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公开(公告)号：CN105765274B
公开(公告)日：2018-04-10
申请号：CN201580002751.X
申请日：2015-01-30
Applicant: 日本活塞环株式会社
CPC classification number: C23C14/0605 , C23C14/025 , C23C14/32 , C23C28/322 , C23C28/343 , C23C28/347 , F16J9/26
Abstract: 本发明的课题在于，提供一种活塞环及其制造方法，该活塞环具有耐磨损性和初期磨合性优异的硬质碳膜。而且，通过活塞环(10)解决上述课题，该活塞环(10)具有形成于活塞环基材(1)的至少外周滑动面(11)上的硬质碳膜(4)，该硬质碳膜(4)通过使电子能量损失谱法(EELS)与透射电子显微镜(TEM)组合的TEM－EELS光谱法测量的sp2成分比为40％以上且80％以下的范围内，且氢含量为0.1原子％以上且5原子％以下的范围内，显现于表面的大颗粒量以面积比例计为0.1％以上且10％以下的范围内。硬质碳膜(4)形成于在低速成膜条件下形成于活塞环基材(1)侧的硬质碳基底膜(3)上，硬质碳基底膜(3)以形成硬质碳膜(4)时的电弧电流值的80％以下的电弧电流值形成。
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公开(公告)号：CN105765274A
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：CN201580002751.X
申请日：2015-01-30
Applicant: 日本活塞环株式会社
CPC classification number: C23C14/0605 , C23C14/025 , C23C14/32 , C23C28/322 , C23C28/343 , C23C28/347 , F16J9/26
Abstract: 本发明的课题在于，提供一种活塞环及其制造方法，该活塞环具有耐磨损性和初期磨合性优异的硬质碳膜。而且，通过活塞环(10)解决上述课题，该活塞环(10)具有形成于活塞环基材(1)的至少外周滑动面(11)上的硬质碳膜(4)，该硬质碳膜(4)通过使电子能量损失谱法(EELS)与透射电子显微镜(TEM)组合的TEM－EELS光谱法测量的sp2成分比为40％以上且80％以下的范围内，且氢含量为0.1原子％以上且5原子％以下的范围内，显现于表面的大颗粒量以面积比例计为0.1％以上且10％以下的范围内。硬质碳膜(4)形成于在低速成膜条件下形成于活塞环基材(1)侧的硬质碳基底膜(3)上，硬质碳基底膜(3)以形成硬质碳膜(4)时的电弧电流值的80％以下的电弧电流值形成。
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公开(公告)号：CN107587107A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201710817318.2
申请日：2014-02-27
Applicant: 日本活塞环株式会社
Abstract: 本发明提供一种活塞环，其具有能够容易地在同一批次内形成，不会产生层间剥离，初始融合性及耐磨性优异的硬质碳被膜。一种硬质碳被膜，其形成于活塞环基材的至少外周滑动面上，实质上不含氢，所述硬质碳被膜利用使电子能量损失谱法(EELS)与透射型电子显微镜(TEM)组合成的TEM-EELS光谱法测定的sp2成分比为40％～80％，含有的大颗粒的硬质碳被膜表面的面积比为0.1％～10.0％。
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公开(公告)号：CN104903631B
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：CN201480003731.X
申请日：2014-02-27
Applicant: 日本活塞环株式会社
CPC classification number: F16J9/28 , C23C14/0605 , C23C14/325 , F16J9/26
Abstract: 本发明提供一种活塞环，其具有能够容易地在同一批次内形成，不会产生层间剥离，初始融合性及耐磨性优异的硬质碳被膜。一种硬质碳被膜，其形成于活塞环基材的至少外周滑动面上，实质上不含氢，所述硬质碳被膜利用使电子能量损失谱法(EELS)与透射型电子显微镜(TEM)组合成的TEM‑EELS光谱法测定的sp2成分比为40％～80％，含有的大颗粒的硬质碳被膜表面的面积比为0.1％～10.0％。
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公开(公告)号：CN107532717B
公开(公告)日：2019-05-28
申请号：CN201680025957.9
申请日：2016-07-29
Applicant: 日本活塞环株式会社
CPC classification number: F16J9/26 , C23C14/0605 , C23C14/325 , C23C28/04 , C23C28/046 , C23C28/048 , C23C28/44 , F02F5/00
Abstract: 提供一种活塞环，该活塞环具有成膜容易且耐磨损性优异的硬质碳膜。构成为具有形成于活塞环基材(1)的至少外周滑动面(11)上的硬质碳膜(4)，该硬质碳膜(4)是由多个层构成的层叠膜，在0.2×1022原子数/cm3以上且2.0×1022原子数/cm3以下的原子密度的范围内含有硼，从而解决所述课题。能够构成为，通过使透射式电子显微镜(TEM)与电子能量损失谱法(EELS)的组合TEM－EELS光谱法测定该硬质碳膜(4)的sp2成分比为40％以上且80％以下的范围内，氢含量为0.1原子％以上且5原子％以下的范围内。另外，能够构成为，该硬质碳膜(4)的合计厚度为0.5μm以上且20μm以下的范围内。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107532717A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680025957.9
