A)具有内酯骨架的化合物、及(B)分子内具有2个以上羟基的胺化合物；优选为(A)为γ‑丁内酯且(B)为N‑烷基二乙醇胺；更优选为实质上仅由(A)、(B)所构成。

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