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公开(公告)号：CN1261948C
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：CN01819630.6
申请日：2001-11-29
Applicant: 日本化药株式会社
IPC: H01B1/06 , C08F20/26 , C08F290/06 , H01M10/40
CPC classification number: H01G9/038 , H01B1/122 , H01G9/028 , H01G11/56 , H01M10/052 , H01M10/0565 , H01M2300/0082 , Y02E60/13
Abstract: 本发明提供具有高薄膜强度，离子电导率高和加工性优异的聚合物固体电解质，所述用于聚合物固体电解质的树脂组合物，该组合物包括0.5～5.0重量%的具有特殊结构的可固化树脂(A)、增塑剂(B)和电解质(C)。
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公开(公告)号：CN1914561A
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN200580003633.7
申请日：2005-01-05
Abstract: 本发明公开了具有优异的光平版印刷性能的光刻胶组合物和具有优异的耐溶剂性，在电沉积金属过程中具有优异的对在镀覆的耐性，和具有优异的抗蚀剂剥离特性的硬化抗蚀剂膜。这些根据本发明的光刻胶组合物非常适用于制造MEMS和微电机设备的场合。根据本发明的这些光刻胶组合物包含一种或多种环氧化物取代的多羧酸树脂组分(A)，一种或多种光酸生成剂化合物(B)，和一种或多种溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN1914561B
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN200580003633.7
申请日：2005-01-05
Abstract: 本发明公开了具有优异的光平版印刷性能的光刻胶组合物和具有优异的耐溶剂性，在电沉积金属过程中具有优异的对在镀覆的耐性，和具有优异的抗蚀剂剥离特性的硬化抗蚀剂膜。这些根据本发明的光刻胶组合物非常适用于制造MEMS和微电机设备的场合。根据本发明的这些光刻胶组合物包含一种或多种环氧化物取代的多羧酸树脂组分(A)，一种或多种光酸生成剂化合物(B)，和一种或多种溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN101208260A
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200680022865.1
申请日：2006-06-15
Applicant: 国立大学法人东北大学 , 日本化药株式会社
CPC classification number: F04D29/281 , B29C64/106 , B29C64/124 , B29L2031/7496 , B81C99/008 , F04D29/023 , F05D2230/31 , F05D2300/44
Abstract: 一种制造树脂的微型机器部件的方法，该方法包括以下步骤：(a)在基片上形成一层牺牲层；(b)在所述牺牲层上顺序形成至少两层光敏树脂组合物层，并对形成的各光敏树脂组合物层进行光刻，形成限定微型机器部件的周边部分的气隙部分和构成微型机器部件的内部结构的气隙部分，因而形成多层结构；(c)在固化的光敏树脂组合物层的多层结构上沉积干膜抗蚀剂，对所述干膜抗蚀剂层进行光刻，形成固化的干膜蚀刻层，其中，形成限定遮蔽层的周边部分的气隙部分和构成遮蔽层结构的气隙；和(d)通过去除所述牺牲层将所述微型机器部件与所述基片分离，所述微型机器部件具有固化光敏树脂组合物层和固化的干膜抗蚀剂层的多层结构。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1240741C
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：CN00805203.4
申请日：2000-03-15
Applicant: 日本化药株式会社
IPC: C08G18/67 , C08G59/14 , C08F290/06 , C08F299/06
CPC classification number: G03F7/0388 , C08F283/006 , C08F283/10 , C08F290/00 , C08F290/06 , C08F290/147 , C08G18/6254 , C08G18/672 , C08G18/683 , C08L63/10 , C09D175/04 , G03F7/027 , H05K3/287 , Y10S428/901 , Y10T428/24917 , Y10T428/31551 , C08G18/42 , C08L75/04
Abstract: 一种树脂和一种树脂组合物，其中每一种都可以用水稀释，并产生具有优良性能(可固化性、粘着性和耐水性)的固化产品；一种可以产生具有优良的柔韧性、焊接耐热性等性能的固化产品的树脂组合物，其能够使用一种有机溶剂或一种稀碱溶液进行显影，并适合用作耐焊蚀剂和绝缘夹层；一种光敏树脂组合物，其适合用作耐蚀剂和覆盖层；以及一种包含光敏树脂组合物的光敏膜。氨基甲酸乙酯低聚物(A)通过多元醇化合物(a)、每分子至少含有两个酸酐基团的多元酸酐(b)、聚异氰酸酯化合物(c)以及含有烯键式不饱和基团的羟基化合物反应制得。该树脂组合物含有(1)低聚物(A)，(2)至少一种选自不饱和多元羧酸(B)的树脂、反应性稀释剂(C-1)如(甲基)丙烯酸甲酯、非反应性稀释剂(C-2)如二甘醇一乙醚乙酸酯和热塑性聚合物(D)，(3)一种光聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN101208260B
