公开(公告)号：CN106687864B

公开(公告)日：2020-07-03

申请号：CN201580050226.5

申请日：2015-11-25

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 加藤哲也 ,  岩下健一 ,  中村彰宏 ,  中野昭夫 ,  小野裕

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  H05K3/18

Abstract: 本发明的感光性树脂组合物含有：具有酚性羟基的树脂；光敏性产酸剂；具有选自芳香环、杂环及脂环中的至少1种以及选自羟甲基及烷氧基烷基中的至少1种的化合物；以及具有2个以上的选自丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、缩水甘油基氧基、氧杂环丁烷基烷基醚基、乙烯基醚基及羟基中的至少1种官能团的脂肪族化合物，所述光敏性产酸剂是含有具有选自四苯基硼酸盐骨架、碳数为1～20的烷基磺酸盐骨架、苯基磺酸盐骨架及10‑樟脑磺酸盐骨架中的至少1种骨架的阴离子的锍盐。

公开(公告)号：CN106716250A

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201580050284.8

申请日：2015-11-25

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 加藤哲也 ,  岩下健一 ,  中村彰宏 ,  中野昭夫 ,  小野裕

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  H05K3/18

CPC classification number: G03F7/0212 ,  C08G8/08 ,  C08G8/20 ,  C08L61/06 ,  C08L63/04 ,  G03F7/038 ,  H01B1/128 ,  H01L21/02118 ,  H05K3/4682 ,  C08K3/36 ,  C08K5/55 ,  C08L63/00

Abstract: 本发明的感光性树脂组合物含有：具有酚性羟基的树脂；光敏性产酸剂；具有选自芳香环、杂环及脂环中的至少1种及选自羟甲基及烷氧基烷基中的至少1种的化合物；具有2个以上的选自丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、缩水甘油基氧基、氧杂环丁烷基烷基醚基、乙烯基醚基及羟基中的至少1种官能团的脂肪族化合物；以及具有选自蒽骨架、菲骨架、芘骨架、苝骨架、咔唑骨架、吩噻嗪骨架、呫吨酮骨架、噻吨酮骨架、吖啶骨架、苯基吡唑啉骨架、二苯乙烯基苯骨架及二苯乙烯基吡啶骨架中的至少1种骨架的化合物或者二苯甲酮化合物。

公开(公告)号：CN102318042B

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：CN201080007580.7

申请日：2010-02-12

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 小野裕 ,  筱田隆 ,  冈田悠平

IPC: C09K3/14 ,  C09G1/02 ,  H01L21/768 ,  H01L21/321

CPC classification number: H01L21/3212 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/7684 ,  H01L21/76898

Abstract: 铜研磨用研磨剂，其含有(A)二元以上的无机酸、(B)氨基酸、(C)保护膜形成剂、(D)磨粒、(E)氧化剂和(F)水，(A)成分的含量为0.08摩尔/千克以上，(B)成分的含量为0.20摩尔/千克以上，(C)成分的含量为0.02摩尔/千克以上，满足下述(i)和(ii)的至少一者。(i)(A)成分的含量与(C)成分的含量的比率为2.00以上。(ii)还含有(G)选自有机酸及其酸酐中的至少一种。

公开(公告)号：CN102690605B

公开(公告)日：2015-01-21

申请号：CN201210135053.5

申请日：2010-02-12

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 小野裕 ,  筱田隆 ,  冈田悠平

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/3212 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/7684 ,  H01L21/76898

Abstract: 铜研磨用研磨剂，其含有(A)二元以上的无机酸、(B)氨基酸、(C)保护膜形成剂、(D)磨粒、(E)氧化剂和(F)水，(A)成分的含量为0.08摩尔/千克以上，(B)成分的含量为0.20摩尔/千克以上，(C)成分的含量为0.02摩尔/千克以上，满足下述(i)和(ii)的至少一者。(i)(A)成分的含量与(C)成分的含量的比率为2.00以上。(ii)还含有(G)选自有机酸及其酸酐中的至少一种。

公开(公告)号：CN110291619A

公开(公告)日：2019-09-27

申请号：CN201880010057.6

申请日：2018-01-23

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 小野裕 ,  水谷真人

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 一种研磨液，其为用于研磨包含钨材料的被研磨面的研磨液，所述研磨液含有磨粒、末端具有阳离子性基团的聚合物、氧化剂、氧化金属溶解剂和水，上述聚合物具有来源于不饱和羧酸的结构单元，上述聚合物的重均分子量在20000以下，所述研磨液的pH小于5.0。

公开(公告)号：CN106687864A

公开(公告)日：2017-05-17

申请号：CN201580050226.5

申请日：2015-11-25

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 加藤哲也 ,  岩下健一 ,  中村彰宏 ,  中野昭夫 ,  小野裕

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  H05K3/18

Abstract: 本发明的感光性树脂组合物含有：具有酚性羟基的树脂；光敏性产酸剂；具有选自芳香环、杂环及脂环中的至少1种以及选自羟甲基及烷氧基烷基中的至少1种的化合物；以及具有2个以上的选自丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、缩水甘油基氧基、氧杂环丁烷基烷基醚基、乙烯基醚基及羟基中的至少1种官能团的脂肪族化合物，所述光敏性产酸剂是含有具有选自四苯基硼酸盐骨架、碳数为1～20的烷基磺酸盐骨架、苯基磺酸盐骨架及10‑樟脑磺酸盐骨架中的至少1种骨架的阴离子的锍盐。

公开(公告)号：CN102834479B

公开(公告)日：2015-02-18

申请号：CN201180017611.1

申请日：2011-06-06

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 小野裕 ,  筱田隆 ,  冈田悠平

IPC: H01L21/321

CPC classification number: C09K3/1463 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  H01L21/3212 ,  H01L21/7684 ,  H01L21/76898

Abstract: 本发明的铜研磨用研磨液含有第1有机酸成分、无机酸成分、氨基酸、保护膜形成剂、磨粒、氧化剂和水，所述第1有机酸成分是选自具有羟基的有机酸、该有机酸的盐及该有机酸的酸酐中的至少一种，所述无机酸成分是选自2价以上的无机酸及该无机酸的盐中的至少一种，以铜研磨用研磨液整体为基准计，无机酸成分以无机酸换算的含量为0.15质量%以上，氨基酸的含量为0.30质量%以上，保护膜形成剂的含量为0.10质量%以上，第1有机酸成分以有机酸换算的含量相对于保护膜形成剂的含量的比率为1.5以上。