公开(公告)号：CN103497732B

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：CN201310335499.7

申请日：2011-11-21

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋 ,  成田武宪 ,  龙崎大介

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09K13/12 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

Abstract: 本实施方式涉及的研磨液含有磨粒、添加剂和水，磨粒满足下述条件（a）或（b）中的至少任意一个。（a）在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。（b）在磨粒的含量被调节至0.0065质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长290nm的光的吸光度在1.000以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。

公开(公告)号：CN102666014B

公开(公告)日：2017-10-31

申请号：CN201180005050.3

申请日：2011-01-20

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋 ,  秋元启孝 ,  成田武宪 ,  木村忠广 ,  龙崎大介

IPC: B24B37/04 ,  C09K3/14 ,  H01L21/3105

CPC classification number: C09K3/1463 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明涉及的悬浮液，含有磨粒和水，磨粒含有4价氢氧化铈粒子，且在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中，对于波长500nm的光有50%/cm以上的光透过率。本发明涉及的研磨液，含有磨粒、添加剂和水，磨粒含有4价氢氧化铈粒子，且在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中，对于波长500nm的光有50%/cm以上的光透过率。

公开(公告)号：CN103497733B

公开(公告)日：2016-11-23

申请号：CN201310335723.2

申请日：2011-11-21

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋 ,  成田武宪 ,  龙崎大介

IPC: C09K3/14 ,  C09G1/02

CPC classification number: C09K13/12 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

Abstract: 本实施方式涉及的研磨液含有磨粒、添加剂和水，磨粒满足下述条件（a）或（b）中的至少任意一个。（a）在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。（b）在磨粒的含量被调节至0.0065质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长290nm的光的吸光度在1.000以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。

公开(公告)号：CN102627914B

公开(公告)日：2014-10-29

申请号：CN201210074729.4

申请日：2010-09-14

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 龙崎大介 ,  成田武宪 ,  星阳介 ,  岩野友洋

IPC: H01L21/304 ,  C09G1/02 ,  H01L21/3105

CPC classification number: C09K3/1463 ,  B24B1/00 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明提供研磨剂、浓缩一液式研磨剂、二液式研磨剂、基板研磨法。一种研磨剂用于形成有被研磨膜的基板的研磨的应用，所述研磨剂含有：4价金属氢氧化物粒子，阳离子化聚乙烯醇，选自由氨基糖、该氨基糖的衍生物、具有氨基糖的多糖类以及该多糖类的衍生物所组成的组的至少一种糖类，以及水。

公开(公告)号：CN107474799A

公开(公告)日：2017-12-15

申请号：CN201710791020.9

申请日：2011-01-20

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋 ,  秋元启孝 ,  成田武宪 ,  木村忠广 ,  龙崎大介

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09K3/1463 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明涉及的悬浮液，含有磨粒和水，磨粒含有4价氢氧化铈粒子，且在将该磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，对于波长500nm的光有50％/cm以上的光透过率。本发明涉及的研磨液，含有磨粒、添加剂和水，磨粒含有4价氢氧化铈粒子，且在将该磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，对于波长500nm的光有50％/cm以上的光透过率。

公开(公告)号：CN103500706A

公开(公告)日：2014-01-08

申请号：CN201310335599.X

申请日：2011-11-21

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋 ,  成田武宪 ,  龙崎大介

IPC: H01L21/304 ,  C09K3/14 ,  B24B37/00

CPC classification number: C09K13/12 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

Abstract: 本实施方式涉及的研磨液含有磨粒、添加剂和水，磨粒满足下述条件（a）或（b）中的至少任意一个。（a）在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。（b）在磨粒的含量被调节至0.0065质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长290nm的光的吸光度在1.000以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。

公开(公告)号：CN103497732A

公开(公告)日：2014-01-08

申请号：CN201310335499.7

申请日：2011-11-21

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋 ,  成田武宪 ,  龙崎大介

IPC: C09K3/14

CPC classification number: C09K13/12 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

Abstract: 本实施方式涉及的研磨液含有磨粒、添加剂和水，磨粒满足下述条件（a）或（b）中的至少任意一个。（a）在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。（b）在磨粒的含量被调节至0.0065质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长290nm的光的吸光度在1.000以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。

公开(公告)号：CN103222035A

公开(公告)日：2013-07-24

申请号：CN201180055796.5

申请日：2011-11-21

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋 ,  成田武宪 ,  龙崎大介

IPC: H01L21/304 ,  C09K3/14 ,  B24B37/00

CPC classification number: C09K13/12 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

Abstract: 本实施方式涉及的研磨液含有磨粒、添加剂和水，磨粒满足下述条件(a)或(b)中的至少任意一个。(a)在磨粒的含量被调节至1.0质量％的水分散液中，使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量％的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50％/cm以上。(b)在磨粒的含量被调节至0.0065质量％的水分散液中，使该水分散液对于波长290nm的光的吸光度在1.000以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量％的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50％/cm以上。

公开(公告)号：CN103222035B

公开(公告)日：2016-09-21

申请号：CN201180055796.5

申请日：2011-11-21

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋 ,  成田武宪 ,  龙崎大介

IPC: H01L21/304 ,  C09K3/14 ,  B24B37/00

CPC classification number: C09K13/12 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

Abstract: 本实施方式涉及的研磨液含有磨粒、添加剂和水，磨粒满足下述条件(a)或(b)中的至少任意一个。(a)在磨粒的含量被调节至1.0质量％的水分散液中，使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量％的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50％/cm以上。(b)在磨粒的含量被调节至0.0065质量％的水分散液中，使该水分散液对于波长290nm的光的吸光度在1.000以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量％的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50％/cm以上。

公开(公告)号：CN103497733A

公开(公告)日：2014-01-08

申请号：CN201310335723.2

申请日：2011-11-21

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋 ,  成田武宪 ,  龙崎大介

IPC: C09K3/14 ,  C09G1/02

CPC classification number: C09K13/12 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

Abstract: 本实施方式涉及的研磨液含有磨粒、添加剂和水，磨粒满足下述条件（a）或（b）中的至少任意一个。（a）在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。（b）在磨粒的含量被调节至0.0065质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长290nm的光的吸光度在1.000以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。