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN200680022865.1
申请日：2006-06-15
Applicant: 国立大学法人东北大学 , 日本化药株式会社
CPC classification number: F04D29/281 , B29C64/106 , B29C64/124 , B29L2031/7496 , B81C99/008 , F04D29/023 , F05D2230/31 , F05D2300/44
Abstract: 一种制造树脂的微型机器部件的方法，该方法包括以下步骤：(a)在基片上形成一层牺牲层；(b)在所述牺牲层上顺序形成至少两层光敏树脂组合物层，并对形成的各光敏树脂组合物层进行光刻，形成限定微型机器部件的周边部分的气隙部分和构成微型机器部件的内部结构的气隙部分，因而形成多层结构；(c)在固化的光敏树脂组合物层的多层结构上沉积干膜抗蚀剂，对所述干膜抗蚀剂层进行光刻，形成固化的干膜蚀刻层，其中，形成限定遮蔽层的周边部分的气隙部分和构成遮蔽层结构的气隙；和(d)通过去除所述牺牲层将所述微型机器部件与所述基片分离，所述微型机器部件具有固化光敏树脂组合物层和固化的干膜抗蚀剂层的多层结构。
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公开(公告)号：CN1934498A
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：CN200580008836.5
申请日：2005-02-10
IPC: G03F7/038
Abstract: 一种永久的光致抗蚀剂组合物，其包括：(A)根据式I的一种或更多种双酚A－酚醛环氧树脂；其中：在式I中的每一基团R独立地选自缩水甘油基或氢，和在式I中的k是范围为0－约30的实数；(B)选自式BIIa和BIIb表示的基团中的一种或更多种环氧树脂；其中在式BIIa中的每一R1、R2和R3独立地选自氢或具有1－4个碳原子的烷基，和在BIIa中的数值p是范围为1－30的实数；在BIIb中的数值n和m独立地为范围是1－30的实数，以及在BIIb中的每一R4和R5独立地选自氢、具有1－4个碳原子的烷基或三氟甲基；(C)一种或更多种阳离子光引发剂(也称为光酸生成剂或PAG)；和(D)一种或更多种溶剂。
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公开(公告)号：CN1478284A
公开(公告)日：2004-02-25
申请号：CN01819630.6
申请日：2001-11-29
Applicant: 日本化药株式会社
IPC: H01B1/06 , C08F20/26 , C08F290/06 , H01M10/40
CPC classification number: H01G9/038 , H01B1/122 , H01G9/028 , H01G11/56 , H01M10/052 , H01M10/0565 , H01M2300/0082 , Y02E60/13
Abstract: 本发明提供具有高薄膜强度，离子电导率高和加工性优异的聚合物固体电解质，所述用于聚合物固体电解质的树脂组合物，该组合物包括0.5～5.0重量％的具有特殊结构的可固化树脂(A)、增塑剂(B)和电解质(C)。
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公开(公告)号：CN1344286A
公开(公告)日：2002-04-10
申请号：CN00805203.4
申请日：2000-03-15
Applicant: 日本化药株式会社
IPC: C08G18/67 , C08G59/14 , C08F290/06 , C08F299/06
CPC classification number: G03F7/0388 , C08F283/006 , C08F283/10 , C08F290/00 , C08F290/06 , C08F290/147 , C08G18/6254 , C08G18/672 , C08G18/683 , C08L63/10 , C09D175/04 , G03F7/027 , H05K3/287 , Y10S428/901 , Y10T428/24917 , Y10T428/31551 , C08G18/42 , C08L75/04
Abstract: 一种树脂和一种树脂组合物,其中每一种都可以用水稀释,并产生具有优良性能(可固化性、粘着性和耐水性)的固化产品;一种可以产生具有优良的柔韧性、焊接耐热性等性能的固化产品的树脂组合物,其能够使用一种有机溶剂或一种稀碱溶液进行显影,并适合用作耐焊蚀剂和绝缘夹层;一种光敏树脂组合物,其适合用作耐蚀剂和覆盖层;以及一种包含光敏树脂组合物的光敏膜。氨基甲酸乙酯低聚物(A)通过多元醇化合物(a)、每分子至少含有两个酸酐基团的多元酸酐(b)、聚异氰酸酯化合物(c)以及含有烯键式不饱和基团的羟基化合物反应制得。该树脂组合物含有(1)低聚物(A),(2)至少一种选自不饱和多元羧酸(B)的树脂、反应性稀释剂(C－1)如(甲基)丙烯酸甲酯、非反应性稀释剂(C－2)如二甘醇一乙醚乙酸酯和热塑性聚合物(D),和(3)一种光聚合引发剂。
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