申请日：2016-07-29
Applicant: 日本活塞环株式会社
CPC classification number: F16J9/26 , C23C14/0605 , C23C14/325 , C23C28/04 , C23C28/046 , C23C28/048 , C23C28/44 , F02F5/00
Abstract: 提供一种活塞环，该活塞环具有成膜容易且耐磨损性优异的硬质碳膜。构成为具有形成于活塞环基材(1)的至少外周滑动面(11)上的硬质碳膜(4)，该硬质碳膜(4)是由多个层构成的层叠膜，在0.2×1022原子数/cm3以上且2.0×1022原子数/cm3以下的原子密度的范围内含有硼，从而解决所述课题。能够构成为，通过使透射式电子显微镜(TEM)与电子能量损失谱法(EELS)的组合TEM－EELS光谱法测定该硬质碳膜(4)的sp2成分比为40％以上且80％以下的范围内，氢含量为0.1原子％以上且5原子％以下的范围内。另外，能够构成为，该硬质碳膜(4)的合计厚度为0.5μm以上且20μm以下的范围内。
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公开(公告)号：CN119256175A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202380040628.1
申请日：2023-09-22
Applicant: 日本活塞环株式会社
Abstract: 技术问题在于提供呈现耐崩裂性和耐磨损性且耐剥离性优异，能够实现摩擦的降低，特别是不容易产生缺损、龟裂，能够以高生产率实现均质化和厚膜化的新的滑动部件等。通过以下方案解决上述技术问题，滑动部件(10)在基材(11)上的滑动面(16)具有包覆膜(1)，包覆膜(1)具有多个层叠部(3)和在各层叠部(3)之间设置的碳层(4)，对于层叠部(3)来说，在利用明视场TEM像观察截面时，在厚度方向(Y)上层叠有呈现相对黑色或偏黑色的黑色的硬质碳层(B)与呈现相对白色或偏白色的白色的硬质碳层(W)的反复单位(2)，碳层(4)具有柱状组织(4c)。优选层叠部(3)的厚度在2～9μm的范围内，包覆膜(1)的厚度在4～40μm的范围内。
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公开(公告)号：CN107587107B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：CN201710817318.2
申请日：2014-02-27
Applicant: 日本活塞环株式会社
Abstract: 本发明提供一种活塞环，其具有能够容易地在同一批次内形成，不会产生层间剥离，初始融合性及耐磨性优异的硬质碳被膜。一种硬质碳被膜，其形成于活塞环基材的至少外周滑动面上，实质上不含氢，所述硬质碳被膜利用使电子能量损失谱法(EELS)与透射型电子显微镜(TEM)组合成的TEM‑EELS光谱法测定的sp2成分比为40％～80％，含有的大颗粒的硬质碳被膜表面的面积比为0.1％～10.0％。
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公开(公告)号：CN107614944B
公开(公告)日：2019-07-23
申请号：CN201680025542.1
申请日：2016-07-29
Applicant: 日本活塞环株式会社
CPC classification number: F16J9/26 , C23C14/0605 , C23C14/325 , C23C14/54 , F02F5/00
Abstract: 提供一种具有成膜容易且密合性与耐磨损性优异的硬质碳膜的活塞环以及其制造方法。通过如下活塞环，解决了所述课题：具有形成于活塞环基材(1)的至少外周滑动面(11)上的硬质碳膜(50)，该硬质碳膜(50)是由多个层构成的层叠膜，具有层叠间距为3nm以上50nm以下的范围内的上层(5)、层叠间距比上层(5)小的中间层(4)、以及层叠间距为与上层(5)相同的范围内且比中间层(4)大的下层(3)。能够构成为，通过使透射式电子显微镜(TEM)与电子能量损失谱法(EELS)组合的TEM－EELS光谱法测定该硬质碳膜50的sp2成分比为35％以上且80％以下的范围内，氢含量为0.1原子％以上且5原子％以下的范围内。
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公开(公告)号：CN107614944A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680025542.1
申请日：2016-07-29
Applicant: 日本活塞环株式会社
CPC classification number: F16J9/26 , C23C14/0605 , C23C14/325 , C23C14/54 , F02F5/00
Abstract: 提供一种具有成膜容易且密合性与耐磨损性优异的硬质碳膜的活塞环以及其制造方法。通过如下活塞环，解决了所述课题：具有形成于活塞环基材(1)的至少外周滑动面(11)上的硬质碳膜(50)，该硬质碳膜(50)是由多个层构成的层叠膜，具有层叠间距为3nm以上50nm以下的范围内的上层(5)、层叠间距比上层(5)小的中间层(4)、以及层叠间距为与上层(5)相同的范围内且比中间层(4)大的下层(3)。能够构成为，通过使透射式电子显微镜(TEM)与电子能量损失谱法(EELS)组合的TEM－EELS光谱法测定该硬质碳膜50的sp2成分比为35％以上且80％以下的范围内，氢含量为0.1原子％以上且5原子％以下的范围内。
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